Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.24
no.3
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pp.215-218
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2011
A novel design of gas sensor using Ga-doped ZnO (GZO) thin films which are deposited on low temperature co-fired ceramic (LTCC) substrates is presented. The LTCC substrates with thickness of 400 ${\mu}m$ are fabricated by laminating 12 green tapes which consist of alumina and glass particle in an organic binder. The GZO thin films with different thickness are deposited on LTCC substrates, by RF magnetron sputtering method. The microstructure and sensing properties of GZO gas sensing films are analyzed as a function of the film thickness. The films are well crystallized in the hexagonal (wurzite) structure with increasing thickness. The maximum sensitivity of 3.49 is obtained at 100 nm film thickness and the fastest 90% response time of 27.2 sec is obtained at 50 nm film thickness for the operating temperature of $400^{\circ}C$ to the $NO_2$ gas.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.24
no.4
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pp.290-296
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2011
Carbon nanotubes (CNTs) have excellent electrical, chemical stability, mechanical and thermal properties. In this paper, networks of Multi-walled carbon nanotube (MWCNT) materials were investigated as a resistive gas sensors for the $H_2$ gas detection. Sensor films were fabricated by the air spray method using the multi-walled CNTs dispersion solution on the glass substrates cured with plasma and nitrocellulose. Sensors were characterized by the resistance measurements in the self-fabricated oven in order to find the optimum detection properties for the hydrogen gas molecular. The sensitivity and the linearity of the MWVNT sensors using the glass substrate cured with plasma for the $H_2$ gas concentration of 0.06~0.6 ppm are 0.013~0.097%/sec and 0.131~0.959%FS, respectively. The MWCNT film was excellent in the response for the hydrogen gas moleculars and its reaction speed was very fast, which could be using as hydrogen gas sensor. The resistance of the fabricated sensors decreases when the sensors are exposed to $H_2$ gas.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.11a
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pp.460-463
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2002
$MoO_3$ thin films were deposited on electrode and heater screen-printed alumina substrates in $O_2$ atmosphere by RF reactive sputtering using Molybdenum metal target. The deposition was performed at $300^{\circ}C$ with 350W of a forward power in an $Ar-O_2$ atmosphere. The working pressure was maintained at $3{\times}10^{-2}mtorr$ and all deposited films were annealed at $500^{\circ}C$ for 5hours. To investigate gas sensing characteristics of the addition doped $MoO_3$ thin film, Co, Ni and Pt were used as adding dopants. The sensing properties were investigated in tenn of gas concentration under exposure of reducing gases such as $H_2$, $NH_3$ and CO at optimum working temperature. Co-doped $MoO_3$ thin film shows the maximum 46.8% of sensitivity in $NH_3$ and Ni-doped $MoO_3$ thin film exhibits 49.7% of sensitivity in $H_2$.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.32
no.1
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pp.3-9
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1999
Pt thin film of about 7000$\AA$ thickness was deposited on the alumina substrate using DC Magnetron Sputter and the characteristics of the film for temperature sensor were investigated. When film of about 7000$\AA$ thickness was deposited at working gas pressure of $2.0{\times}10^{-3}$torr, sputtering power of 50W, substrate temperature of $350^{\circ}C$(Ts), sheet resistance(Rs), resistivity($\rho$) and temperature coefficient of resistivity(TCR) of the film were respectively 0.39$\Omega$/$\square$, 27.60$\mu\Omega$-cm and $3350 ppm/^{\circ}C$. When the film was annealed at $1000^{\circ}C$ for 240min in hydrogen ambient, Rs, $\rho$ and TCR were respectively 0.236$\Omega$/$\square$, 15.18$\mu\Omega$-cm and 3716 ppm/$3716 ppm/^{\circ}C$. When working gas of 15sccm oxygen and 100sccm Argon were used, Rs, $\rho$ and TCR were respectively 0.335$\Omega$/$\square$, 22.45$\mu\Omega$-cm and $3427 ppm/^{\circ}C$. When the film was annealed at $1000^{\circ}C$ for 240min, Rs, $\rho$and TCR were respectively 0.224/$\Omega$$\square$, 14$\mu\Omega$-cm and $3760 ppm/^{\circ}C$ and the characteristics of the film were much improved.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.105-105
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2011
ZnO is a promising material since it could be applied to many fields such as solar cells, laser diodes, thin films transistors and gas sensors. ZnO has a wide and direct band gap for about 3.37 eV at room temperature and a high exciton binding energy of 60 meV. In particular, ZnO features high sensitivity to toxic and combustible gas such as CO, NOX, so on. The development of gas sensors to monitor the toxic and combustible gases is imperative due to the concerns for enviromental pollution and the safety requirements for the industry. In this study, we investigated the effect of substrate temperature and post-annealing on structural and electrical properties of ZnO thin films. ZnO thin films were deposited by pulsed laser deposition (PLD) at various temperatures at from room temperature to $600^{\circ}C$. After that, post-annealing were performed at $600^{\circ}C$. To inspect the structural properties of the deposited ZnO thin films, X-ray diffraction (XRD) was carried out. For gas sensors, the morphology of the films is dominant factor since it is deeply related with the film surface area. Therefore, the atomic force microscopy (AFM) and field emission scanning electron microscopy (FE-SEM) were used to observe the surface of the ZnO thin films. Furthermore, we analyzed the electrical properties by using a Hall measurement system.
