전자상자성공명을 이용한 $Poly-Si/SiO_2$ 박막의 결함연구 : 플라즈마 수소화처리에 따른 결함밀도의 변화
(A Study of Defects in $Poly-Si/SiO_2$ Thin Films Using Electron Paramagnetic Resonance : Defect Density Changes due to Plasma Hydrogenation Treatment)
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- 한국자기학회지
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- 제8권6호
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- pp.346-349
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- 1998