Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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1997.05a
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pp.38-38
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1997
In the paper, we investigate the magneto-impedance(MI) effect of the Fe-Co-B Amorphous magnetic film, the amorphous magnetic film having near zero magnetostostriction is fabricated by using the sputtering methode, and then annealed in magnetic field. When the external magnetic field is directly applied to the fabricated film, the voltage amplitude between both side of the magnetic film varies about 22% at 10[MHz] and the impedance varies about 21% at 10[Oe]. Thus, we find that the fabricated magnetic film has the characteristics of high-quality sensor element.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.16
no.12S
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pp.1305-1309
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2003
To utilize FeCoSiB amorphous films for magnetoelastic sensors, the temperature dependency of magnetization (M-T curve) and the magnetization properties of the amorphous films were investigated in this study. As the amount of cobalt In the films increased, the Curie temperature decreased but the crystallization temperature increased. In addition to this, the crystallization temperature was lower than the Curie temperature in the film containing 20 at% cobalt. The optimized annealing condition was set up by analyzing the H-T curve. And then, the amorphous film that has excellent magnetic properties and uni-axal anisotropy could be prepared for construction of the magnetoelastic sensor devices. The coercive force of the film was below 0.5 Oe and the anisotripic field was about 5 Oe.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2001.07a
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pp.478-480
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2001
Fe-base amorphous films exhibit large saturation magnetostriction and soft magnetic Properties, which make them suitable for strain sensor applications. Most important material properties for the performance of these elements are the superior soft magnetic properties, such as high permeability and small coercive force, as well as magnetoelastic properties. It is well known that the strain generated in film deposition and/or post-heat treatment processes is one of important material properties, which effects on the soft magnetic properties of the film via magnetoelastic coupling. In this study, the effect of an isotropic strain in plane of magnetic films have been performed experimently. Amorphous films with the composition of (F $e_{90}$$Co_{10}$)$_{78}$S $i_{l2}$$B_{10}$ were employed in this study. The film with 5${\mu}{\textrm}{m}$ thick was deposed onto the polyimide substrate with 50${\mu}{\textrm}{m}$ thick by virtue of RF sputtering. The film was subject to post annealing with a static magnetic field with 500Oe magnetic field intensity at 35$0^{\circ}C$ for 1 hour. The polyimide substrate with the film was bonded with an adhesive on PZT piezoelectric substrate with 600${\mu}{\textrm}{m}$ thick in applying voltage of 500V. The change in MH loops of films due to the isotropic strain was measured by using VSM. The coercive force was evaluated from MH loops. It has shown in the results that M-H loops of films are subject to change considerably with a dc voltage, resulting of the magnetization rotation from normal to plane direction as the applied voltage is changed from 500V to 250V.50V.V.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.15
no.3
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pp.281-286
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2002
In odder to investigate the magnetic properties of CoCr-based bilayered thin films on kind of underlayer, we introduced amorphous Si layer to Co-Cr(-Ta) magnetic layer as underlayer. First, we prepared CoCr and CoCrTa single layer using the Facing Targets Sputtering system to investigate theirs properties. It was revealed that with increasing the film thickness of CoCr, CoCrTa single layer, crystalline orientation and perpendicular coercivity was improved. The CoCrTa thin film showed bettor crystalline and magnetic characteristics than CoCr thin film. As a result of investigating magnetic properties of CoCr and CoCrTa magnetic layer on introducing the Si underlayer, perpendicular coercivity and saturation magnetization of CoCr/Si and CoCrTa/Si bilayered thin film were decreased due to the increased grain size and diffusion of Si atoms to magnetic layer. And they showed constant with increasing the film thickness of Si thin film. However, in case of CoCrTa/Si bilayered thin film, in-plane coercivity was controlled low at about 250Oe. The c-axis orientations of CoCr/si and CoCrTa/Si bilayered thin film showed a good crystalline characteristics as about $2^{\circ}$.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2001.11a
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pp.77-80
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2001
Crystallographic and magnetic characteristics of CoCr-based magnetic thin film for perpendicular magnetic recording media were influenced on preparing conditions. In these, there is that substrate temperature was parameter that increases perpendicular coercivity of CoCrTa magnetic layer using recording layer. While preparation of CoCr-based doublelayer, by optimizing substrate temperature, we expect to increase perpendicular anisotropy of CoCr magnetic layer and prepare ferromagnetic recording layer with a good quality by epitaxial growth. CoCrTa/Si doublelayer showed a good dispersion angle of c-axis orientation $\Delta$$\theta$$_{50}$ caused by inserting amorphous Si underlayer which prepared at underlayer substrate temperature 250C. Perpendicular coercivity was constant, in-plane coercivity was controlled a low value about 2000e. This result implied that Si underlayer could restrain growth of initial layer of CoCrTa thin film, which showed bad magnetic properties effectively without participating magnetization patterns of magnetic layer. In case of CoCrTa/Si that prepared with ultra thin underlayer, crystalline orientation of CoCrTa was improved rather underlayer thickness 1nm, it was expected that amorphous Si layer played a important role in not only underlayer but also seed layer.t also seed layer.r.
