• 대한전자공학회논문지SD
• /
• 제37권1호
• /
• pp.29-35
• /
• 2000

전자빔 증착 장비를 이용하여 SrS:Cu,X TFEL 소자를 제작한 후, 발광 특성을 분석하였다. 형광체 모체는 SrS 분말을 사용하였고 발광 중심체로는 Cu, $CuF_2,\;Cu_2S$ 또는 CuCl 등의 미분말을 사용하였다. SrS:Cu,X TFEL 소자의 발광 특성은 부활성제에 따라 매우 많은 변화를 나타내었다. SrS:$Cu_2$ TFEL 소자의 휘도($L_{40}$)와 효율 (${\eta}_{20}$)은 각각 1443 cd/$m^2$와 2.44 lm/w를 나타내었고, 녹색 빛의 발광 효율은 ZnS:Tb TFEL 소자보다 높아 새로운 녹색 형광체로의 활용이 기대되었다. SrS:CuCl TFEL 소자의 휘도($L_{40}$)와 효율(${\eta}_{20}$)은 각각 262 cd/$m^2$와 0.26 lm/w를 나타내었고 청색 빛을 방출하여 새로운 청색 형광체로의 활용 가능성을 확인하였다.

• 센서학회지
• /
• 제6권1호
• /
• pp.63-71
• /
• 1997

ZnS:Mn/$ZnS:TbF_{3}$적층구조의 TFEL(thin-film eletroluminescent)소자를 제작하였으며, 이때 절연층으로 (Pb,La)$TiO_{3}$(이하PLT)와 $SiO_{2}$박막을 이용하였다. TFEL소자는 $78V_{rms}$의 문턱전압과 $100V_{rms}$의 인가전압에서 $400{\mu}W/cm^{2}$의 휘도를 나타내었다. TFEL소자의 발광스펙트럼은 450nm에서 630nm사이의 파장대를 보이고 있다. 제작된 TFEL소자는 컬러필터를 병용함으로서, 적 녹 청의 색상을 구현하는 TFEL소자로 활용할 수 있다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
• /
• 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
• /
• pp.1145-1148
• /
• 2008

The present status and trend of oxide phosphor thin-film development for thin-film electroluminescent (TFEL) device application are presented in this paper. Recently, several newly developed types of bendable or bendable see-through oxide TFEL lamps have been fabricated using the TFEL technology with a newly developed bendable ceramic sheet, glass sheet or sapphire sheet substrate, which has become available on the market. Stable operation at high temperatures was obtained in double-insulating-layer-type TFEL lamps fabricated with a $Zn_2Si_{0.6}Ge_{0.}4O_4$:Mn thin-film emitting layer forming on translucent or transparent bendable sheet substrates.

• 대한전자공학회논문지SD
• /
• 제37권1호
• /
• pp.36-43
• /
• 2000

청색 발광 SrS:CuCl TFEL 소자의 휘도를 향상시키기 위하여 황 압력과 열처리 조건을 최적화하여 SrS:CuCl TFEL 소자를 제작하였다. 전자빔 증착 장비를 이용하여 SrS:CuCl 형광체를 6000 ~ 8000 ${\AA}$ 두께로 증착 시킨 후, 800 $^{\circ}C$에서 3분 동안 열처리하여 TFEL 소자를 제작시켰다. 형광체 결정은 열처리 온도 및 열처리 지속 시간의 증가에 따라 향상되었다. SrS:CuCl TFEL 소자는 468 nm 와 500 nm에서 발광 피크 파장을 나타내었고, CIE 색 좌표는 x = 0.21, y = 0.33로 청색 빛이 방출되었다. SrS:CuCl TFEL 소자의 휘도$(L_{40})$는 형광체 증착 중의 황 압력에 크게 의존하여 황 압력을 $8{\times}10^{-6}$ torr에서 $2{\tiems}10^{-5}$ torr로 증가시켰을 때 262 cd/$m^2$에서 728 cd/$m^2$로 증가되었다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
• /
• 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
• /
• pp.27-32
• /
• 2006

The present status and prospects for further development of thin-film electroluminescent (TFEL) devices using oxide phosphors are described. High-luminance oxide TFEL devices have been recently developed using a new combinatorial deposition technique featuring rf magnetron sputtering with a subdivided powder target. In addition, new flexible oxide TFEL devices have been fabricated on an oxide ceramic sheet and operated stably in air above $200^{\circ}C$.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
• /
• 한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
• /
• pp.932-934
• /
• 2003

For the insulator of inorganic thin film electroluminescent (TFEL), devices AlON combined with TiON was used and it exhibits higher luminance than AlON as well as $Al_{2}O_{3}$ insulator. Furthermore, using AlON with TiON film show better stability and higher luminance than that with $TiO_{2}$ grown by conventional atomic layer deposition (ALD) for the application of the insulator of ZnS:Mn TFEL device.

