• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.252-252
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• 2016

최근 학계나 산업계에서 indium tin oxide (ITO)의 높은 전기 전도도 및 광투과율을 이용하여 줄 발열을 기초로 하는 투명 면상 발열체에 대한 연구가 활발히 진행 되고 있다. 하지만 단일 ITO 박막으로 제작한 투명 면상 발열체는 온도가 상승함에 따라 균일하게 발열 되지 않으며, 글라스의 곡면 부분에서 유연성이 부족하여 크랙이 발생하는 다양한 문제점들을 가지고 있다. 이를 해결하기 위해 ITO의 결정화 온도 $160^{\circ}C$ 이상의 고온공정 또는 증착 후 열처리가 필요 하는 추가적인 공정이 필요하다. 따라서 본 연구에서는 단일 ITO 박막의 단점을 개선하는 ITO/Ag/ITO 하이브리드 구조의 투명 면상 발열체를 제작하여 전기적, 광학적 특성을 비교하고 발열량, 온도 균일성, 발열 유지 안정도를 조사하였다. 본 연구에서는 $50{\times}50mm$ 크기의 non-alkali glass (Corning E-2000) 기판 상에 마그네트론 스퍼터링 공정으로 상온에서 ITO/Ag/ITO 박막을 연속적으로 증착 하여 다층구조의 하이브리드 형 투명 면상 발열체를 제조하였다. 박막 증착 파워는 DC (Ag) power 100 W, RF (ITO) power 200 W로 하였으며 ITO박막두께는 40 nm로 고정 시키고 Ag박막 두께는 10 ~ 20 nm로 변화를 주었다. 증착원은 3인치 ITO 단일 타깃(SnO2, 10 wt.%)과 Ag 금속 타깃 (순도 99.99%)을 사용하였으며, 고순도 Ar을 이용하여 방전하였으며 총 주입량은 20 sccm, working pressure는 1.0 Pa을 유지하였다. 증착전 타깃 표면의 불순물 제거와 방전의 안정성을 유지하기 위해 10분간 pre-sputtering을 진행하고 증착하였다. 증착한 박막의 전기적, 광학적 특성은 각각 Hall-effect measurements system (ECOPIA, HMS3000), UV-Vis spectrophotometer (UV-1800, SHIMADZU)으로 측정하였으며, 하이브리드 표면의 구조 및 형상은 field emission-scanning electron microscopy (FE-SEM, Hitachi S-4800)으로 관찰하였다. 또한 투명 면상 발열체의 성능은 0.5 ~ 3 V/cm의 다양한 전압을 power supply (Keithly 2400, USA)를 통해서 시편 양 끝단에 인가한 후 시간에 따른 투명면상 발열체의 표면 온도변화를 infrared thermal imager (IR camera, Nikon)를 이용하여 관찰하였다. 하이브리드 구조를 가진 ITO박막의 두께는 40 nm로 고정 시키고 Ag박막의 두께는 10, 15, 20 nm로 변화를 주었다. 이들 박막의 면저항 값은 각각 5.3, 3.2, $2.1{\Omega}/{\Box}$였으며, 투과도는 각각 86.9, 81.7, 66.5 %였다. 이에 비해 두께 95 nm의 단일 ITO박막의 면저항 값은 $59.5{\Omega}/{\Box}$였으며, 투과도는 89.1 %였다. 하이브리드 구조의 전기적특성은 금속층의 두께가 증가할수록 캐리어 농도 값이 증가함에 따라 비저항 값이 감소되어 면저항 값도 감소된 것이며, 금속 삽입층의 전도특성이 비저항에 큰 영향을 주고 있음을 보여준다. 하지만 금속 층의 두께가 증가할수록 Ag층이 연속적인 막을 형성하여 반사율이 증가함에 따라 투과도가 감소하였다. 따라서 하이브리드 구조를 가진 투명 면상 발열체에 금속 삽입층의 두께 조절은 매우 중요한 인자임을 확인 할 수 있었다. 또한 발열성능을 평가 하기 위해 시편 양 끝단에 3 V전압을 인가한 결과, 금속 삽입층의 두께가 10 nm에서 5 nm씩 증가한 하이브리드 구조를 가진 투명면상 발열체의 최고 온도는 각각 98, 150, $167^{\circ}C$ 였으며, 단일 ITO의 최고 온도는 $32^{\circ}C$였다. 이 것은 동일한 두께 (95 nm)의 단일 ITO 박막과 비교하여 면저항이 낮은 하이브리드 박막의 발열량은 약 $120^{\circ}C$로 발열효율이 매우 우수한 것을 확인 할 수 있었다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.264-264
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• 2016

