• 분석과학
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• 제13권2호
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• pp.250-257
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• 2000

페인트, 섬유, 잉크 등은 범죄현장에 유류되는 많은 증거물 중 가장 빈번하게 접하게 되는 법과학 증거물로서 이들에 대한 분석 결과는 범죄현장과 피해자 또는 피의자, 피해자와 피의자간의 상황 재구성 및 인과관계, 도주 용의 차랑 등의 추적에 결정적인 역할을 하고 있다. 그러나 이들 시료는 육안으로 거의 확인이 되지 않을 만큼 극미량의 미세한 시료가 대부분이므로 법과학분야에서 미세시료에 대한 체계적인 분광학적 분석법이 대두되고 있다. 본 연구에서는 현미 자외/가시광선 현미분광광도계를 이용하여 섬유 14종, 국내 자동차 차체 페인트 2개 색상 44종 및 3개 회사의 컬러 프린트용 잉크로 인쇄한 4개 색상 12종에 대해 자외선/가시광선 영역(240-780nm)에서 투과 및 반사 측정법으로 측정하였으며, 각각 특징적인 흡수대로 섬유, 페인트 및 잉크의 이동식별이 가능하였다.

• 한국정밀공학회지
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• 제24권12호
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• pp.136-142
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• 2007

Precise fabrication of three-dimensional (3D) self-standing microstructures on thin glass plates via two-photon induced polymerization (TPP) has been an important issue for innovative 3D nanodevices and microdevices. However, there are still issues remaining to be solved, such as building 3D microstructures on opaque materials via TPP and being able to implant them as functional parts onto practical systems. To settle these issues simply and effectively, we propose a contact print lithography (CPL) method using an ultraviolet (UV)-curable polymer layer. We report some of the possibilities and potential of CPL by presenting our results for transplanting 3D microstructures onto large-area substrates and also our examination of some of the effects of the process parameters on successful transplantation.

• 한국인쇄학회지
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• 제20권2호
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• pp.131-140
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• 2002

Chemically amplified deep UV(CA-DUV) resists are typically based on a combination of an acid labile polymer and a photoacid generator(PAG) but acid amplification type photoresist is formulated by addition of the acid amplifiers to chemically amplified resist system(CAPs). We developed acid amplifiers base on cyclohexanediol such as 1-methacryloyloxy-4-tosyloxy cyclohexane(MTC) and poly(MTC$_{10}$-co-tBMA$_{90}$)(P-1) to enhance photosensitivity. P-1 is a copolymer of tert-butyl methacrylate and MTC as a positive working photoresist based on polymeric acid amplifier in order to enhance photosensitivity and simplify the process of fomulating a photoresist. P-1 exhibited 2X higher photosensitivity compared with PtBMA. The acid amplifiers showed reasonable thermal stability for resist processing temperature and higher photosensitivity compared with chemically amplified resist.

• 한국인쇄학회지
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• 제19권2호
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• pp.22-29
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• 2001

Meso 치환 thiacarbocyanine 색소의 J-aggregate 형성시 치환기 효과와 열역학적인 정보를 얻기 위한 수단으로 UV/Vis 분광기를 이용하여 색소농도변화에 따른 회합정수 $K_{J}$ , 회합자유에너지G$_{J}$ , 회합엔탈피 H$_{J}$ 를 구하였다. 그 결과 농도증가와 함께 J-aggregate의 생성이 증가하였으며 온도감소와 함께 J-aggregate형성쪽으로 회합평형상수가 이동하였다. 치환기 효과로는 phenyl기의 치환이 평면구조를 형성하는데 있어서도 methyl, ethyl기 치환체보다 회합체형성이 유리하였으며 회합자유에너지와 회합엔탈피도 alkyl기 치환체보다 증가하였다.

• 한국인쇄학회지
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• 제18권2호
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• pp.125-132
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• 2000

Meso 치환 thiacarbocynin 색소의 회합체 형성시 치환기 효과와 열역학적인 정보를 얻기위한 수단으로 UV/Vis 분광기를 이용하여 색소농도 변화에 따른 회합정수 $K_{D}$, 회합자유에너지 $\Delta$ $K_{D}$, 회합엔탈피 $\Delta$ $H_{D}$를 구하였다. 그 결과 농도 증가와 함께 Dimer의 생성이 증가하였으며 온도감소와 함께 Dimer형성쪽으로 회합평형상수가 이동하였다. 치환기 효과로는 phenyl기의 치환이 평면 구조를 형성하는데 있어서는 methyl, ethyl기 치환체보다 회합체형성이 유리하였으며 회합자유에너지와 회합엔탈피도 alkyl기 치환체보다 증가하였다.하였다. 회합자유에너지와 회합엔탈피도 alkyl기 치환체보다 증가하였다.다.

