질소 분위기에서 순간역처리에 의해 형성시킨 $TiN/TiSi_2$ Contact Bsrrier Lauer의 특성
(Characteristics of $TiN/TiSi_2$ Contact Barrier Layer by Rapid Thermal Anneal in $N_2$ Ambient)
-
- 대한전기학회논문지
- /
- 제41권6호
- /
- pp.633-639
- /
- 1992