• The Korean Journal of Ceramics
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• 제2권4호
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• pp.212-215
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• 1996

This paper focuses the strength and wear resistance of CVD diamond films. The strength of free-standing CVD diamond films synthesized by microwave plasm CVD, DC plasma CVD, RF plasma CVD and arc discharge plasma jet CVD has been measured by three-point bending test. The wear resistance of CVD diamod films has been evaluated by the pin-on-disk type testing. diamond films coated on the base of sintered tungsten carbide pin by hot filament CVD have been rubbed with a sintered diamond disk in muddy water. Volume removed wear of CVD diamond has been compared with stellite, WC alloy and bearing steel.

• 통합자연과학논문집
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• 제8권3호
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• pp.147-152
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• 2015

Photoluminescent porous silicon (PSi) were prepared by an electrochemical etch of n-type silicon under the illumination with a 300 W tungsten filament bulb for the duration of etch. The red photoluminescence emitting at 620 nm with an excitation wavelength of 450 nm is due to the quantum confinement of silicon nanocrystal in porous silicon. As-prepared PSi was sonicated, fractured, and centrifuged in toluene to obtain photoluminescence silicon quantum dots. BET and BHJ methods were employed to study the specific surface area of as-prepared PSi. Optical characterization of red photoluminescent silicon nanocrystal was investigated by UV-vis and fluorescence spectrometer. Also SEM and TEM images of porous silicon and nanoparticles were investigated.

• 한국광학회지
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• 제6권3호
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• pp.173-177
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• 1995

칼날주사방법을 이용한 CCD의 MTF 측정장치를 제작하고 일차원 CCD의 MTF특성을 측정하였다. 주사방향에 수직인 직선과 칼날이 이루는 각도에 따른 CCD MTF 측정값의 변화는 $1^{\circ}$ 미만의 작은 각도변화에 의해서도 MTF값이 크게 변함을 알 수 있었으며 CCD의 MTF 측정값은 간섭필터와 텅스텐 필라멘트가 조합된 파장에 따라 다른 값을 나타내었다. 또한 광원의 색온도 변화에 의한 CCD의 MTF특성과 CCD 화소들의 균일성을 조사하였다.

• 통합자연과학논문집
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• 제14권4호
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• pp.147-154
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• 2021

A luminescent porous silicon sensor, whose surface was passivated with organic molecule via hydrosilylation under various conditions, has been researched to measure the photoluminescence (PL) stability of porous silicon (PSi). Photoluminescent PSi were synthesized by an electrochemical etching of n-type silicon wafer under the illumination with a 300 W tungsten filament bulb during the etching process. The PL of PSi displayed at 650 nm, which is due to the quantum confinement of silicon quantum dots in the PSi. To stabilized the photoluminescence of PSi, the hydrosilylation of PSi with silole molecule containg vinyl group was performed. Surface morphologies of fresh PSi and surface-modified PSi were obtained with a cold FE-SEM. Optical characterization of red photoluminescent silicon quantum dots was investigated by UV-vis and fluorescence spectrometer.

• 한국안전학회지
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• 제31권2호
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• pp.18-25
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• 2016

The incandescent lamp is an electric light fixture with a tungsten filament heated to a high temperature, by passing an electric current through it, until it glows with visible light. The hot filament is protected from oxidation with a glass bulb that is filled with inert gas. The incandescent lamp has fire risk when combustible materials are close to its glass bulb. Because its lamp has the property which converts 90~95 percents of the electric power to heat energy. 2015 national fire statistics show that fires caused by lighting fixtures were 652 cases, and incandescent lamps(44 cases) and halogen lamps(53 cases) accounted for 15 percents in those of high heating light fixtures. Since incandescent lamp fires account for about 45 percents in the high heating light fixture, we could not overlook the fire risks by the incandescent lamp. Although many studies related with those have been conducted, incandescent lamp fires are continuously occurred. This study was carried out to study the fire risk of ignition of wood due to radiant heat of incandescent lamp. Radiant heat flux of the incandescent lamp was predicted by applying point source model, and critical distance for ignition of wood was calculated by applying integral model. The results from this study could applied to fire prevention activities related to light bulb, and it could be used in fire cause investigations related to radiant heat of incandescent lamp.

• 한국결정학회지
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• 제5권1호
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• pp.39-50
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• 1994

Hot Tungsten Filament법에 의해 실리콘(Si), 몰리브데늄(Mo), 타이타늄(Ti), 텅스텐(W) 기판 위에 다이아몬드 박막을 증착시시키고 SEM, X선 회절분석 및 Raman spectroscopy로 분석하였다. 증착시간에 따른 증착실험의 결과로부터 내열금속위에 증착한 다이아몬드박막의 경우에는 먼저 탄화물 층이 형성되고, 그 이후에 다이아몬드가 핵형성되어 성장함을 알 수 있었다. 내열금속에 증착한 다이아몬드 박막은 5기판 위에 증착한 것과 비교할 때, 핵이 많이 형성되었고 facet이 잘 발달된 입자가 적었다. 5기판 뿐만 아니라 내열금속 기판 위에 다이아몬드막을 증착시킬 경우, 다이아몬드의 Raman 피크는 천연 다이아몬드에 비해 높은 주파수쪽으로 이동되었다. 이와같은 Raman 피크의 이동은 다이아몬드와 기판 사이의 열충격보다는 완충층의 역활을 하는 탄화물과 다이아몬드 사이의 열충격을 고려할 때 효과적으로 설명이 가능하였다. 생성된 탄화물의 형태와 다이아몬드 사이에 열충격이 가장 큰 Mo기판의 경우, 다이아몬드 Rarirm 피크의 이동이 가장 크게 나타났으며 Ti, W, Si기판의 순서로 이동이 적게 관찰되었다.

