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하전 입자 효과를 이용한 Plasma Display Panel의 고속 구동 파형에 관한 연구 (Studies on High Speed Addressing Driving Scheme using the Priming Effect in Plasma Display Panel)

  • 신범재;박상식
    • 조명전기설비학회논문지
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    • 제23권2호
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    • pp.45-52
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    • 2009
  • 본 연구는 Full-HD급 PDP의 고속 구동 구현을 위한 새로운 구동 방식에 관한 연구이다. 새로운 SPA (self-priming address) 구동 파형은 어드레스 구간에서 지속적인 프라이밍 방전을 유지하여 하전 입자 효과를 이용하여 어드레스 방전 지연 시간을 개선하기 위하여 제안되었다. 본 연구에서는 프라이밍 방전의 기본 특성에 대해 조사하였으며, 안정적인 프라이밍 방전을 유지할 수 있는 초기화 펄스 및 프라이밍 램프 펄스를 도출하였다. 특히, 프라이밍 램프 펄스의 기울기가 0.1[$V/{\mu}s$]의 미약한 프라이밍 방전의 경우에 대해서도 기존 방식의 1.2[${\mu}s$]의 어드레스 방전 지연 시간을 0.8[${\mu}s$]로 획기적으로 개선할 수 있는 것을 확인하였다.

형광체 두께와 방전공간의 변화에 따른 ac PDP의 어드레싱 속도와 전기광학적 특성에 관한 연구 (The Study of Addressing Time and Electrical and Optical Characteristics as Phosphor Thickness and Height of discharge Space in ac-PDP)

  • 허정은;김규섭;박정후;조정수
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2000년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1815-1817
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    • 2000
  • Plasma display Panels(PDPs) are one of the leading technologies currently under development for large-area high-brightness flat panel displays. However, the luminance and luminous efficiency of at PDPs should be improved. Especially, one of the main factors affecting on the luminance and luminous efficiency of ac PDP may be the phosphor thickness and size of discharge space. In this study, we examined into addressing time, electrical and optical properties as a parameter of the phosphor thickness and the size of discharge space during the display period of ac PDP. It is found out that the optimum phosphor thickness was $50{\mu}m$ and height of discharge space was about $100{\mu}m$.

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대전입자형 디스플레이의 대전입자층 제어와 구동 (A charged particles layer control and driving of Charged Particle Type Display)

  • 이동진;김영조
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제8권6호
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    • pp.1376-1380
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    • 2007
  • 대전입자형 디스플레이는 높은 대조비와 넓은 시야각 그리고 빠른 응답속도를 가졌다. 본 연구에서는 음전하를 띈 노란색 대전입자와 양전하를 띈 검은색 대전입자를 사용하여 화상을 표시하였으며, 기존의 혼합된 대전입자를 충전하는 방식과는 대비 패널의 상판과 하판에 형성된 셀에 두 대전입자를 전계에 의해 각각 어드레싱하였다. 그리고 상판과 하판을 합착한 후 Aging을 하여 패키징을 하였으며, 합착된 패널은 전극 설계에 의해 4 채널의 전극에 Matrix 구동을 했다. 패널에 충전되는 layer 수는 최소 2 layer가 요구되며, 본 연구에서는 대전입자의 layer는 격벽의 높이로 조절하였다. 패키징된 패널의 상판에 양의 전압을 인가한 결과, 노란색 대전입자는 상판의 전극으로 이동하고 검은색 대전입자는 하판의 전극으로 이동하였다.

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임베디드 프로세서의 성능 향상을 위한 DIAM의 진보한 아키텍처 (Advanced Architecture using DIAM for Improved Performance of Embedded Processor)

  • 윤종희;신세철;백윤홍;조정훈
    • 정보처리학회논문지A
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    • 제16A권6호
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    • pp.443-452
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    • 2009
  • 32비트 아키텍처가 현대 마이크로프로세서의 표준이 되어가고 있음에도 불구하고 작은 사이즈와 적은 파워 소모량을 우선시 하는 저가의 프로세서에서는 여전히 16비트 아키텍처가 사용되고 있다. 그러나 16비트 아키텍처는 특정 애플리케이션을 위한 특별한 명령어들을 추가할 만 한 충분한 인코딩 공간이 제공되지 않는 결정적인 단점을 가지고 있다. 이것을 극복하기 위해 기존의 많은 아키텍처에서 일반적이지 않은 다양 한 어드레싱 모드들을 수용하기 위한 직교적이지 않으면서(non-orthogonal) 불규칙한 명령어 셋이 사용되었다. 일반적으로 직교적이지 않은 아 키텍처들은 최적의 코드를 생성하기 위해서 매우 정교한 컴파일러 기술을 요구하는 경향이 있기 때문에 컴파일러에 지향적이지 않는 것으로 간주된다. 이전에 우리는 이런 문제를 해결하기 위해 새로운 어드레싱 모드인 DIAM (dynamic implied addressing mode)을 사용하는 컴파일러 지향적 프로세서를 제안하였다. 이 논문에서는16비트 프로세서에서 우리의 애플리케이션들을 위해 더 많은 인코딩 공간을 제공하였던 DIAM을 사용하는 아키텍처를 설명하고, 그것을 보완하여 성능이 더욱 개선된 아키텍처에 대하여 설명할 것이다. 우리의 실험에서 제안된 아키텍처는 기존의 아키텍처에 비해 평균적인 성능을 11.6% 증가시켰다.