• Title/Summary/Keyword: etching solution.

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Epigallocatechin-3-gallate prior to composite resin in abfraction lesions: a split-mouth randomized clinical trial

  • Luisa Valente Gotardo Lara Alves;Lisiane Martins Fracasso;Thiago Vinicius Cortez;Aline Evangelista Souza-Gabriel;Silmara Aparecida Milori Corona
    • Restorative Dentistry and Endodontics
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    • 제48권2호
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    • pp.13.1-13.11
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    • 2023
  • Objectives: Natural extracts have been investigated as a biomimetic strategy to mechanically strengthen the collagen network and control the biodegradation of extracellular matrix. This study evaluated the effect of epigallocatechin-3-gallate (EGCG) on abfraction lesions prior to the composite resin. Materials and Methods: The sample consisted of 30 patients (aged between 28 and 60 years) with abfraction lesions located in 2 homologous premolars. The teeth were randomly assigned according to dentin treatment: 0.02% EGCG solution or distilled water (control). After enamel acid etching, the solutions were applied immediately for 1 minute. The teeth were restored with Universal Adhesive (3M) and Filtek Z350 XT (3M). Analyzes were done by 2 independent examiners using modified USPHS (retention, secondary caries, marginal adaptation, and postoperative sensitivity) and photographic (color, marginal pigmentation, and anatomical form) criteria at baseline (7 days) and final (18 months). The data analysis used Friedman and Wilcoxon signed-rank tests (α = 0.05). Results: At baseline, all restorations were evaluated as alpha for all criteria. After 18 months, restorations were evaluated as alpha for secondary caries, color, and marginal pigmentation. There was significant difference between baseline and 18 months (p = 0.009) for marginal adaptation and postoperative sensitivity (p = 0.029), but no significant difference were verified between treatments (p = 0.433). The EGCG group had a restoration retention rate of 93.3%, while the control group had 96.7%. Conclusions: The application of EGCG solution on abfraction lesions did not significantly influence the survival of the restorations based on clinical and photographic criteria.

S-PRG 필러를 포함하는 치면열구전색제의 전단결합강도 및 미세누출 (Shear Bond Strength and Microleakage of a New Self-etch Sealant Containing S-PRG filler)

  • 안진선;이주현;서현우;박호원
    • 대한소아치과학회지
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    • 제43권4호
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    • pp.347-353
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    • 2016
  • 본 연구의 목적은 S-PRG 필러를 포함하는 치면열구전색제(BeautiSealant)의 법랑질 전단결합강도 및 미세누출을 평가함에 있다. 45개의 소구치를 실험대상으로 사용하였으며, 자가부식 프라이머 도포 후 BeautiSealant를 적용한 군(SEPBS), 인산 부식 후 BeautiSealant를 적용한 군(AEBS), 인산 부식 후 $Clinpro^{TM}$ sealant를 적용한 군(AECP)으로 나누어 실험하였다. 전단결합강도 측정을 위해 치면열구전색제 블록을 법랑질 표면에 적용하였고, 미세누출을 평가하기 위해 소구치의 소와열구에 치면열구전색제를 도포하였다. 전단결합강도와 관련하여 SEPBS군은 AEBS, AECP군에 비해 유의하게 낮은 값을 보였으나(p < 0.05), AEBS군과 AECP군 사이에는 통계적으로 유의한 차이가 존재하지 않았다. 미세누출과 관련하여 3군 사이에 통계적으로 유의한 차이가 존재하지 않았다.

WC-Co계 미세조직에 따른 CVD 다이아몬드 코팅막의 접착력 변화 (Dependence of the Diamond Coating Adhesion on the Microstructure of WC-Co Substrates)

  • 이동범;채기웅
    • 한국세라믹학회지
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    • 제41권10호
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    • pp.728-734
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    • 2004
  • 평균입자크기가 서로 다른 WC-Co계 모재위에 고온 열처리법과 화학적 에칭방법을 이용하여 다이아몬드 막을 코팅하고 압흔법을 통해 그 접착력(adhesion strength)을 평가하였다. $1450^{\circ}C$의 고온 열처리 방법에 의해 준비된 WC-Co 시편표면에서는 WC 입자가 성장하였으며, 그 결과 20$\mu$m 이상의 다이아몬드 막이 증착된 경우에도 100kg의 하중에서도 우수한 접착력이 얻어졌다. 그러나, 모재 표면입자의 과도한 입성장으로 시편 인선부에는 변형이 발생하였으며, 증착된 다이아몬드 막은 거친 표면조도를 보였다. 이와 비교하여, 화학적 부식의 경우에는 submicron 크기의 WC 입자를 제외하고, 2$\mu$m 이상의 WC 입자를 가지는 모재를 이용하여 10$\mu$m의 다이아몬드 코팅막을 증착시킨 경우에는, 60kg의 하중에서도 양호한 접착력이 유지되었다 특히, WC 입자가 클수록 접착력의 신뢰성이 대폭 향상되었다. 이는 수 $\mu$m 이내의 비교적 얇은 두께의 다이아몬드 막을 증착하는 경우 화학적 에칭방법이 시편 형상의 변형을 방지하고, 양호한 표면조도를 얻을 수 있어 고온 열처리 방식에 비해 효과적임을 의미한다.

