• 제목/요약/키워드: chemical cleaning

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BTL(Biomass to Liquid) 기술 현황 (Development Status of BTL (Biomass to Liquid) Technology)

  • 채호정;정광은;김철웅;정순용
    • 에너지공학
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    • 제16권2호
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    • pp.83-92
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    • 2007
  • 석유자원 고갈에 따른 대체에너지 개발의 필요성과 더불어 온실가스인 $CO_{2}$ 저감 등 높은 환경개선 효과로 인하여 새로운 청정연료로 바이오매스로부터 제조되는 BTL(Biomass to Liquid)-디젤에 대한 관심이 유럽을 중심으로 크게 증가하고 있다. 본 논문에서는 BTL-디젤 기술 개발 현황 및 BTL 공정의 세부 공정기술들을 조사하였다. BTL 공정은 바이오매스 전처리 및 가스화, 합성가스 정제, F-T(Fischer-Tropsch) 합성 및 upgrading 공정 등으로 나눌 수 있으며, BTL 만의 차별적 기술로 합성가스 제조를 위한 가스화 공정과 함성가스 조성 조절을 포함하는 BTL 공정에 최적화된 F-T 합성 촉매 개발이 매우 중요하다. 대표적인 BTL 기술로 독일의 Choren 사는 Carbo-V 가스화 기술을 개발하여 세계 최초로 BTL 공정 상업화를 이루었으며, 네덜란드의 ECN은 tar와 BTX를 제거하기 위한 독자적인 OLGA 기술을 개발하여 가스화 시스템과 연계한 공정을 개발하였다. 또한 미국과 일본 등 많은 나라에서 경쟁적으로 기술개발을 재촉하고 있는 상황이다. 국내의 경우 이에 대한 연구는 전무하나 국내 에너지 안보를 위한 에너지 Mix 정책과 지구온난화 등 환경문제에 대응하기 위하여 BTL 기술 개발은 매우 중요한 의미를 가질 수 있으므로 독창적 기술의 선점이 매우 중요할 것으로 판단된다.

Electrochemical treatment of wastewater using boron doped diamond electrode by metal inter layer

  • KIM, Seohan;YOU, Miyoung;SONG, Pungkeun
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.251-251
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    • 2016
  • For several decades, industrial processes consume a huge amount of raw water for various objects that consequently results in the generation of large amounts of wastewater. Wastewaters are consisting of complex mixture of different inorganic and organic compounds and some of them can be toxic, hazardous and hard to degrade. These effluents are mainly treated by conventional technologies such are aerobic and anaerobic treatment and chemical coagulation. But, these processes are not suitable for eliminating all hazardous chemical compounds form wastewater and generate a large amount of toxic sludge. Therefore, other processes have been studied and applied together with these techniques to enhance purification results. These include photocatalysis, absorption, advanced oxidation processes, and ozonation, but also have their own drawbacks. In recent years, electrochemical techniques have received attention as wastewater treatment process that could be show higher purification results. Among them, boron doped diamond (BDD) attract attention as electrochemical electrode due to good chemical and electrochemical stability, long lifetime and wide potential window that necessary properties for anode electrode. So, there are many researches about high quality BDD on Nb, Ta, W and Si substrates, but, their application in effluents treatment is not suitable due to high cost of metal and low conductivity of Si. To solve these problems, Ti has been candidate as substrate in consideration of cost and property. But there are adhesion issues that must be overcome to apply Ti as BDD substrate. Al, Cu, Ti and Nb thin films were deposited on Ti substrate to improve adhesion between substrate and BDD thin film. In this paper, BDD films were deposited by hot filament chemical vapor deposition (HF-CVD) method. Prior to deposition, cleaning processes were conducted in acetone, ethanol, and isopropyl alcohol (IPA) using sonification machine for 7 min, respectively. And metal layer with the thickness of 200 nm were deposited by DC magnetron sputtering (DCMS). To analyze microstructure X-ray diffraction (XRD, Bruker gads) and field emission scanning electron microscopy (FE-SEM, Hitachi) were used. It is confirmed that metal layer was effective to adhesion property and improved electrode property. Electrochemical measurements were carried out in a three electrode electrochemical cell containing a 0.5 % H2SO4 in deionized water. As a result, it is confirmed that metal inter layer heavily effect on BDD property by improving adhesion property due to suppressing formation of titanium carbide.