최근에 charge trap flash (CTF) 기술은 절연막에 전하를 트랩과 디트랩 시킬 때 인접한 셀 간의 간섭현상을 최소화하여 오동작을 줄일 수 있으며 낸드 플래시 메모리 소자에 적용되고 있다. 낸드 플래시 메모리는 고집적화, 대용량화와 비휘발성 등의 장점으로 인해 핸드폰, USB, MP3와 컴퓨터 등에 이용되고 있다. 기존의 실리콘 기반의 플래시 메모리 소자는 좁은 밴드갭으로 인해 투명하지 않고 고온에서의 공정이 요구되는 문제점이 있다. 따라서, 이러한 문제점을 개선하기 위해 실리콘의 대체 물질로 산화물 반도체 기반의 플래시 메모리 소자들이 연구되고 있다. 산화물 반도체 기반의 플래시 메모리 소자는 넓은 밴드갭으로 인한 투명성을 가지고 있으며 저온에서 공정이 가능하여 투명하고 유연한 기판에 적용이 가능하다. 다양한 산화물 반도체 중에서 비정질 In-Ga-Zn-O (a-IGZO)는 비정질임에도 불구하고 우수한 전기적인 특성과 화학적 안정성을 갖기 때문에 많은 관심을 받고 있다. 플래시 메모리의 고집적화가 요구되면서 절연막에 high-k 물질을 atomic layer deposition (ALD) 방법으로 적용하고 있다. ALD 방법을 이용하면 우수한 계면 흡착력과 균일도를 가지는 박막을 정확한 두께로 형성할 수 있는 장점이 있다. 또한, high-k 물질을 절연막에 적용하면 높은 유전율로 인해 equivalent oxide thickness (EOT)를 줄일 수 있다. 특히, HfOx와 AlOx가 각각 trap layer와 blocking layer로 적용되면 program/erase 동작 속도를 증가시킬 수 있으며 넓은 밴드갭으로 인해 전하손실을 크게 줄일 수 있다. 따라서 본 연구에서는 ALD 방법으로 AlOx와 HfOx를 게이트 절연막으로 적용한 a-IGZO 기반의 thin-film transistor (TFT) 플래시 메모리 소자를 제작하여 메모리 특성을 평가하였다. 제작 방법으로는, p-Si 기판 위에 열성장을 통한 100 nm 두께의 SiO2를 형성한 뒤, 채널 형성을 위해 RF sputter를 이용하여 70 nm 두께의 a-IGZO를 증착하였다. 이후에 소스와 드레인 전극에는 150 nm 두께의 In-Sn-O (ITO)를 RF sputter를 이용하여 증착하였고, ALD 방법을 이용하여 tunnel layer에 AlOx 5 nm, trap layer에 HfOx 20 nm, blocking layer에 AlOx 30 nm를 증착하였다. 최종적으로, 상부 게이트 전극을 형성하기 위해 electron beam evaporator를 이용하여 platinum (Pt) 150 nm를 증착하였고, 계면 결함을 최소화하기 위해 퍼니스에서 질소 가스 분위기, $400^{\circ}C$, 30 분의 조건으로 열처리를 했다. 측정 결과, 103 번의 program/erase를 반복한 endurance와 104 초 동안의 retention 측정으로부터 큰 열화 없이 메모리 특성이 유지되는 것을 확인하였다. 결과적으로, high-k 물질과 산화물 반도체는 고성능과 고집적화가 요구되는 향후 플래시 메모리의 핵심적인 물질이 될 것으로 기대된다.

