규소(III) 단 결정에 진공 증착한 닉켈과 금 박막에서 $NiSi_2$ 의 적층성장
(Epitaxial Growth of Nickel Silicide $(NiSi_2)$ in Vacuum Deposited Nickel and Gold Films on (III) Silicon Single Crystals)
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- 한국세라믹학회지
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- 제13권3호
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- pp.55-62
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- 1976