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RBM 처리된 임플란트 표면의 인공치태 제거 효과 연구 (COMPARATIVE STUDY OF REMOVAL EFFECT ON ARTIFICIAL PLAQUE FROM RBM TREATED IMPLANT)

  • 박재완;국민석;박홍주;;최충호;홍석진;오희균
    • Maxillofacial Plastic and Reconstructive Surgery
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    • 제29권4호
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    • pp.309-320
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    • 2007
  • Purpose: This study was to evaluate the removal effect on artificial plaque from RBM treated implant surfaces that are exposed due to peri-implantitis. Materials and methods: Artificial plaque with Streptococcus mutans and acquired pellicle adhered to RBM treated implant discs. Study materials divided into one control and six test groups. In test groups, physical and chemical methods used to remove plaques. Prophyflex, Professional Mechanical Tooth Cleaning (PMTC) and interdental brush as mechanical treatments and 0.1% Chlorhexidine, Citric acid, HCl tetracycline as a chemical treatment were used. To analyses the study, disc weight was measured for remaining plaque quantities and SEM(Scanning Electronic Microscope) findings was taken for evaluation of surfaces. Results: 1. In weight changes, there was significant difference between each treatment group and the control group (p<0.05). Therefore all treatment methods using this study have good ability for remove plaques. 2. In weight changes, there was no significant difference between mechanical and chemical group, and there were no significant differences between each groups (p>0.05). 3. SEM findings after mechanical treatment disclosed as follows; Prophyflex group looked like sound implant surface, and there were some paste on implant surface at PMTC group, and there were some artificial plaque at interdental brush group. 4. SEM findings after chemical treatment disclosed as follows; there were some dark lesions which were supposed as the product from Streptococcus mutans at Chlorhexidine, Citric acid and HCl tetracycline groups. Conclusion: All six methods using in this study have good ability to remove artificial plaque on RBM treated implant. According to SEM findings, prophyflex is a superior method for removing of dental plaque among test groups.

랫드에서 초산 제3부틸의 최기형성 시험 (Teratogenicity Study of tert-Butyl Acetate in Rats)

  • 안태환;양영수;이종찬;강성수;배춘식;김성호;김종춘;김현영;정용현
    • Toxicological Research
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    • 제23권2호
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    • pp.151-158
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    • 2007
  • tert-Butyl acetate is an organic solvent used for coatings, industrial cleaning, and surface treatment applications. This study investigated the potential adverse effects of tert-butyl acetate on pregnant dams and embryo-fetal development after maternal exposure on gestational days 6 through 19 in rats. The test chemical was administered to pregnant rats by gavage at dose levels of 0, 500, 1,000, 1,500, and 2,000 mg/kg/day. All dams were subjected to a caesarean section on day 20 of gestation and their fetuses were examined for any external, visceral, and skeletal abnormalities. At 2,000 mg/kg, treatment-related clinical signs, including piloerection, abnormal gait, decreased locomotor activity, loss of fur, reddish tear, anorexia, nasal discharge, vocalization and coma, were observed in a dose-dependent manner. All dams died between the 2nd day and 5th day of treatment due to a severe systemic toxicity. At 1,500 mg/kg, minimal maternal toxicity including an increase in the incidence of decreased locomotor activity and loss of fur, and an increase in the weights of adrenal glands and liver was observed. On the contrary, no significant adverse effect on the embryo-fetal development was detected. There were no adverse effects on either pregnant dams or embryo-fetal development at <1,000 mg/kg. These results show that a 14-day repeated oral dose of tert-butyl acetate in rats caused a minimal maternal toxicity including increases in the incidence of clinical signs and the weights of adrenal glands and liver, but no embryotoxicity and teratogenicity at 1,500 mg/kg/day. Under these experimental conditions, the no-observed-adverse-effect level (NOAEL) of tert-butyl acetate is estimated to be 1,000 mg/kg per day for dams and 1,500 mg/kg per day for embryo-fetal development.