• 한국콘텐츠학회논문지
• /
• 제2권3호
• /
• pp.146-151
• /
• 2002

전자빔 증착장비를 이용하여 $Ca_{1-x}$Sr$_{x}$S:CuCl TFEL소자를 제작한 후 발광특성을 평가하였다. 형광체 모체 $Ca_{1-x}$Sr$_{x}$S는 CaS와 SrS 미분말을 혼합, 성형하여 제작하였으며, 발광중심체 CuCl은 0.2 at%를 첨가시켰다. CaS:CuCl TFEL 소자의 휘도(L$_{30}$)와 최대 발광파장은 각각 9.5 cd/$m^2$와 492 nm였으며 SrS:CuCl TFEL 소자의 휘도(L$_{30}$)와 최대 발광파장은 각각 633 cd/$m^2$와 500 nm였다. SrS에 CaS가 첨가된 $Ca_{1-x}$Sr$_{x}$S:CuCl TFEL 소자에서 청색 색순도는 좋아졌으나, 휘도와 효율은 급격히 감소하였다.

• 한국광학회지
• /
• 제3권2호
• /
• pp.111-116
• /
• 1992

이중절연층구조 ZnS:Sm,F 박막 EL 소자를 전자선 가열 증착법으로 제작하여 제작한 소자들의 발광특성과 발광효율을 조사하였다. ZnS:Sm,F 박막 EL소자의 발광 스펙트럼은 Sm/sup 3+/ 이온의 /sup 4/G/sub 5/2/ .rarw. /sup 6/H/sub 9/2//sup 4/G/sub 5/2/.rarw./sup 6/H/sub 7/2/, /sup 4/G/sub 5/2/.rarw./sup 6/H/sub 5/2/.rarw.전이에 의한 발광이다. 이들 중 650nm를 발광하는 /sup 4/G/sub 5/2/.rarw./sup 6/H/sub 9/2/전이가 가장 우세하며 주홍색 발광을 한다. ZnS:Sm, F 박막 EL 소자의 최적 농도와 기판온도는 1wt%, 200.deg.C이며 최적조건으로 제작한 소자의 발광효율이 가장 크다.

• 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
• /
• 제48권9호
• /
• pp.662-664
• /
• 1999

We fabricated AC-TFEL device having cone-shaped Si micro-tip reflector array based on the process which have been conventionally employed for the Si-tip field emitter array in FED system. As a result, the AC-TFEL device having a new geometrical structure could generate well concentrated visible white-light from 3600 reflectors/pixel under bipolar pulse excitation mode only by edge-emission mechanism.

• 한국세라믹학회지
• /
• 제32권7호
• /
• pp.761-768
• /
• 1995

Double layered BaTiO3 thin films with high dielectric constant as well as good insulating property were prepared for the application to low voltage driving thin film electroluminescent (TFEL) device. BaTiO3 thin films were formed by rf-magnetron sputtering technique. Amorphous and polycrystalline BaTiO3 thin films were deposited at the substrate temperatures of room temperature and 55$0^{\circ}C$, respectively. Two kinds of films prepared under these conditions showed high resistivity and high dielectric constant. The figure of merit (=$\varepsilon$r$\times$Eb.d) of polycrystalline BaTiO3 thin film was very high (8.43$\mu$C/$\textrm{cm}^2$). The polycrystalline BaTiO3 showed a substantial amount of leakage current (I), under the high electric field above 0.5 MV/cm. The double layered BaTiO3 thin film, i.e., amorphous BaTiO3 layer coated polycrystalline BaTiO3 thin film, was prepared by the new stacking method and showed very good dielectric and insulating properties. It showed a high dielectric constant fo 95 and leakage current density of 25 nA/$\textrm{cm}^2$ (0.3MV/cm) with the figure of merit of 20$\mu$C/$\textrm{cm}^2$. The leakage current density in the double layered BaTiO3 was much smaller than that in polycrystalline BaTiO3 under the high electric field. The saturated brightness of the devices using double layered BaTiO3 was about 220cd/$m^2$. Threshold voltage of TFEL devices fabricated on double layered BaTiO3 decreased by 50V compared to the EL devices fabricated on amorphous BaTiO3.