Polystyrene (PS) microspheres were used to good advantage as a template material to prepare macroporous $TiO_2$ thin films. This is enabled to run the thermal decomposition of the PS without the collapsing of the 3-D macroporous framework during the calcination step. $TiO_2$ thin films were deposited onto the colloidal templated substrates at room temperature by RF sputtering, and then samples were thermally treated at $450^{\circ}C$ for 40.min in air to remove the organic colloidal template and induce crystallization of the $TiO_2$ film. The macroporous $TiO_2$ thin film exhibited a quasi-ordered partially hexagonal close-packed structure. Burst holes, estimated to be formed during PS thermal decomposition, are seen as the hemisphere walls. the inner as well as the outer surfaces of the hollow hemispheres formed by the method of thermal decomposition can be easily accessed by the diffusing gas species. As a consequence, the active surface area interacting with the gas species is expected to be enlarged about by a factor of fourth as large as compared to that of a planar films. Also the thickness at neighboring hemisphere could be controlled a few nm thickness. If the acceptor density becomes as large that depletion width reaches those thickness, the device is in the pinch off-situation and a strong resistance change should be observed.
NOx is one of the toxin gases, which is mainly causing the optic-chemical smog phenomena, and decreasing in the function of nose and taste. Especially, NO is easily reacting with $O_3$, and then becoming the $NO_2$. $NO_2$ is mainly causing the acidulation rain. So, we should develop the NOx gas sensing system to detect NOx gas. In this paper, we present the microstructure and the NOx gas detecting properties of the nitrocellulose/MWCNT thin film coated by the air-spray on the glass substrate. The nitrocellulose/MWCNT-based gas sensors have been studied detecting NOx molecules of a ppm-level at the temperature range of $30{\sim}120^{\circ}C$. The resistance of the sensors decreases when the sensors are exposed to NOx gas. As a results, we obtained the nitrocellulose/MWCNT sensors with the sensitivity of 0.6%/sec under the 0.8 ppm of NOx gas concetration. Also, we get the activation energy of 0.202eV from the sensor for the 0.3 ppm of NOx gas concentration.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.06a
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pp.247-247
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2009
In this work, Ga-doped ZnO (GZO) thin films for toxic gas sensor application were deposited on low temperature co-fired ceramic (LTCC) substrates, by RF magnetron sputtering method. LTCC is one of promising materials for integration with heater, low cost production and high manufacturing yields than silicon substrate. The LTCC substrates with thickness of $400\;{\mu}m$ were fabricated by laminating 12 greentapes which consist of alumina and glass particle in an organic binder. The GZO thin films deposited on the substrates and were analyzed by X-ray diffraction method (XRD) and field emission scanning electron microscope (FESEM). The films are well crystallized in the hexagonal (wurzite) structure with increasing thickness. The fabricated sensors showed good sensitivity and fast response time to common types of toxic gases (NOx, COx).
$In_2O_3$-based thin film sensor with 500-600 nm thick was fabricated for the detection of CO gas by rf magnetron sputtering. In order to improve both sensitivity to CO gas and selectivity to hydrogen gas containing -CH, ultra-thin transition metal Co catalyst was sputtered over $In_2O_3$ thin film and annealed at $500^{\circ}C$. Sensitivity to CO was maximum at the thickness of Co 2.1 nm and $300^{\circ}C$, and that to $C_3H_8$ was at the thickness of Co 1.4 nm and $350-400^{\circ}C$. From the x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) result, ultra-thin Co was existed into CoO covered with $Co_2O_3$ on $In_2O_3$ particles, and thus p-n junction of $In_2O_3(n-type)$-CoO(p-type) was thought to be formed. In this p-n junction type sensors, sensing mechanism with reducing gases can be explained by the variation of depletion layer thickness formed in the interface.
In order to apply WO3 thin films to the semiconducting NOx gas sensors as a sensing material, which have been expected to show good electrical properties, such as large sensitivity, rapid responsibility, and high selectivity, the fabrication method and their sensing characteristics were studied. The variations of surface morphologies, crystallographic orientations and crystallinity with the WO3 thin film growing methods thermal evaporation and DC sputtering methods were investigated by using scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction(XRD) analysis. As a result of sensitivity (Rgas/Rair) measurements for the 5 ppm NO2 test gas, the sensitivity values were 113 for the sputtered films and 93 for the evaporated films. It was also observed that the recovery rate of a sensing signal after measuring sensitivity was faster in the sputtered films than in the evaporated films.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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