HF 크리닝 처리한 코발트실리사이드 버퍼층 위에 PA-MBE로 성장시킨 GaN의 에피택시 (GaN Epitaxy with PA-MBE on HF Cleaned Cobalt-silicide Buffer Layer)

  • 하준석;장지호;송오성
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제11권2호
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    • pp.409-413
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    • 2010
  • 실리콘 기판에 GaN 에피성장을 확인하기 위해, P형 Si(100) 기판 전면에 버퍼층으로 10 nm 두께의 코발트실리사이드를 형성시켰다. 형성된 코발트실리사이드 층을 HF로 크리닝하고, PA-MBE (plasma assisted-molecular beam epitaxy)를 써서 저온에서 500 nm의 GaN를 성막하였다. 완성된 GaN은 광학현미경, 주사탐침현미경, TEM, HR-XRD를 활용하여 특성을 확인하였다. HF 크리닝을 하지 않은 경우에는 GaN 에피택시 성장이 진행되지 않았다. HF 크리닝을 실시한 경우에는 실리사이드 표면의 국부적인 에칭에 의해 GaN성장이 유리하여 모두 GaN $4\;{\mu}m$ 정도의 두께를 가진 에피택시 성장이 진행되었다. XRD로 GaN의 <0002> 방향의 결정성 (crsytallinity)을 $\omega$-scan으로 판단한 결과 Si(100) 기판의 경우 2.7도를 보여 기존의 사파이어 기판 정도로 우수할 가능성이 있었다. 나노급 코발트실리사이드를 버퍼로 채용하여 GaN의 에피성장이 가능할 수 있었다.

하수처리수 재이용을 위한 직접접촉식 막증발법 적용 가능성 연구 (A Feasibility Study on Sewage Discharge Water Treatment for Water Reuse by Direct Contact Membrane Distillation)

  • 최용준;최지혁;신용현;조형락;손진식;이상호
    • 멤브레인
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    • 제26권1호
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    • pp.70-75
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    • 2016
  • 본 연구에서는 하수처리수를 원수로 사용하여 직접 접촉식 막증발법을 적용하여 원수 온도와 원수 유량 변화에 따른 하수처리수의 COD, TN, TP, TOC의 제거율 변화와 여과플럭스의 변화를 측정하였다. 또한 하수처리수에 의한 분리막의 오염 가역성을 평가하기 위해 1차 증류수만을 사용하여 물리세정을 수행한 후 플럭스의 회복률을 측정하였다. 실험결과 원수의 온도 및 유량에 관계없이 원수가 3배 농축될 때까지 여과를 진행하였음에도 불구하고 하수처리수의 주요 오염물질인 COD, TN, TP, TOC에 대한 제거율이 92% 이상으로 높게 나타났다. 또한 비교적 낮은 온도인 $50^{\circ}C$$60^{\circ}C$에서 원수의 유량에 따라 최소 13.8 LMH에서 20.3 LMH로 높은 여과플럭스를 나타냈다. 그리고 높은 농축계수까지 여과 실험을 진행했음에도 불구하고 낮은 여과플럭스의 감소를 나타냈으며 1차 증류수를 이용한 짧은 시간 동안의 물리세정만으로 최소 90% 이상의 높은 여과 플럭스 회복율을 나타냈다. 따라서 하수처리수 재이용을 위한 공정으로 막증발법의 적용이 충분히 가능할 것으로 판단된다.