• 한국조리학회지
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• 제22권4호
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• pp.302-318
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• 2016

본 연구는 외식상품 추구편익이 SNS 구전정보특성, 구매의도와 구전의도 간의 영향관계를 살펴보고, SNS 구전정보특성이 외식상품 추구편익과 구매의도 및 구전의도 간에 매개역할을 하는지에 대해 조사하고자 하였다. 자료수집은 2016년 3월 10일부터 3월 30일까지 실시하였으며, 편의표본추출법(convenience sampling)에 의해 SNS를 경험해 본 외식소비자를 대상으로 진행하였다. 설문지는 350부를 배포하였으며, 이 중 불성실하게 응답했거나 연구목적에 부합하지 않는 설문지를 제외한 유효한 자료 326부를 분석에 사용하였다. 분석결과, 첫째, 외식상품 추구편익 중 다양성 및 실용성 편익이 상징성 및 체험성 편익보다 동의성에 더욱 큰 영향을 미치는 것으로 나타났다. 반면에, 상징성 및 체험성 편익이 다양성 및 실용성 편익보다 중립성에 더욱 큰 영향을 미치는 것으로 나타났다. 둘째, SNS 구전정보특성 중 동의성만이 외식상품 구매의도에 유의한 영향을 미치는 것으로 나타났다. 셋째, SNS 구전정보특성 중 동의성이 중립성보다 외식상품 구전의도에 더욱 큰 영향을 미치는 것으로 나타났다. 넷째, SNS 구전정보특성(동의성/중립성)은 외식상품 추구편익(다양성 및 실용성 편익/상징성 및 체험성 편익)과 구매의도 간에 매개역할을 하는 것으로 나타났다. 다섯째, SNS 구전정보특성(동의성/중립성)은 외식상품 추구편익(다양성 및 실용성 편익/상징성 및 체험성 편익)과 구전의도 간에 매개역할을 하는 것으로 나타났다.

• 공업화학
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• 제10권7호
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• pp.1028-1034
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• 1999

p-Xylene을 용매로 사용하고, 몇 가지 다른 종류의 촉매를 사용하여 직접 축중합에 의해 직쇄형 폴리락트산 합성 실험을 하였다. 그 중 우수한 활성을 보인 촉매는 주석(Tin)계 촉매이었다. 촉매의 양과 용매의 양을 변화시켜 중합반응을 한 결과, 촉매 0.2g (0.5 wt % 모노머), 용매 100 mL 수준에서 보다 높은 분자량의 중합체를 얻을 수 있었으며, 이때 대수점성도 ${\eta}_{inh}$는 0.72 dL/g(중량평균분자량(GPC)=70500)이었다. 직접중합 반응 시스템에서 분자량을 더욱 향상시키기 위해 branching 모노머로서 다가알콜인 dipentaerythritol(dipet) 또는 pentaerythritol(pet)을 소량 도입하여 스타형 폴리락트산을 합성하였으며, 직쇄형에 비해 분자량 분포가 좁고, 향상된 분자량(최고 ${\eta}_{inh}$ = 1.14, ${\bar{Mw}}$ = 143,200)을 얻을 수 있었다. Dipet의 함량이 0.05~0.2 wt %일 때 보다 높은 분자량의 폴리락트산을 얻을 수 있었으며, 얻어진 중합체의 열적성질은 직쇄형에 비해 큰 차이가 없었다. 얻어진 고분자량의 중합체로부터 투명하고 강인한 필름을 성형할 수 있었다.