상아질 접착제의 미세누출과 변연부 혼화층 (MICROLEAKAGE AND MARGINAL HYBRID LAYER OF DENTIN ADHESIVES)

  • 조영곤;김영관;안종모
    • Restorative Dentistry and Endodontics
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    • 제27권1호
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    • pp.34-43
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    • 2002
  • The purpose of this study was to compare microleakage and marginal hybrid layer in class V restorations using two one-bottle adhesives and one self-etching adhesive. Class V cavity preparations with occlusal margins in enamel and gingival margins in dentin were pre-pared on buccal and lingual surfaces of 30 extracted human molar teeth. Prepared teeth were randomly divided into three treatment groups (n=30) and restored with three adhesives and composites: Single Bond/Filtek Z-250 (Group 1), Prime&BondNT/Esthet.X (Group 2), UniFil Bond/UniFil F (Group 3). For microleakage, samples were stored in room temperature water for 24 hours, thermocycled stained with 2% methylene blue dye, sectioned into halves, scored and analysed using Mann-whitney test and Wilcoxon signed rank sum test. For marginal hybrid layer, samples were sectioned into halves, treated with 10% phosphoric acid for 5 seconds, stored in 5% NaOCL solution for 24 hours, dried and gold coated. Occlusal and gingival margins of each sample were inspected under SEM. The results of this study were as follows ; 1. Microleakage at the occlusal margins was not evident in group 1 and group 2, but it showed in group 3 (p<0.05). 2. Microleakage in group 1 and group 3 was significantly lower than in group 2 at gingival margins (p<0.05). 3. Microleakage at gingival margins was greater than at occlusal margins in group 1 and group 2, but microleakage at occlusal margins was greater than at gingival margins in group 3 (p<0.05). 4. In group 1 and group 2, no gaps at occlusal margins showed. But gaps showed in group 3. Occlusal margins were free from a hybrid layer in all groups 5. The thickness of the marginal hybrid layers was 2.5~5 $\mu\textrm{m}$ thick in group 5 $\mu\textrm{m}$ thick in group 2 and 1.5 $\mu\textrm{m}$ thick in group 3. 6 There was no corelation between microleakage and thickness of marginal hybrid layer. In coclusion, the effect of dentin adhesives on microleakge in class V composite restorations was excellent when one-bottle adhesives were applied on enamel margin, and it was good when a self-etching adhesive was applied on dentinal margin. There was no corelation between microleakage and thickness of marginal hybrid layer.

$NH_4OH-H_2O_2-H_2O$ 혼합액을 이용한 GaAS의 습식식각 특성 연구 및 이를 이용한 부유된 사각형 단면을 가지는 GaAs 미세구조물의 제작 방법 (Wet-etching Properties of GaAs Using $NH_4OH-H_2O_2-H_2O$ Mixed Solution and Its Application to Fabrication Method for Released GaAs Microstructures with Rectangular Cross Section)

  • 김종팔;박상준;백승준;김세태;구치완;이승기;조동일
    • 센서학회지
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    • 제10권5호
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    • pp.304-313
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    • 2001
  • 본 연구에서는 $NH_4OH-H_2O_2-H_2O$ 식각액을 이용하여 GaAs의 식각 특성을 파악하였으며, (001) GaAs 기판을 이용한 사각형 단면을 가지는 GaAs 미세구조물의 제작방법을 개발하였다. 먼저 결정방향별 습식식각 특성을 파악하기 위해 16가지 조성에 대한 $NH_4OH-H_2O_2-H_2O$ 식각액의 식각률 및 식각 단면 형상과 5가지 조성에 대한 언더컷률에 관한 자료를 구하였다. 본 실험을 통해 얻어진 데이터를 이용하여 새로운 GaAs 마이크로머시닝 방법을 제시하고, 이를 이용하여 사각형 단면을 가지는 브리지 형태의 부유된 구조물을 제작하였다. 개발된 빔 부유 공정은 RF 구성요소인 저 손실 및 고가변 정전용량기 제작에 유용하며, 또한 광송수신부와 미러 집적화에도 적용가능성을 지닌다.

