• Title/Summary/Keyword: ZnBO

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A Study on Wet Etch Behavior of Zinc Oxide Semiconductor in Acid Solutions

  • Seo, Bo-Hyun;Lee, Sang-Hyuk;Jeon, Jea-Hong;Choe, Hee-Hwan;Lee, Kang-Woong;Lee, Yong-Uk;Seo, Jong-Hyun
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 2007.08a
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    • pp.926-929
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    • 2007
  • A significant progress has been made in the characterization of zinc oxide (ZnO) semiconductor as a new semiconductor layer instead of amorphous Si semiconductor used in thin film transistor due to its high electron mobility at low deposition temperature which is quite suitable for flexible display and OLED devices. The wet pattering of ZnO is another important issue with regard to mass production of ZnO thin film transistor device. However, the wet behavior of ZnO thin film in aqueous wet etching solutions conventionally used un TFT industry has not been reported yet, in this work, wet corrosion behavior of RF magnetron sputtered ZnO thin film in various wet solutions such as phosphoric and nitric acid solutions was studied using by electrochemical analysis. The effects of deposition parameters such as RF power and oxygen partial pressure on corrosion rate are also examined.

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Different morphologies of three dimensional ZnO structures synthesized by thermal evaporation method without a catalyst (촉매를 사용하지 않는 열 기화법으로 다양한 형태의 ZnO 3차원 구조체 합성)

  • Bang, Sin Young;Tran, Van Khai;Oh, Dong Keun;Maneeratanasarn, Prachuporn;Choi, Bong Geun;Ham, Heon;Kim, Kyoung Hun;Shim, Kwang Bo
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.23 no.1
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    • pp.8-13
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    • 2013
  • ZnO with different morphologies can be used various application depending on their shapes. Different morphologies of ZnO structures were synthesized by a catalysis-free thermal evaporation process. Their morphologies were dependent on the distance from the source to substrate on the same processing condition; in the result were products morphologies of the hollow, cage and star. Their shapes and crystalinity were evaluated by SEM and XRD, respectively. This work demonstrates what kind of growth factors would be involved in the final structure morphologies.

RF 스퍼터링법으로 성장한 ZnO계 이종접합구조 LED의 특성 평가

  • Gong, Bo-Hyeon;Han, Won-Seok;Kim, Yeong-Lee;Kim, Dong-Chan;An, Cheol-Hyeon;Seo, Dong-Gyu;Jo, Hyeong-Gyun;Mun, Jin-Yeong;Lee, Ho-Seong
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2008.11a
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    • pp.91-91
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    • 2008
  • ZnO는 넓은 밴드갭(3.37eV)과 큰 엑시톤(exciton) 결합에너지(60meV) 를 가지는 II-VI족 산합물 반도체로, 상온에서도 높은 재결합 효율이 기대되는 엑시톤 전이가 가능하여 자발적인 발광특성 및 레이저 발진을 위한 낮은 임계전압을 보여주는 장점을 가지고 있다. 이러한 특성을 이용해, 최근 ZnO 박막을 이용한 LED 및 LD 소자 제작에 대한 연구가 국내외적으로 매우 활발하게 이루어지고 있다. 하지만 아직까지 p-type ZnO는 전기적 특성 및 재현성 문제를 극복하지 못하고 있기 때문에 ZnO를 이용한 동종접합구조를 이용한 소자제작은 어려움이 따른다. 이런 문제점을 극복하기 위해 최근 p-type 물질을 ZnO와 결정구조 및 특성이 거의 유사한 GaN를 많이 이용하고 있다. 또한 RF 스퍼터링법을 이용해 박막을 성장할 경우 성장조건 및 불순물 도핑 등에 따라 성장되는 n-type ZnO의 전기적 특성 및 밴드갭을 조절할 수 있다. 본 연구에서는 RF 스퍼터링법을 이용해 p-type GaN 기판위에 n-type ZnO를 성장한 이종접합구조를 이용해 발광 다이오드를 제작하고 그에 대한 특성 평가를 하였다. 이때 성장시킨 n-type ZnO는 여러 가지 성장 변수 및 불순물 도핑으로 전기전 특성 변화 및 밴드갭 조절을 통해 발광특성 변화에 대해 특성 평가를 하였다.