과불화합물(PFCs) 가스 처리를 위한 고효율 열플라즈마 스크러버 기술 개발 동향 (Highly Efficient Thermal Plasma Scrubber Technology for the Treatment of Perfluorocompounds (PFCs))

  • 박현우;차우병;엄성현
    • 공업화학
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    • 제29권1호
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    • pp.10-17
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    • 2018
  • 반도체 및 디스플레이 제조공정 중에 화학기상증착(CVD), 식각(etching), 세정(cleaning) 공정에서 배출되는 과불화합물(PFCs)를 포함한 폐 가스 처리를 위해서 POU (point of use) 가스 스크러버 시스템을 도입하여 사용하고 있다. 과불화합물은 지구온난화 지수(GWP, global warming potential)와 대기 중 자연분해되는 기간(lifetime)이 $CO_2$에 비해 수천 배 높은 온실가스로 분류되어 있으며, 과불화합물의 열분해를 위해서는 3,000 K 이상의 고온이 요구되는 것이 일반적이다. 이러한 특징 때문에 과불화합물을 효과적으로 제어하기 위한 방법으로 열플라즈마 기술을 도입하고자 하는 노력들이 진행되어 왔으며, POU 가스 스크러버 기술을 개발하여 산업적으로 이용하고자 하였다. 열플라즈마 기술은 플라즈마 토치 기술, 전원공급장치 기술 및 플라즈마 토치-전원공급장치 매칭 기술 최적화를 통해 안정적으로 플라즈마 발생원을 유지시키는 것이 중요하다. 또한, 과불화합물 고효율 처리를 위한 고온의 플라즈마와 폐 가스의 효과적인 혼합이 주요 기술요인으로 확인되었다. 본 논문에서는 반도체 및 디스플레이 공정 폐 가스 처리를 위한 후처리 공정에 대한 기술적 정보를 제공함과 동시에 POU 플라즈마 가스 스크러버에 대한 기술개발 동향을 파악함으로써 향후 연구개발이 요구되는 핵심사항에 대해 논의하고자 한다.

마그네트론 스퍼터링법을 이용한 Indium-Tin Oxide 박막의 제작과 그 특성에 관한 연구 (A Study on the Fabrication and Characteristics of ITO Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering Method)

  • 조길호;김여중;김성종;문경만;이명훈
    • Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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    • 제24권6호
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    • pp.61-69
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    • 2000
  • Indium-Tin Oxide (ITO) films were prepared on the commercial glass substrate by the Magnetron Sputtering method. The target was a 90wt.% $In_2O_3$-10wt.% $SnO_2$with 99.99% purity. The ITO films deposited by changing the partial pressure of oxygen gas ($O_2$/(Ar+$O_2$)) of 2, 3 and 5% as well as by changing the substrate temperature of $300^{\circ}C$ or $500^{\circ}C$. The influence of substrate pre-annealing and pre-cleaning on the quality of ITO film were examined, in which the substrate temperature was $500^{\circ}C$ and oxygen partial pressure was 3%. The characteristics of films were examined by the 4-point probe, Hall effect measurement system, SEM, AFM, Spectrophotometer, and X-ray diffraction. The optimum ITO films have been obtained when the substrate temperature is $500^{\circ}C$ and oxygen partial pressure is 3%. At optimum condition, the film showed transmittance of 81%, sheet resistivity of $226\Omegatextrm{cm}^2$, resistivity($\rho$) of $5.4\times10^{-3}\Omega$cm, carrier concentration of $1.0\times10^{19}cm^{-3}$, and carrier mobility of $150textrm{cm}^2$Vsec. From XRD spectrum, c(222) plane was dominant in the case of substrate temperature at $300^{\circ}C$, without regarding to oxygen partial pressure. However, in the case of substrate temperature at $500^{\circ}C$, c(400) plane was grown together with c(222) plane, only for oxygen partial pressure of 2 and 3%. In both case of chemical and ultrasonic cleaning without pre-annealing the substrate, it showed much almost same sheet resistivity, resistivity($\rho$), transmittance, carrier concentration, and carrier mobility. In case of $500^{\circ}C$/60min pre-annealing before ITO film deposited, both transimittance and carrier mobility are better than no pre-annealing, because pre-annealing is supposed to remove alkari ions diffusion from substrate. ITO film deposited on the Corning 0080 sybstrate showed a little bit better sheet resistivity, resistivity($\rho$), transimittance, carrier concentration than the film deposited on commercial glass. But no differences between Corning substrate and pre-annealed commercial glass substrate are found.

