Effect on hydrothermal treatment of lamellar vanadium oxides was investigated and the formation of hexagonal and cubic mesophase was found. This lamellar materials were prepared by mixing of cetyltrimethylammonium-bromide and pH-controlled sodium metavanadate solution. Thermal method and UV/O₃treatment were applied to extract organic template. The structure of resulting product was studied by powder X-ray diffraction and transmission electron microscopy (TEM).
The ultraviolet blocking agents used to skincare are largely classified ultraviolet scattering agent and ultraviolet absorbent agents. There are UVC, UVB, and UBA in ultraviolet ray(UV) showing shorter wavelength than visible light. Both visible light and UVA give rise to 1st dark-skinned phenomena. On exposure of the skin to UV, phenomena of skin variation are termed sunburn or suntan. There are chronic and acute adverse reactions in skin response to UV. The latter is caused by UVB, which has mainly effects on the skin. But lately due to destruction of ozone layer, UVA has more serious irritation on the skin than UVB. In this paper spectrometric properties of UV absorbent agents such as PABA, octyl-PABA, Urocanic acid, and 2-hydroxy-4-methoxy benzophenone in vitro have been investigate. As results, it was found that the three fomer were more suitable than the last. UV scattering measurements on the sample used inorganic pigments showed that pigments containing titanium dioxide had a better scattering effects than the inorganic pigments such as $Fe_2O_3$, $Al_2O_3$, etc.
Urethane-acrylate propelymers for secondary coating of optical fiber and high - performance material were prepared from the 4,4'-diphenylmethane diisocyanate(MDI), poly(tetramethylene oxide)glycol(PTMG, Mw 650 or 1000), 1,6-hexanediol(HD), 2-hydroxyethyl acrylate(HEA), and dibutyltin dilaurate as a catalyst. UV-Curable polyurethane acrylates were formulated from the urethane-acrylate prepolymers, three types of reactive diluents(DTs) having mono-, di-, and trifunctional-phenoxyethyl acrylate(PEA), hexanediol diacrylate(HDDA), and trimethylolpropane triacrylate(TMPTA), and 1-hydtoxycyclohexyl phenyl ketone(Irgacure 184) as a photoinitiator. The UV-cured films of polyurethane acrylates were obtained by curing using a medium-pressure mercury lamp(U W/cm, $\lambda_{max}=365\;nm)$. In this work, the effects of molecular weights of polyol and diol with low molecular weight into polymer chain on mechanical and dynamic mechanical properties of UV-cured polyurethane acrylates were studied. The structure and properties of the films obtained from the UV photopolymerization of urethane-acrylate prepolymer were investigated by FT-IR spectroscopy, dynamic mechanical measurement, tensile testing, and X-ray diffractometry.
New organic-inorganic composite of 2,4-dihydroxybenzophenone (BP-1) encapsulation into dodecylbenzenesulfonate (DBS) modified layered double hydroxide (LDH) was successfully prepared. The surface, structural, thermal and absorption properties of the BP-1/DBS-LDH nanohybrid was characterized by BET analysis, scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction (XRD), Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR), thermogravimetric analysis (TG) and diffuse reflectance UV-Vis absorbance spectra (DRUV-vis). The interlayer configuration of composite and the adsorption mechanism of BP-1 on MgAl-DBS-LDH were discussed. It was suspected that DBS anions located in the form of monolayer arrangement with a $75^{\circ}$ anti parallel angle between dodecylbenzenesulfonate chain axis. The diffuse reflectance UV-Vis absorbance results revealed that the UV absorbing wavelength of BP-1/DBS-LDH evidently extends to about 400 nm, which shows that the BP-1/DBS-LDH has the potential application as a UV absorber.
반도체 소자가 점점 고집적회되고 고성능화되면서 Si 기판 세정 방법은 그 중요성이 더욱 더 커지고 있다. 특히 ULSI급 소자에서는 세정 방법이 소자 생산수율 및 신뢰성에 큰 영향을 끼치고 있다. 본 연구에서는 HF-last 세정에 UV/O3과 SC-1 세정을 삽입하여 그 영향을 관찰하였다. 세정 방법은 HF-last 세정을 기본으로 split 1(piranha+HF), split 2(piranha+UV/O3+HF), split 3(piraha+SC-1+HF), split 4(piranha+(UV/O3+HF) x3회 반복)의 4가지 세정 방법으로 나누어 실험하였다. 세정을 마친 Si 기판은 Total X-Ray Fluorescence Spectroscopy(AFM)을 사용하여 표면거칠기를 측정하였다. 또한 세정류량을 측정하고, Atomic Force Microscopy(AFM)을 사용하여 표면거칠기를 측정하였다. 또한 세정후 250$\AA$의 gate 산화막을 성장시켜 전기적 특성을 측정하였다. UV/O3을 삽입한 split 2와 split 4세정방법이 물리적, 전기적 특성에서 우수한 특성을 나타냈고, SC-1을 삽입한 split 3세정 방법이 표준세정인 split 1세정 방법보다 우수하지 못한 결과를 나타냈다.