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고효율 실리콘 태양전지를 위한 lotus surface 구조의 형성 (Formation of lotus surface structure for high efficiency silicon solar cell)

  • 정현철;백용균;김효한;음정현;최균;김형태;장효식
    • 한국결정성장학회지
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    • 제20권1호
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    • pp.7-11
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    • 2010
  • 단결정 실리콘 태양전지의 광학적 손실을 감소시키는 표면 텍스쳐링은 최종 셀의 효율을 향상시키기 위하여 매우 중요하다. 본 연구에서는 2-step texturing의 공정으로 기존의 텍스쳐링에서 이루어진 피라미드에 수 많은 sub-micrometer 사이즈의 구조를 형성시켰다. $AgNO_3$ 용액으로 웨이퍼 표면에 Ag코팅을 한 후, 그 웨이퍼를 다시 HF/$H_2O_2$ 용액으로 수십초 동안 식각을 거치게 된다. 결과적으로, 피라미드 위에 생성된 수 nm사이즈의 구조물들은 $AgNO_3$의 농도 및 식각 시간의 변화에 의해 그 크기와 굵기가 변화하는 것을 알 수 있었다. 웨이퍼의 표면이 2-step texturing에 의해 식각이 이루어지면 연잎의 거친 표면과 비슷해지고, 그 결과 평균 10% 이상의 반사율을 보이던 기존 웨이퍼에서 3% 이하의 낮은 반사율을 얻을 수 있었다. 이는 일반적인 텍스쳐링과 anti-reflection coating을 거친 웨이퍼의 반사율보다 낮은 결과이다.

임플랜트의 표면처리 방법이 골유착에 미치는 영향에 관한 연구 (THE EFFECT OF VARIOUS SURFACE TREATMENT METHODS ON THE OSSEOINTEGRATION)

  • 최정원;김광남;허성주;장익태;한종현;백홍구;최용창
    • 대한치과보철학회지
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    • 제39권1호
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    • pp.71-83
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    • 2001
  • The purpose of this study was to compare the effects of various surface treatments by measuring removal torque on bone healing around titanium implants. 40 Screw-shaped cp titanium implants with length of 4mm, outer diameter of 3.75mm, and pitch-height of 0.5mm were used Group 1 was left as machined(control), Group 2 was blasted with $50{\mu}m\;Al_2O_3$, group 3 was blasted and etched in etching solution($NH_4OH : H_2O_2:H_2O= 1 : 1 : 5$) at $90^{\circ}C$ for 1 minute group 4 was blasted and oxidated under pure oxygen at $800^{\circ}C$. The implant surface roughness was analyzed with SEM and CLSM(Confocal Laser Scanning Microscope) and implants were placed in proximal tibial metaphysis of 10 New Zealand White rabbits. After 3 months of healing period, removal torque of each implant was measured to compare bone healing around implant. The results obtained were as follows 1. In SEM view, blasting increased the roughness of the surface, but etching of that rough surface decreased the roughness due to the removal of the tip of the peak. Oxidation also decreased the roughness due to formation of needle-like oxide grains on the implant surface. 2. The Sa value from CLSM was least in the machined group($0.47{\mu}m$), greatest in blasted group($1.25{\mu}m$), and the value decreased after etching($0.91{\mu}m$) and oxidation($0.94{\mu}m$). 3. The removal torque of etched group(24.5Ncm) was greater than that of machined group(16.7Ncm) (P<0.05), and was greatest in the oxidated group(40.3Ncm) and the blasted group(34.7Ncm).

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삭제기구가 자가 산부식 접착제의 미세누출에 미치는 영향 (EFFECT OF MICROLEAKAGE OF A SELF-ETCHING PRIMER ADHESIVE ACCORDING TO TYPES OF CUTTING INSTRUMENTS)

  • 김용희;박재구;조영곤
    • Restorative Dentistry and Endodontics
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    • 제32권4호
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    • pp.327-334
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    • 2007
  • 이 연구는 서로 다른 카바이드 버와 다이아몬드 버로 5급 와동을 형성 한 후 SE primer 접착 시스템인 Clearfil SE Bond를 이용한 복합레진 수복 시 버의 종류에 따른 법랑질과 상아질 변연에서의 미세누출 차이를 상호 비교하기 위하여 시행하였다. 4종의 삭제기구를 이용하여 각각 10개의 발거된 대구치의 협면 치경부에 5급 와동을 형성하였다. 1군은 plain-cut carbide fissure bur (no. 245)를 사용한 군, 2군은 cross-cut carbide fissure bur (no. 557)를 사용한 군, 3군은 fine diamond bur (TF-21F: 입자크기 $53\;-\;63\;{\mu}m$)를 사용한 군, 4군은 standard diamond bur (EX-41: 입자크기 $106\;-\;205\;{\mu}m$)를 사용한 군으로 분류하였다. 형성된 와동에 Clearfil SE Bond의 Primer와 Bond를 적용하고 Clearfil AP-X 복합레진을 충전하여 광중합한 후, Sof-Lex disc를 이용하여 마무리와 연마를 시행하였다. 수복된 치아를 2% methylene blue 용액에 24시간 동안 침적시킨 후 각 군의 치아를 협설로 절단하여 광학 입체현미경 하에서 법랑질과 상아질 변연에서의 미세누출 점수를 평가하여 다음과 같은 결과를 얻었다. Clearfil SE Bond와 복합레진을 이용한 5급 와동 수복 시 거친 다이아몬드 버의 사용은 카바이드 버나 미세한 다이아몬드 버에 비해 법랑질과 상아질 변연 모두에서 높은 미세누출을 나타내었다.

