• 제목/요약/키워드: Wet relaxation

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Clinical Evaluation of Selected Naturopathic Therapeutic Procedures in Individuals with Low Back-pain

  • Attanayake, AM Pushpika;Somarathna, KIWK;Vyas, GH;Dash, SC
    • 한국자연치유학회지
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    • 제10권2호
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    • pp.71-76
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    • 2021
  • Background: The understanding of back-pain as one of the commonest clinical presentations, made the path to the present study. More than three-quarters of the world's population experience back-pain at some time in their lives Purpose: The present study has evaluated the selected Naturopathic therapeutic procedures on individuals with low back-pain. Methods: Thirteen patients were selected for the study and randomly divided into two groups, viz., Group A, Naturopathic group and Group B, Control group. One patient discontinued. Naturopathic group was treated with mud pack, aromatherapy massage with Eucalyptus oil, acupressure, steam, wet trunk pack, exercises, relaxation and breathing exercises. Advice for life style and diet was given for patients of both the groups. The effect of the therapy was assessed subjectively and objectively. Particular scores drawn for Naturopathic group and control group were individually analyzed before and after treatment and the values were compared using standard statistical protocols. Results: Naturopathic intervention revealed 100% relief in both subjective and objective parameters (i.e., 6 out of 14 parameters showed statistically highly significant P < 0.01 results, while 8 showed significant results P < 0.05). Conclusion: Statistically highly significant results of this study point out the successful management of the multi factorial low back-pain with a multi focused Naturopathic treatment approach. Such encouraging results may pave the way for a future study on a large sample in a longer duration incorporating clinical investigations.

$N_2O$ 분위기에서 열산화법으로 성장시킨 $SiO_2$초박막의 전기적 특성 (Electrical Characterization of Ultrathin $SiO_2$ Films Grown by Thermal Oxidation in $N_2O$ Ambient)

  • 강석봉;김선우;변정수;김형준
    • 한국재료학회지
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    • 제4권1호
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    • pp.63-74
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    • 1994
  • $SiO_{2}$초박막(ultrathin film)의 두께 조절 용이성, 두께 균일성, 공정 재현성 및 전기적 특성을 향상시키기 위해 실리콘을 $N_{2}O$분위기에서 열산화시켰다. $N_2O$분위기에서 박막 성장시 산화와 동시에 질화가 이루어지기 때문에 전기적 특성의 향상을 가져올 수 있었다. 질화 현상에 의해 형성된 Si-N결합 형성은 습식 식각율과 ESCA분석으로 확인할 수 있었다. $N_2O$분위기에서 성장된 $SiO_{2}$박막은 Fowler-Nordheim(FN)전도 기구를 보여주었으며, 절열파괴 특성과 누설 전류특성 및 산화막의 신뢰성은 건식 산화막에 비해서 우수하였다. 또한 계면 포획밀도는 건식 산화막에 비해 감소하였고, 전하를 주입했을 때 생성되는 계면 준위의 양 또는 크게 감소하였다. 산화막 내부에서의 전하 포획의 양도 감소하였고, 전하를 주입하였을 때 생성되는 전하 포획의 양도 감소하였다. 이와 같은 전기적인 특성의 향상은 산화막 내부에서 약하게 결합하고 있는 Si-O 결합들이 Si-N결합으로의 치환과 스트레스 이완에 의하여 감소하였기 때문이다.

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