Effect of substrate temperature and hydrogen dilution on solid-phase crystallization of plasma-enhanced chemical vapor deposited amorphous silicon films (PECVD로 증착된 a-Si박막의 고상결정화에 있어서 기판 온도 및 수소희석의 효과)
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- Journal of the Korean Vacuum Society
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- v.7 no.1
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- pp.29-34
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- 1998