• 한국재료학회지
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• 제17권12호
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• pp.676-681
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• 2007

According to progress rapidly digitalization, networked and mobilization of electronics industry, there are demands for being smaller, thinner, more light, and more efficient complex functions of electronic devices which are wireless devices, semi-conductors, packages and mobile devices. Therefore, the solder resist on a printed circuit board have been required with the high resolution and the eco-friendly materials in the surface treatments such as high heating process and coating process with electrolysis. In this study, the photoinitiator initiator and monomers of the solder resist were prepared with their contents for reducing the occurrence of the under-cut. We investigated the sample surface by UV/VIS spectrometer, FT-IR, OM after HASL and ENIG process. From our results, it is possible to get a high adhesion of resist with optimal contents between the photoinitiator initiator and monomers after surface treatments.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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• pp.269-269
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• 2008

통상적으로 PCB 연성 기판에는 회로를 보호하기 위한 절연 보호 층이 부착되어 있다. 이 절연 보호 층은 보통 기계적 강도를 갖는 외부 층과 접착력을 가지는 2층 구조로 이루어져 있다. 필름 형태의 보호 층을 회로에 hot lamination 등의 공정을 수행하여 절연 보호 층이 형성된다. 본 연구에서는 복잡한 형상 제어와 보다 정밀한 제품에 응용하기 위하여 보호 층 형성 공정에 잉크젯 공법을 적용하였다. 잉크젯 공정을 이용할 경우 계산된 정략의 액적을 정확한 위치에 탄착시킴으로서 좀 더 정밀한 보호 층 형성이 가능하다. 또한 원하는 위치에 선택적으로 형성 가능한 잉크젯 공법의 장점으로 인해 현 공정대비 원가 절감의 효과가 극대화 된다. 본 연구에서는 보호 층형성에 필요한 재료 선정을 위한 열 경화 잉크 및 UV잉크의 토출성과 퍼짐성 분석 및 인쇄 공정에 대한 연구를 수행하였다.

• 한국광학회지
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• 제23권1호
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• pp.12-16
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• 2012

본 논문에서는 연성 광 인쇄회로기판(printed circuit board, PCB) 개발을 위한 핵심 부품인 연성 광도파로를 자외선 임프린트(ultra violet imprint, UV-imprint) 공정에 의해 제작하고 도파손실, 굴곡손실, 반사손실 및 반복굴곡에 대한 내구성을 측정하였다. 먼저, 초정밀 기계가공에 의해 광도파로 패턴과 $45^{\circ}$ 미러 구조를 포함하는 니켈 마스터를 제작 후 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS)를 이용하여 탄성체 몰드를 역상 복제 하였다. 역상 복제된 PDMS 몰드를 이용해 UV-imprint 공정에 의한 광도파로의 코어패턴과 $45^{\circ}$ 미러면을 동시 형성하여, $45^{\circ}$ 미러가 내장된 광도파로를 제작하였다. 또한, 광도파로의 끝단을 통상적 방법인 V-sawing 공정으로 $45^{\circ}$ 미러 구조를 가공하여 미러 내장형 광도파로와 미러 특성을 비교하였다. 제작된 연성 광도파로는 단위 길이당 0.035 dB/cm의 도파손실을 나타내었으며, 반경 1 mm의 $180^{\circ}$ 굴곡 조건에서 0.77 dB의 굴곡손실을 나타내었다. 또한, 굴곡각도 $135^{\circ}$, 굴곡반경 2.5 mm의 반복굴곡 실험에서 10 만회 이상의 반복굴곡에 대한 우수한 내구성을 확인하였다. 내장된 $45^{\circ}$ 미러의 반사효율을 향상시키기 위해 미러면에 Ni-Au 이중 박막을 증착하여 2.18 dB의 반사손실을 가진 미러내장형 연성 광도파로를 제작하였다.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제11권1호
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• pp.21-28
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• 2004

Polytetrafluoroethylene (PTFE/Teflon ) 인쇄회로기판용 미세 피치 솔더 범프 형성을 위해 dry film photoresist (DFR)를 photolithography 공정에 적용하였다. DFR lamination을 위한 test board는 폭 100$\mu\textrm{m}$와 두께 18$\mu\textrm{m}$의 copper line들이 100-200$\mu\textrm{m}$의 간격으로 배열된 형태로 디자인하였다. 15$\mu\textrm{m}$의 두께를 갖는 DFR을 hot roll laminator를 사용하여 lamination 온도와 속도를 변화시켜가면서 lamination 공정 실험을 수행하였다. 실험 결과, PTFE 인쇄회로기판에 DFR을 lamination하는 공정의 최적 조건은 lamination 온도 $150^{\circ}C$, 속도 약 0.63cm/s였다. UV exposure 및 development 공정을 거쳐 저융점 솔더 재료인 인듐을 증착하였다. DFR 박리 순서에 따른 두 가지 다른 reflow 공정을 통해 최소 지름 50$\mu\textrm{m}$, 최소 피치 100$\mu\textrm{m}$를 갖는 인듐 솔더 범프를 형성하였다.

• 한국인쇄학회지
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• 제29권3호
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• pp.105-124
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• 2011

TFT-LCD consists of LCD panel on the top, circuit unit on the side and BLU on the bottom. The recent development issues of BLU-dependent TFT-LCD have been power consumption minimization, slimmerization and size maximization. As a result of this trend, LED is adopted as BLU instead of CCFL to increase brightness and to reduce thickness. In liquid crystal displays, the light efficiency is below 10% due to the loss of light in the path from a light source to an LCD panel and presence of absorptive polarizer. This low efficiency results in low brightness and high power consumption. One way to circumvent this situation is to use a reflective polarizer between backlight units and LCD panels. Since a nano-wire grid polarizer has been known as a reflective polarizer, an idea was proposed that it can be used for the enhancement of the brightness of LCD. The use of reflective polarizing film is increasing as edge type LED TV and 3D TV markets are growing. This study has been carried out to fabrication of the nano-wire grid polarizer(NWGP) and investigated the brightness enhancement of LCD through polarization recycling by placing a NWGP between an c and a backlight unit. NWGPs with a pitch of 200nm were fabricated using laser interference lithography and aluminum sputtering and wet etching. And The NWGP fabrication process was using by the UV imprinting and was applied to plastic PET film. In this case, the brightness of an LCD with NWGPs was 1.21 times higher than that without NWGPs due to polarization recycling.