In this paper, solution based Indium Zinc Oxide thin film transistors (IZO TFTs) were fabricated with PVP gate dielectric. To enhance the electrical properties, UV-O3 treatment is proposed on solution based IZO TFTs. The gate leakage current and interface trap density is compatible with conventional ZnO-based TFT with inorganic gate insulator. Especially, the UV-treated device shows improved electrical characteristics compared to the untreated device. These results can be explained by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis, which shows that the oxygen vacancy of UV-O3 treatment is higher than that of no treatment.
소형 밀폐공간(48 liter)과 가정용냉장고(330, 450 liter)에서 살균 및 탈취효과를 가진 자외선공기청정기를 설계, 제작하였다. 자외선램프의 자외선강도는 $2.38\;mW/cm^2$이며 강도증폭을 위하여 내부에 반사판을 설치하였다. 자외선에 의한 오존발생량은 $25^{\circ}C$ 에서는 0.08 ppm, $3^{\circ}C$ 에서는 0.06 ppm이었다. 본 장치를 사용하여 부유균에 대한 살균율은 공간(48 liter)에서는 12시간 가동 후 78.9%, 가정용냉장고에서는 80%을 보였다. 동장치는 $25^{\circ}C$에서 전기 방전식 오존탈취기에 비하여 2.5배, $3^{\circ}C$에서 2배의 탈취력을 보였다. 김치 냄새의 주요성분인 methyl mercaptan에 대한 탈취력은 $3^{\circ}C$에서 3배 이상이었다.
$Ca_2SiO_4$를 모체로 한 열형광체에도 활성제로 La를 0.1 wt.%, 0.3 wt.%, 0.5 wt.%, 1.0 wt.%의 농도로 첨가하여 $1000^{\circ}C$의 질소 분위기의 전기로에서 90분 동안 소결한 후 입자의 크기를 $100{\mu}m$로 일정하게 선별한 후 측정에 사용하였다. 저에너지 X-선을 조사한 후 측정한 경우 0.1 wt.%에서 상대적으로 열형광 강도가 크게 나타났다. peak shape 법으로 구한 활성화 에너지는 0.434 ~ 0.516 eV이며, 주파수 인자는 0.5 ~ 0.56으로 2차 발광이었다. 자외선을 조사한 후 측정한 경우 0.3 wt.%에서 상대적인 열형광 강도가 크게 나타났고, 활성화 에너지는 0.415 ~ 0.477 eV이며, 주파수 인자는 0.5 ~ 0.53 으로 2차 발광이었다. 저에너지 방사선에 대한 방사선량과 열형광 강도는 선형적임을 나타내어 열형광선량계로서 좋은 특성을 나타내고 있다. 본 연구에서 제작한 $CaB_4O_7$, $Ca_2SiO_4 열형광체는 저에너지 영역의 방사선에 대하여 우수한 열형광 특성을 가짐을 알 수 있었고, 향후 선량계의 제작에 좋은 물질이 될 것으로 생각한다.
본 논문에서는 격자 공정 중에 KrF 엑시머 UV 레이저 노출시간에 따른 광섬유 브래그 격자의 $Co^{60}$ 감마방사선 영향을 연구하였다. 광섬유 브래그 격자는 게르마늄이 첨가된 일반 광섬유를 이용하였으며, UV KrF 엑시머 레이저 노출시간(30, 60, 90, 120초)을 달리하여 제작하였다. 제작된 광섬유 브래그 격자에 106 Gy/min 선량률로 총 선량 34.3 kGy 감마선을 조사한 후 방사선에 의한 온도감도 계수와 브래그 파장 변화를 분석하였다. 실험결과를 통하여, 격자 공정을 위한 UV 레이저 노출시간이 광섬유 브래그 격자의 방사선 민감도에 큰 영향을 줄 수 있다는 것을 확인하였다. 레이저 노출조건 변화에 따른 방사선에 의한 광섬유 브래그 파장의 변화는 최대 50 % 이상의 차이를 보였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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