A magneto-current (MC) was investigated for magnetic tunnel transistor (MTT) with amorphous n-type Si film. A relative MC (more than 49.6%) was observed at an emitter-base bias voltage ($V_{EB}$) of 0.65 V at room temperature. Above a $V_{EB}$ of 0.70 V, however, a rapid decrease in MC was observed in the amorphous Si-based MTT. The collector current increasing and transfer ratio as emitter-base voltage were mainly due to the rapid creation electrons of conduction band states in the Si collector. This approach would make integration in various components and systems easier than a MTT grown on a semiconductor wafer.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.11
no.6
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pp.486-492
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1998
The amorphous Co-based magnetic films have a large saturation flux density, a low coercive force, and a zero magnetostriction constant. Therefore, they have been studied for application to magnetic recoding heads and micro magnetic devices. However, it was found that the magnetic anisotropy was changed for each film fabrication processes. In this study, we investigated how to control the anisotropy of sputtered amorphous $Co_{89}Nb{8.5}Zr{2.5}$ films. After deposition, the rotational field annealing ant the uniaxial field annealing were performed under the magnetic field of 1.5 kOe. the annealing was done at the temperature range from 400 to $600^{\circ}C$ for one hour. As-deposited amorphous $Co_{89}Nb{8.5}Zr{2.5}$ thin film had saturation magnetization ($4\piM_5$) of 0.8 T, coercive force($_IH_C$) of 1.5 Oe, and anisotropy field($H_k$) of 11 Oe. The amorphous $Co_{89}Nb{8.5}Zr{2.5}$ thin films annealed by rotational field annealing at $500^{\circ}C$ for one hour was found to be isotropy, and $4\piM_5$ of 0.9 T was obtained from these films, Also, the magnetic anisotropy of as-deposited films could be controlled by uniaxial field annealing at $400^{\circ}C$ for one hour. Anisotropy field($H_k$) of 17 Oe and $4\piM_5$ of 1.0 T were obtained by this method.
In this paper, we investigate the magneto-impedance(M1) effect of the FeCoSiB amorphous magnktic films. The amorphous magnetic film having near zero magnetostriction is fabricated by using the sputtering method, and then annealed in magnetic field. When the external magnetic field is directly applied to the fabricated film, the voltage amplitude between both side of the magnetic film varies about 76.2% at 120[MHzl and the impedance varies about 2.1%/0e. Thus, we find that the fabricated magnetic film has the characteristics of good sensor element.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2001.07a
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pp.443-446
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2001
MI(Magneto-Impedance) sensor which is made by thin films has significantly high detecting sensitivity in weak magnetic field. It also has a merit to be able to build in low power system. Its structure is simple, which makes it easier to prepare a miniature. In this study, its magnetic permeability and anisotropy field(H$\sub$k/) as a function of a thickness of sputtered amorphous CoZrNb thin film with high saturation magnetostriction and excellent soft magnetic property are investigated. In order to make a uniaxial anisotropy, thin film was subjected to post annealing with a static magnetic field with 1KOe intensity at 250, 300, and 320$^{\circ}C$ for 2 hour. Anisotropy field(H$\sub$k/)of thin film is measured by using MH loop tracer. Its magnetic permeability of thin film is measured over the frequency range from 1 MHz to 750MHz. It has shown that the magnetic permeability of amorphous CoZrNb thin film is decreased due to the skin effect with increasing a thickness of CoZrNb thin film, and hence its driving frequency is lowered.
Hur, J.;Kim, Y.H.;Shin, K.H.;Park, K.I.;SaGong, G.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.07b
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pp.778-781
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2002
MI(Magneto-Impedance) sensor which is made by thin films has significantly high detecting sensitivity in weak magnetic field. It also has a merit to be able to build in the low power system. Its structure is simple, which makes it easier to prepare a miniature. In this study, its magnetic permeability and anisotropy field$(H_k)$ as a function of a thickness of sputtered amorphous CoZrNb films with zero-magnetostriction and excellent soft magnetic property are investigated. In order to make a uniaxial anisotropy, film was subjected to the post annealing in a static magnetic field with 1KOe intensity at 250, 300, and $320^{\circ}C}$ respectively for 2 hours. Anisotropy field$(H_k)$ of film is measured by using a MH loop tracer. Its magnetic permeability of a film is measured over the frequency range from 1 MHz to 750MHz. It has shown that the magnetic permeability of amorphous CoZrNb film is decreased due to the skin effect with increasing a thickness of the CoZrNb film, and hence its driving frequency is lowered. And, it was examined on the permeability and impedance to fabricate the MI sensor which acts at a low frequency by thickening a CoZrNb film relatively.
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