• 한국진공학회지
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• 제18권3호
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• pp.197-202
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• 2009

사중극 질량분석기(Quadrupole Mass Spectrometer, QMS) 이온전류의 안정성은 진공공정 가스를 모니터링 하는데 중요한 요소 중 하나이다. 진공챔버에 질소가스를 주입하여 압력을 일정하게 유지하면서 시간에 따른 이온전류의 변화를 모니터링 하였다. 진공챔버는 측정하기 전에 잡음신호를 줄이기 위해 ${\sim}3{\times}10^{-9}\;Torr$ 까지 배기하였고, 두개의 이온소스를 측정했다; 하나는 오염된 것으로 갈색 또는 검은색을 띄고 있고 다른 하나는 새 것이다. 질소 압력 $1{\times}10^{-5}\;Torr$에서, 오염된 이온소스의 이온 전류는 시간이 지남에 따라 더 빨리 감소했다. 대략 5.5 시간이 지난 후, 감소율은 새 것이 ${\sim}46%$이고 오염된 것은 ${\sim}84%$였다. 필라멘트 재질이 이온 전류감소에 미치는 영향을 관찰하기 위해서 텅스텐 선의 반을 산화이트륨($Y_2O_3$)으로 코팅하여 필라멘트를 제작하였다. 유사한 이온전류 감소현상이 재질이 다른 두 필라멘트에서 나타났는데 이것은 필라멘트 재질에 의한 온도의 변화 즉 baking 효과로는 이온전류 감소의 원인을 개선할 수 없다는 것을 의미한다. 전반적으로 이온전류의 감소율은 필라멘트 재질보다 이온소스의 오염과 더 밀접하게 관계되어 있다.

• 대한기계학회논문집A
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• 제35권5호
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• pp.479-485
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• 2011

열 전자 방출 형 전자 빔 장치에서 영상을 획득하기 위해서는 텅스텐 필라멘트에서 발생한 전자빔을 스캔 할 장치가 필요하다. 이때, 스캔 되는 주파수에 따라서 시료 표면에서 튀어 나오는 2 차 전자신호에 대하여 잡음 성분의 발생이 다르게 나타난다. 본 연구에서는 잡음 성분 제거를 위한 필터 설계를 위해서 2 차 전자신호에 대한 실시간 주파수 분석을 통해 신호와 잡음 성분을 구분했다. 그리고 부동 소수점 연산이 가능한 DSP 에서 디지털 필터 설계를 통하여 신호대비 잡음 성분 제거를 통하여 고배율로 획득한 전자현미경의 영상의 질을 향상 시켰다.

• 한국화재소방학회논문지
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• 제32권4호
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• pp.1-6
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• 2018

본 연구는 Schmidt-Boelter형 열유속계의 측정 불확실도를 정량화하기 위한 기초연구로서 제조사에서 제공되는 보정상수의 측정오차를 평가하였다. 보정실험은 미국립표준기술원(NIST) 화재연구부의 2000 W급 할로겐-텅스텐 램프를 열원으로 적용한 열유속계 보정장치를 이용하였으며 동일 열유속 조건들에 대해 보정대상 열유속계와 표준열유속계를 비교하여 보정상수를 얻었다. 3개 제조사의 열유속계에 대한 보정실험 결과를 제조사의 보정상수와 비교하였다. 열유속계의 출력신호의 섭동값은 $1{\cdot}$를 넘지 않았으며 보정실험결과와 제조사의 보정상수의 상대오차는 1.5% ~ 14.3%까지 차이를 보였다. 본 연구는 정확한 열유속을 측정하기 위해 지속적이고 주기적인 보정과정이 필요함을 보여준다.

• 한국재료학회지
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• 제9권9호
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• pp.861-864
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• 1999

다중 음극 전자빔을 이용한 새로운 플라즈마 소스를 설계하고 제작하였다. 대면적의 플라즈마를 발생시키기 위해 다중 음극을 채택하였다. 다중 음극 전자빔 플라즈마 소스(multi-cathode electron beam plasma source, MCEBPS)를 이용하여 300mm 또는 그 이상의 직경을 가진 웨이퍼에 안정한 플라즈마를 생성시킬 수 있었다. 텅스텐 필라멘트를 음극으로 사용하였다. 직경 320mm의 넓이에서, plasma potential $V_p$와 floating potential $V_f$ 모두 균일하게 유지되었고 $V_p와 V_f$의 차이도 낮은 값으로 나타났다. 플라즈마 밀도는 약 $10^{10} cm^{-3}$ 정도로 측정되었고 반경걸에 따른 편차는 작게 나타났다.