• 대한치과교정학회지
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• 제33권1호
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• pp.41-49
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• 2003

골격성 III급 부정교합자는 부적절한 악골 위치에서 기능 교합을 유지하기 위해 치아의 경사도와 수직적 위치가 변화하게 된다. 이러한 치성보상은 전치부 및 구치부 전반에 걸쳐 일어나며, 현재 보편적으로 시행되고 있는 악교정수술을 위한 술전교정시 이를 제거하여 각 골격 구조내에서 치아들이 적절히 위치되도록 하여야 한다. 전치부 치성보상에 관한 측모 두부방사선 사진을 이용한 연구는 많이 시행되어졌으나, 구치부 경사도에 관한 연구는 미미 한 실정이다. 이에 본 연구는 성인 골격성 III급 부정교합자의 전후방적, 수직적 악골 부조화에 따른 폭경 부조화 및 구치 경사도 변화를 알아보기 위해 진단 모형상에서 상하악 견치, 제1소구치, 제1대구치 부위의 기저골 폭경을 측정하여 상악에 대한 하악의 비율을 구하였으며, 모형 을 삭제하여 좌우 구치간 경사도를 측정하였다. 악골 부조화 심화에 따른 기저골 폭경 비율과 제1대구치 협설 경사도 변화의 상관관계를 조사하여 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 골격성 III급 부정교합자의 악골의 전후방적 부조화가 심화될수록 상하악 구치간 각도합이 증가하여 치성보상이 많이 일어났으며, 특히 하악 구치가 설측 경사되는 치성보상을 보였다(p<0.001). 2. 골격성 III급 부정교합자의 악골의 수직적 부조화 및 폭경 부조화와 구치부 치성보상 간에는 유의할만한 상관성이 없었다. 3. 골격성 III급 부정교합자의 전후방적, 수직적 부조화의 심화와 기저골 폭경 부조화는 유의할만한 상관성이 없었다.

• 대한소아치과학회지
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• 제26권1호
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• pp.185-199
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• 1999

The purpose of the present study was to investigate craniofacial patterns in Korean male and female adults, and to compare morphologic differences between different facial types. In order to get configurational groupings, standardized lateral and P-A cephalograms of 174 Korean adults were measured and analyzed with seven angular, nineteen linear, four ratio, and two index measurements. Ward's minimum variance cluster analysis was employed to divide the sample into groups having similar craniofacial morphology, and thereafter, inductive statistics(t-test) was used to characterize morphologic differences of the divided groups. And also, Pearson correlation coefficients were calculated to assess correlation between the cranial dimensions and upper/lower anterior facial height(UAFH, LAFH) in each facial types for both male and female The results were as follows; 1. There existed sexual dimorphism in most of variables except SN-FH angle, palatal plane angle, facial axis angle, facial index, lower anterior facial height ratio and upper facial height ratio. 2. A brachycephalic headform ($0.84{\pm}0.05$) with leptoprosopic facial form ($0.92{\pm}0.05$) was appeared in male, and a mesocephalic headform ($0.86{\pm}0.06$) with leptoprosopic facial form ($0.92{\pm}0.04$) was exhibited in female. 3. Facial types in both male and female subjects were divided into two groups, Group A (mesoprosopic facial type) and Group B (leptoprosopic facial type). The morphologic differences between Group A and Group B were as follows: a. Cranial measurements including index, angular and linear measurements were not found to be different between Group A and Group B in both sexes. b. Increased UAFH, LAFH, and upper/lower anterior dental heights were exhibited in Group Bs of both male and female. c. In both male and female, ramus height and mandible length showed no difference between Group A and Group B. However, genial angle was found to be larger in Group B than Group A. Therefore, the morphologic differences between two groups in male and female were closely related to less favorable anatomic morphology of the mandible. 4. LAFH and UAFH showed no relationships with cranial dimensions in male and female.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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• pp.313-313
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• 2009

