PLD를 사용하여 Ti doped K(Ta,Nb)O3 thin film의 유전특성을 위한 annealing 효과
(The effect of annealing for dielectric properties of Ti doped $K(Ta,Nb)O_3$ thin film using PLD)
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- 대한전자공학회:학술대회논문집
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- 대한전자공학회 2006년도 하계종합학술대회
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- pp.985-986
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- 2006