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Electrical and optical properties of ZnO thin films grown by MOCVD (MOCVD 법으로 성장한 ZnO 박막의 전기적, 광학적 특성 평가)

  • Kong, Bo-Hyun;Kim, Dong-Chan;Han, Won-Suk;Kim, Young-Yi;Ahn, Cheol-Hyoun;Kang, Si-Woo;Yi, Yu-Jin;Cho, Hyung-Koun
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2007.06a
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    • pp.150-150
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    • 2007
  • ZnO는 3.37eV의 넓은 에너지 밴드갭을 가지고 있으며, 60meV의 큰 엑시톤(exciton) 결합에너지의 특성을 가지고 있어 UV 영역의 소스로서 가장 활용도가 클 것으로 예상된다. 특히 ZnO 박막은 청색과 자외선 발광소자 및 광전자 소자, 화학적 센서로 활용이 가능하다. 최근 ZnO 박막을 이용한 LED 및 LD 소자 제작에 대한 연구가 국내외적으로 매우 활발하게 이루어지고 있다. 이런 소자를 제작할 때 가장 우선시 되는 것이 ZnO 박막의 전기적은 특성(캐리어 밀도, 전도도, 이동도, 비저항)이다. ZnO 박막을 성장하는 방법으로는 sputtering, PLD, MOCVD, sol-gel 법 등 여러방법이 있지만, MOCVD 법은 소스인 DEZn 와 산소의 유량이 조절이 가능하여 박막의 특성 다양하게 변화시킬 수 있는 장정이 있다. 본 연구에서는 MOCVD 법을 이용하여 사파이어 기판위에 ZnO 박막을 성장 시켰다. 성장 시 VI족 소스인 산소가스와 II족 소스인 DEZn 양을 조절함으로써 이때 변화되는 박막의 전기적, 광학적, 구조적 특성에 대해 연구하였다.

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Growth mode of ZnO nonostructure grown by MOCVD (MOCVD로 저온 성장된 ZnO 나노구조의 성장 모드)

  • Kim, Dong-Chan;Kong, Bo-Hyun;Cho, Hyung-Koun;Park, Dong-Jun;Lee, Jeong-Yong
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2007.06a
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    • pp.387-387
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    • 2007
  • 기능성 나노소자를 구현할 수 있는 나노 소재로 0차원 구조의 양자점(quantum dot)과 1차원 구조의 양자선 및 나노선(nanorod)이 제안되고 있다. 나노선의 경우 나노스케일의 dimension, 앙자 제한 효과, 탁월한 결정성, self-assembly, internal stress등 기존의 벌크형 소재에서 발견할 수 없는 새로운 기능성이 나타나고 있어서 바이오, 에너지, 구조, 전자, 센서 등의 분야에서 활용되고 있다. 현재 국내외적으로 널리 연구되고 있는 나노선으로는 Si 및 Ge, $SnO_2$, SiC, ZnO 등이 있으며 특히, ZnO는 우수한 물리적 전기적 특성과 함께 나노선으로의 합성이 비교적 쉬워 주목받고 있는 재료이다. ZnO의 합성방법으로는 thermal CVD, MOCVD, PLD, wet-chemistry 등 다양한 방법이 사용되고 있다. 특히 MOCVD 법은 수직 정렬된 ZnO 나노막대를 합성하기가 매우 용이하다. 본 실험에서는 자체개발된 MOCVD 장비를 이용한 일차원 ZnO 나노선을 성장하였다. 이러한 ZnO 나노선의 성장은 사파이어 기판과 실리콘 기판 위에서 이루어졌으며 기판의 종류와 격자상수 불일도에 따른 상이한 성장과정을 온도에 따른 나노선 성장에서 관찰할 수 있었다. 사파이어 기판의 경우, 240도의 온도에서는 박막형상을 지닌 ZnO가 온도가 320도 이상으로 상승하면서 나노선으로 변함을 보였고, 실리콘 기판의 경우 380도 이상에서 기울기률 가진 나노선을 관찰하였으며, 420도에서는 나노선을 관찰 할 수 없었다. 또한 PL 장비를 이용한 PL 강도와 성장과정을 연관하여 생각하였을 때, 나노선의 기물기가 PL 강도비과 연관성을 가진다는 것을 측정을 통해 확인하였다.