OLED 소자는 직접발광, 광시야각, 그리고 빠른 응답속도 때문에 동영상에 적합하여 최근 각광받고 있는 디스플레이장치 중의 하나이다. OLED 소자의 양극재료로는 높은 광투과율과 $\sim10^{-4}{\Omega}\;cm$ 수준의 낮은 전기 비저항을 갖는 ITO (Sn-doped $In_2O_3$)가 널리 사용되고 있다. 하지만 원료 물질인 인듐의 수급량 부족으로 인한 문제점과 독성, 저온증착의 어려움, 스퍼터링시 음이온 충격에 의한 막 손상으로 저항의 증가의 문제점이 있고, 또한 액정디스플레이의 투명전극으로 사용될 경우 $400\;^{\circ}C$정도의 높은 온도와 수소 플라즈마 분위기에서 장시간 노출 시 열화로 인한 광학적 특성변화가 문제가 된다. 반면에 Al이 도핑 된 ZnO (AZO)박막은 넓은 밴드갭 (3.37eV)와 400nm에서 700nm 사이의 가시광 영역에서 80% 이상의 우수한 투과성을 지니고 있다. 특히 Al이 도핑된 ZnO는 박막의 전기적 특성이 크게 향상되어 디스플레이나 태양전지로의 응용이 가능하다. 또한 비교적 낮은 비용과 플라즈마에서의 안정성, 무독성, 그리고 전기전도성과 같은 많은 이점이 있다. 그 결과 AZO 박막은 ITO기판을 대안하는 지원물질로 활발히 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 TCO 박막의 면 저항과 표면 거칠기에 따른 OLED 소자의 특성을 분석하였다. ITO와 AZO 박막은 챔버 내 다양한 가스 분위기(Ar, Ar+$O_2$ and Ar+$H_2$)에서 R.F Magnetron Sputtering방법으로 증착하였다. TCO 박막의 구조적인 이해를 돕기 위해서 X-ray diffraction 과 FESEM으로 분석하였다. 광학적 투과도와 박막의 두께는 ultraviolet spectrophotometer (Varian, cary-500)와 surface profile measurement system으로 각각 측정하였다. 면저항 charge carrier 농도, 그리고 TCO 박막의 이동도와 같은 전기적특성은 four-point probe와 hall effect measurement(HMS-3000)로 각각 측정하였다. TCO 박막의 표면 거칠기 조절을 위해 photo lithography 공정을 사용하여 TCO 박막을 화학에칭 하였다. 미세사이즈 패턴 마스크가 사용되었으며 에칭의 깊이는 에칭시간에 따라 조절하였다. TCO 박막의 표면 형태는 FESEM과 AFM으로 관찰하였다. 투명전극으로 사용되는 ITO 및 AZO 기판 상용화를 위해 ITO 및 AZO 기판 위에 ${\alpha}$-NPB, Alq3, LiF, Al 의 순서로 증착 및 패터닝함으로써 OLED 소자를 제작하였다. 전류밀도와 전압 그리고 발광휘도와 전압과 같은 전기적 특성은 spectrometer(minolta CS-1000A)를 이용하여 측정하였다.

• 대한전자공학회논문지SP
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• 제46권1호
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• pp.56-62
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• 2009

산업용 강판튜브 CR영상의 잡음특성과 기하학적 구조에 관한 해석적 접근을 시도한다. 산업현장에서 방사선 측정실험으로 직접 취득한 방사선영상을 방사선강도에 따라 30(개) 이상의 샘플을 수집하였다. 이들 각 영상은 배경부, 두께부 및 튜브내부의 세 영역으로 구성되었는바, 그 가운데 튜브내부영역을 분석 대상으로 삼았다. 통계적이고 함수적인 방법론에 의해 잡음특성을 포함한 기하학적 구조를 분석한다. 영상을 구성하는 화소라인별로 또는 공간적으로 분석을 수행하여 강판튜브의 기하학적 원형 형태가 방사선영상화 과정을 거치면서 일어나는 변형과 잡음속성 변화의 두 가지 특성을 규명한다. 분석시 부합함수와 그 오차를 기하학적 변형의 판별인자로, 표준편차, 평균 및 SN비를 잡음특성 판별인자로 설정하고 방사선투과정도의 영상에서의 실현인 회색도 변화에 따른 이들 인자들의 변화를 고찰하였다. 분석결과, 본래의 원형 구조가 방사선투과 강도에 따라 타원형에서 저반경 원형 그리고 고반경원형의 점차적인 구조 변형을 일으킨다는 사실을 밝혔고, 잡음의 편차가 투과강도에 반비례함을 규명하였다.

