Reactive ion etching of InP using $BCl_3/O_2/Ar$ inductively coupled plasma
($BCl_3/O_2/Ar$ 유도결합 플라즈마를 이용한 InP의 건식 식각에 관한 연구)
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- Journal of the Korean Vacuum Society
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- v.8 no.4B
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- pp.541-547
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- 1999