Microstructure modifications are investigated for annealed Co-based amorphous ribbon in vacuum and open air. X-ray diffraction (XRD) spectra for annealed sample in vacuum indicate atomic arrangements with initial nucleation of hcp-Co crystallite at 38$0^{\circ}C$ annealing temperature. However, the XRD spectra in samples with long annealing times of $t_a\geq300$ min demonstrate sharp and good developed surface crystalline hcp-, fcc- Co and $Co_2$Si phases. The giant magnetoimpedance (GMI) profile at 0.1 MHz displaying one-peak behavior in vacuum annealed samples at T = 38$0^{\circ}C$ irrespective of annealing time $t_a$ from 20 to 480 mim. For the annealed samples in an open air, the GMI profile shows two-peaks for $t_a$ = 20 min annealed sample. However, one of peaks disappears and an asymmetric GMI profile exhibits a drastic step-like change near zero field for $t_a\geq300$min. Such asymmetric GMI characteristics is related to the surface microstructures of fcc-Co, hop-Co and $Co_2$Si crystalline phases.
The phase transition from amorphous to crystalline states, and vice versa, of $Ge_2Sb_2Te_5$ films by applying electrical pulses have been studied. This material can be used as nonvolatile memory. The reversible phase transition between the amorphous and crystalline states, which is accompanied by a considerable change in electrical resistivity, is exploited as means to store bits of information. The nonvolatile memory cells are composed of a simple sandwich (metal/chalcogenide/metal). It was formed that the threshold voltage depends on thickness, electrode distance, annealing time and temperature, respectively.
Silicon carbide (SiC) thin films were deposited on the porous silicon substrates by chemical vapour de-position(CVD) using MTS as a source material. The deposited films were ${\beta}$-SiC with poor crystallity con-firmed by XRD measurement. It was considered that the films showed the mixed characteistics of cry-stalline and amorphous SiC where amorphous SiC where amorphous SiC played a role of buffer layer in interface between as-dep films and Si substrate. The buffer layer reduced lattice mismatch to some extent the generally occurs when SiC films are deposited on Si. The low temperature (10K) PL (phtoluminescence) studies showed two broad bands with peaks at 600 and 720 for the films deposited at 1100$^{\circ}C$ The maximum PL peak of the crystalline SiC was observed at 600 nm and the amrophous SiC of 720 nm was also confirmed. PL peak due the amorphous SiC was smaller than that of the crystalline SiC, PL of porous Si might be disapperared due to densification during heat treatment.
Effect of dealloying condition on the formation of nanoporous structure in melt-spun $Al_{60}Ge_{30}Mn_{10}$ alloy has been investigated in the present study. In as-melt-spun $Al_{60}Ge_{30}Mn_{10}$ alloy spinodal decomposition occurs in the undercooled liquid during cooling, leading to amorphous phase separation. By immersing the as-melt-spun $Al_{60}Ge_{30}Mn_{10}$ alloy in 5 wt% HCl solution, Al-rich amorphous region is leached out, resulting in an interconnected nano-porous $GeO_x$ with an amorphous structure. The dealloying temperature strongly affects the whole dealloying process. At higher dealloying temperature, dissolution kinetics and surface diffusion/agglomeration rate become higher, resulting in the accelerated dealloying kinetics, i.e., larger dealloying depth and coarser pore-ligament structure.
한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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pp.1071-1074
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2006
Ca/Ag double layer which is fabricated by thermal evaporation exists as the double layer of (Ca+O)/(Ag+Ca). In Ca layer, are crystalline Ca(OH)2 and amorphous Ca and in Ag layer, are crystalline Ag and amorphous Ca. And for the certain thickness of Ag, in the Ca/Ag double layer, the thicker Ca is, the higher transmittance is.
$SrTiO_3$ reaction mechanism formed from $TiCl_4$ and $SrCl_2$ solution by direct-wet-process was studied. Through this study it is identified that crystalline $SrTiO_3$ is formed above pH 13.8 amorphous $SrTiO_3$ above pH7 and crystallization temperature of amorphous $SrTiO_3$ is at 37$0^{\circ}C$. the final products are composed of 60% crystalline $SrTiO_3$ and 40% amorphous $SrTiO_3$ The amorphous $SrTiO_3$ is identified with the IR absorption spectrum of Sr-Ti-O by FT-IR spectrometer. Under pH 7 gelationus metatitanate (H2TiO3) is formed from TiCl4 but above pH7 the activity by the formation of metatitnic acid ion $[TiO_3]^{2-}$ is so high that $SrTiO_3$is formed more easily through the reaction with $Sr^{2+}$.