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휴믹산 용액 및 자연수의 한외여과: 제거율, 막오염 및 세척특성 비교 (Ultrafiltration of Humic and Natural Water: Comparison of Contaminants Removal, Membrane Fouling, and Cleaning)

  • 추광호;남미연
    • 멤브레인
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    • 제18권1호
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    • pp.65-74
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    • 2008
  • 자연산 유기물과 미세 입자는 분리막을 이용한 수처리 공정에서 반드시 제거되어야 하는 주요한 물질이다. 특히 휴믹물질은 막오염을 일으키는 자연산 유기물의 대표적인 물질로 알려져 있어 막여과 정수처리와 관련된 많은 연구에서 정수 원수를 모사하기 위해 이용되고 있다. 본 연구에서는 휴믹산 용액과 자연수의 한외여과시 막여과 및 세척 특성을 비교 분석하여 분리막 모듈의 실제 정수 원수 적용시 휴믹산 용액을 이용한 모사수가 가지는 대표성을 검토하고자 하였다. 정수원수의 막투과도는 5 mg/L 휴믹산 용액의 여과와 거의 같은 양상을 보였으나 유기물 및 탁도 제거율 측면에서 차이를 보였다. 용존성 유기물의 제거율은 휴믹산 용액에 비해 자연수의 제거율이 아주 낮으며 자연수 내에 존재하는 유기물은 분리막에 의해 거의 제거되지 않음을 알 수 있었다. 모사수의 제거율이 상대적으로 높게 나타난 이유는 유입수 내 유기물의 분자량 분포와 $UV_{254}$ 및 SUVA 값으로부터 휴믹산 용액 내 유기물의 크기 배제 및 소수성 흡착 때문인 것으로 사료된다. 미세입자 제거의 경우 입자 분포에 있어서 상대적으로 작은 크기의 카올린을 함유한 모사수가 자연수에 비해 한외여과 처리수의 탁도가 더 낮게 나타났다. 이는 입자 크기 자체보다는 입자의 형태가 분리막에 의한 입자 제거에 영향을 미치는 것으로 추정된다. 또한 화학세정을 통한 막성능 회복률의 경우 비슷한 막투과도를 보이며 오염을 일으킨 경우에도 모사수가 자연수에 비해 다소 높은 회복률을 보였고, 이 또한 모사수의 한계를 드러낸다고 하겠다.

해수담수화 전처리로서 가압식 MF 공정의 최적 운전조건 도출 (Optimum Operating Condition for Micro-Filtration Process as a Seawater Desalination Pretreatment)

  • 김영민;장정우;김진호;최준석;이상호;김수귀
    • 대한환경공학회지
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    • 제35권9호
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    • pp.624-629
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    • 2013
  • 본 연구는 해수담수화 전처리 기술로서 개발된 가압식 정밀여과(microfiltration: MF) 중공사막 모듈(막 면적 $35m^2$)의 성능평가를 목적으로 $1,000m^3/day$ 규모 해수담수화 파일럿플랜트를 대상으로 하였다. 약 3개월 동안 용존공기부상법으로 처리한 원수를 공급하여 $1.5m^3/m^2{\cdot}day$ 정유량 조건에서 여과주기, 유지 세정(chemically enhanced backwash: CEB) 농도와 세정 주기 변화 등에 따른 여과성능과 비용을 분석하였다. MF 막 성능 유지를 위한 유지 세정 시 약품 농도에 의한 영향보다는 반복 세정(4회/일)이 효과적이었으나, 경제적 측면에서는 회수율 제고를 위한 단일 세정 방식이 적절한 것으로 나타났다. 막간차압 및 비용분석을 통해 4가지 운전방식 중 1일 1회 NaOCl 100 mg/L 세정 방식을 최적 운전조건으로 도출하였다. MF 전처리 공정의 유지관리 조건 도출 시에는 성능 평가와 함께, 운전방식에 따른 경제성을 함께 고려하는 것이 적절할 것으로 판단된다.