All Solution processed BiVO4/WO3/SnO2 Heterojunction Photoanode for Enhanced Photoelectrochemical Water Splitting

  • Baek, Ji Hyun;Lee, Dong Geon;Jin, Young Un;Han, Man Hyung;Kim, Won Bin;Cho, In Sun;Jung, Hyun Suk
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.417-417
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    • 2016
  • Global environmental deterioration has become more serious year by year and thus scientific interests in the renewable energy as environmental technology and replacement of fossil fuels have grown exponentially. Photoelectrochemical (PEC) cell consisting of semiconductor photoelectrodes that can harvest light and use this energy directly to split water, also known as photoelectrolysis or solar water splitting, is a promising renewable energy technology to produce hydrogen for uses in the future hydrogen economy. A major advantage of PEC systems is that they involve relatively simple processes steps as compared to many other H2 production systems. Until now, a number of materials including TiO2, WO3, Fe2O3, and BiVO4 were exploited as the photoelectrode. However, the PEC performance of these single absorber materials is limited due to their large charge recombinations in bulk, interface and surface, leading low charge separation/transport efficiencies. Recently, coupling of two materials, e.g., BiVO4/WO3, Fe2O3/WO3 and CuWO4/WO3, to form a type II heterojunction has been demonstrated to be a viable means to improve the PEC performance by enhancing the charge separation and transport efficiencies. In this study, we have prepared a triple-layer heterojunction BiVO4/WO3/SnO2 photoelectrode that shows a comparable PEC performance with previously reported best-performing nanostructured BiVO4/WO3 heterojunction photoelectrode via a facile solution method. Interestingly, we found that the incorporation of SnO2 nanoparticles layer in between WO3 and FTO largely promotes electron transport and thus minimizes interfacial recombination. The impact of the SnO2 interfacial layer was investigated in detail by TEM, hall measurement and electrochemical impedance spectroscopy (EIS) techniques. In addition, our planar-structured triple-layer photoelectrode shows a relatively high transmittance due to its low thickness (~300 nm), which benefits to couple with a solar cell to form a tandem PEC device. The overall PEC performance, especially the photocurrent onset potential (Vonset), were further improved by a reactive-ion etching (RIE) surface etching and electrocatalyst (CoOx) deposition.

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PSG 희생층 식각시 Al층을 보호하기 위한 새로운 HF/$NH_4F$/Glycerine 혼합 식각액 (A New HF/$NH_4F$/Glycerine Aqueous Solution for Protection of Al Layers During Sacrificial Etching of PSG Films)

  • 김성운;백승준;김임정;이승기;조동일
    • 센서학회지
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    • 제8권5호
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    • pp.414-420
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    • 1999
  • 희생층을 제거하는 기술은 표면 마이크로머시닝 공정의 핵심기술중 하나이다. 그러나 희생층을 제거하는데 널리 쓰이는 BHF 용액을 포함한 HF 수용액은 희생층 제거시 금속층으로 쓰이는 알루미늄도 같이 식각하는 것으로 알려져 있다. 기존의 문헌에서 $NH_4F$:HF:glycerine=4:1:2의 비를 갖는 혼합 용액이 알루미늄과 PSG 간의 식각 선택비가 최적조건으로 제시되었지만 이 희생층 식각액 또한 상당한 알루미능 식각률을 가지고 있다. 본 논문에서는 HF, $NH_4F$, glycerine의 농도를 광범위하게 변화시켜 희생층 제거에 필요한 최적 혼합비를 개발하였으며 그 결과 $NH_4F$:HF:glycerine=2:1:4의 혼합비에서 약 7,700정도의 PSG와 Al의 식각 선택비를 가져 기존의 최적 식각 선택비보다 차수가 약 6배정도 향상된 희생층 식각액을 얻을 수 있었다. 이 조건에서 PSG의 식각률은 희생층 제거시 충분히 빠른 값인 약 $2.1\;{\mu}m/min$을 나타내었다. 이러한 개발된 희생층 식각액은 표면 마이크로머시닝 공정에서 알루미늄 금속 공정의 추가를 용이하게 한다.

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