The amorphous vanadium oxide thin films for thin-film rechargeable lithium batteries were fabricated by r.f. reactive sputtering at room temperature. As the experimental parameter, oxygen partial pressure was varied during sputtering. At high oxygen partial pressures(>30%), the as-deposited films, constant current charge/discharge characteristics were carried out in 1M $LiPF_6$, EC:DMC+1:1 liquid electrolyte using lithium metal as anode. The specific capacity of amorphous $V_2O_5$ after 200cycles of operation at room temperature was higher compared to crystalline $V_2O_5$. The amorphous vanadium oxide thin film and crystalline film showed about 60$\mu$Ah/$\textrm{cm}^2\mu\textrm{m}$ and about 38$\mu$Ah/$\textrm{cm}^2\mu\textrm{m}$, respectively. These results suggest that the battery capacity of the thin film vanadium oxide cathode strongly depends on the crystallinity.
Electrically tunable photonic band gap (PBG) materials based on crystalline structures have been developed for active components of display. Despite considerable advances, the intrinsic drawbacks of the crystalline PBG materials such as the strong angle dependent hue and difficulty of fabricating defect-free structures in large area have yet to be addressed for their practical applications. Here we report quasi-amorphous colloidal structures exhibiting angle-independent photonic colors in response to the electric stimuli. Moderately polydisperse colloidal Fe3O4@SiO2 nanoparticles dispersed in organic solvents exclusively form quasi-amorphous photonic materials at sufficiently high concentrations (> 30 wt%), and which reversibly reflect incident light in visible region ($\lambda$ peak = 490~655 nm) in response to the relatively low bias voltage (0~4 V). We show the angle-independent tunable photonic colors with the fast response time (50~170 ms) due to the isotropic nature of quasi-amorphous structures. Conventional vacuum injection technique is applicable for fabricating flexible full color photonic display pixels with various pre-defined shapes.
In commercial Zr-Nb-Cu-Ni-Al amorphous alloys, expensive element, Zr, was substituted to Sn which was cheaper one, and then, glass forming ability, compressive strength and hardness of them were estimated. Even though the Sn was added up to 1.5%, resulting phase was not changed to the crystalline form. It was confirmed by X-ray diffraction and thermal analyses. In the X-ray profiles, there were no peaks for crystalline phases and typical halo pattern for amorphous phase was appeared at the diffraction angle of $35^{\circ}{\sim}45^{\circ}$. Thermal analyses also showed that the Sn modified alloys were corresponded to the amorphous standards where ${\delta}T$(= Tx - Tg) and Trg(= Tg/Tm) affecting to the amorphous forming ability were more than 50K and 0.60 respectively. Compressive strengths were 1.77 GPa, 1.63 GPa, 1.65 GPa and 1.77 GPa for 0%Sn, 0.5%Sn, 1.0%Sn and 1.5%Sn respectively. Hardnesses of the Sn modified alloys were decreased from 752 Hv to 702 Hv in 1.0%Sn and recovered to 746 Hv in 1.5%Sn.
Amophization and decomposition behaviour in $Mg_{62}Cu_{26}Y_{12}$ alloy prepared by melt spinning method and wedge type metal mold casting method have been investigated by a detailed transmission electron microscopy. Amorphous phase has formed in melt-spun ribbon. In the case of the wedge type specimen, however, the amorphous phase has formed only around the tip area within about 2 mm thickness. The remaining part of the wedge type specimen consists of crystalline phases, $Mg_{2}Cu\;and\;Cu_{2}Y$. The supercooling for crystallization behaviour of the amorphous $Mg_{62}Cu_{26}Y_{12}$ alloy, ${\Delta}T_x$ has been measured to be about 60 K. Such a large undercooling of the crystallization bahaviour enables formation of the amorphous phase in the $Mg_{62}Cu_{26}Y_{12}$ alloy under the cooling rate of $10^{2}K/s$. The amorphous $Mg_{62}Cu_{26}Y_{12}$ has decomposed into crystalline phases, $Mg_{2}Cu\;and\;Cu_{2}Y$ after heat treatment at $170^{\circ}C\;and\;250^{\circ}C$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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