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Conformal Zinc Oxide Thin Film Deposition on Graphene using molecular linker by Atomic Layer Deposition

  • Park, Jin-Seon;Han, Gyu-Seok;Jo, Bo-Ram;Seong, Myeong-Mo
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2016.02a
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    • pp.280.2-280.2
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    • 2016
  • The graphene, a single atomic sheet of graphite, has attracted tremendous interest owing to its novel properties including high intrinsic mobility, optical transparency and flexibility. However, for more diverse application of graphene devices, it is essential to tune its transport behavior by shifting Dirac Point (DP) of graphene. So, in the following context, we suggest a method to tune structural and electronic properties of graphene using atomic layer deposition. By atomic layer deposition of zinc oxide (ZnO) on graphene using 4-mercaptophenol as linker, we can fabricate n-doped graphene. Through ${\pi}-{\pi}$ stacking between chemically inert graphene and 4-mercaptophenol, conformal deposition of ZnO on graphene was enabled. The electron mobility of graphene TFT increased more than 3 times without considerably decreasing the hole mobility, compared to the pristine graphene. Also, it has high air stability. This ZnO doping method by atomic layer deposition can be applicable to large scale array of CVD graphene TFT.

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Aging Characteristics of the Green Phosphors for PDP Application

  • Han, Bo-Yong;Yoo, Jae-Soo
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 2005.07b
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    • pp.1262-1265
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    • 2005
  • The picture quality of a plasma display panel is very sensitive to the phosphor characteristics such as decay time, surface state, and even longevity of phosphor material in itself. In this work, material characteristics of $Zn_2SiO_4:Mn$, $Y_2O_3-coated$ $Zn_2SiO_4:Mn$, and $YBO_3:Tb$, which are dominant in commercial application, were examined for investigating the aging characteristics of green PDP phosphors. It was found that $Y_2O_3-coated$ $Zn_2SiO_4:Mn$ are easily degraded at high temperature. However, all the samples were very weak after vacuum annealing. The luminescence intensity was decreased by order of one magnitude.

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Synthesis and Optical Characteristics of Green-Emitting (Mg,Zn)$Al_2O_4:Mn^{2+}$ Phosphor for 3D- PDP Applications

  • Han, Bo-Yong;Yoo, Jae-Soo;Heo, Eun-Gi;Yoo, Young-Gil
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 2009.10a
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    • pp.272-275
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    • 2009
  • A new green phosphor, ($Mg_{1-x-yZnx)$)$Al_2O_4:Mn^{2+}{_y}$ (0 x 0.6, 0.001 y 0.01), was synthesized by a flux-assisted solid reaction and its vacuum ultraviolet (VUV) excitation and emission characteristics were examined in this study. The chromaticity and peak intensity of the $(Mg_{0.79}Zn_{0.2})Al_2O_4:Mn^{2+}{_{0.01}}$ (x = 0.177, y = 0.745) phosphor were found to be more desirable than that of $Zn_2SiO_4:Mn^{2+}$ (x = 0.216, y = 0.72) phosphor as a green primary color.

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ZnO Arrester Diagnosis by Measurement of Temperature (온도측정에 의한 산화아연형 피뢰기 진단)

  • Kim Gyung-Suk;Han Ju-Seop;Song Jae-Yong;Seo Hwang-Dong;Moon Seung-Bo;Park Tae-Gone
    • The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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    • v.54 no.8
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    • pp.361-364
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    • 2005
  • In this paper, surface temperatures of ZnO arresters as a function of ambient temperatures and leakage currents were experimentally investigated. The variations of the leakage current was below 10 uA, which comes about $4.5\%$ of the normal leakage current. Temperature differences between the ambient and the surface of arresters were not shown until $150\%$ to the normal leakage current, and were remarkable over $200\%$. From the results, we deduced a couple of polynomials which enables the calculation of the leakage current by the measurement of surface temperature. Tests on used arresters have shown the same results as the experimental one. Also, we expect that an arrester diagnosis is possible by measuring the surface temperature of them after more studies on the effect of wind, moisture penetration, and arrester types.

Influence of VI/II flow ratio on the growth of ZnO thin films using MOCVD at low temperature (MOCVD 법으로 저온에서 성장한 ZnO 박막의 VI/II 족 유량비의 영향)

  • Gong, Bo-Hyeon;Kim, Dong-Chan;Kim, Yeong-Lee;An, Cheol-Hyeon;Gang, Si-U;Jeon, Sang-Uk;Han, Won-Seok;Jo, Hyeong-Gyun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.04a
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    • pp.49-50
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    • 2007
  • MOCVD 법으로 사파이어 기판위에 ZnO 박막을 성장시켰으며, 이때 VI/II 족 유량비를 변화 시켜 나타나는 박막의 특성 변화에 대해 연구하였다. 유량비가 증가할수록 박막의 결정성과 광특성이 향상되는 것을 관찰할 수 있었다. 또한 유량비가 증가할수록 전기전도도와 캐리어 농도가 증가하는 것을 관찰할 수 있었다.

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