• 정보교육학회논문지
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• 제17권2호
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• pp.101-113
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• 2013

아이폰의 출시로 시작된 스마트기기의 급속한 도입과 첨단 정보통신기술의 발달로 인하여 새로운 시대, 새로운 패러다임이 시작되고 있다. 우리는 이것을 모바일이라는 DNA를 가진 '스마트시대'로 정의하였다. '스마트'라는 용어는 그 말이 쓰이는 분야나 사람에 따라서 다르지만 '스마트'라는 용어의 핵심은 '인간', 즉 사람에 있다. 그렇다면 자연스럽게 스마트시대의 중심은 사람이어야 하며 그렇기 때문에 사람만이 할 수 있는 분야와 영역이 더 중요해질 것이며 기술도 인간이 더 편리하고 인간의 감정이나 감성까지 읽을 수 있도록 발전할 것이다. 이런 사회의 변화는 교육에도 영향을 미쳐서 지금과는 다른 새로운 교육 패러다임이 필요하다는 공감대 속에 교육계에서는 '스마트교육'의 도입을 준비하고 있다. 하지만 스마트교육은 단순히 스마트디바이스, 정보통신기술과 SNS의 발전으로 인하여 그것들을 교육에 도입하려는 것이 아니다. 글로벌 시대에는 새로운 인재가 필요하고 그것을 위해 새로운 교육을 시도하려는 것이다. 본 논문에서는 새로운 시도를 스마트교육이라고 보고 앞으로 우리나라의 스마트교육의 성공적인 정착을 위한 스마트교육의 핵심요소를 4C(Creativity, Collaboration, Content, Curation)로 제안하였다.

• 대한치과교정학회지
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• 제19권1호
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• pp.201-218
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• 1989

This study was focused on the distribution of different facial types of the Class II division I malocclusion groups and skeletal characteristics of the each group and those that anteropsterior relationship of the maxilla and mandible calculated from the analysis of ANB angle and Wits appraisal was quite different from each other, as well. Cephalometric headplates of 140 persons of Class II division 1 malocclusion whose mean age was 11.2 years and 69 persons of normal occlusion whose mean age was 12.2 years were utilize as materials. Measurements were recorded, tabulated and statistically analyzed employing the tracings of the lateral cephalograms, then Class II division 1 malocclusion group was divided into 9 Types according to the angle of SNA and SNB for the anteroposterior relationship of the maxilla and mandible, another 9 Types according to the FH-NPog and SN-MP for the horisontal and vertical relationship, and the other 9 Types according to the ANB and Wits appraisal for intermaxillary relationship as well, with which was based on $Mean{\pm}$ 1SD of those of normal occlusion. The result allowed the following conclusion: 1. $37.1\%$ of population demonstrated maxilla within nounal range and retrognathic mandible to the cranial base, $30\%$ for both maxilla and mandible within normal range, $20\%$ for retrognathic maxilla and mandible and $12.9\%$ of the rest were ananged in Class II division 1 maloccusion groups. 2. Retrognathic mandible and hyperdivergent face accounted for $30.7\%$, mesognathic mandible and neutrodivergent face for $29.3\%$, mesognathic mandible and hyperdivergent face for $16.4\%$, retrognathic mandible and neutrodivergent face for $13.6\%$, mesognathic mandible and hypodivergent face for $10\%$ of population were computed in Class II division 1 malocclusion groups. 3. It was suggested that skeletal Class II malocclusion might be due to anomaly in size and shape of cranial base, underdevelopment of mandible, retropositioning of mandible, underdevelopment of posterior face against anterior face, or any combination of these factors. 4. Population with underdevelopment and / or retropositioning of the mandible showed hyperdivergent tendency of facia profile. 5. The ANB angle and Wits appraisal did not coincide the severity of anteroposterior dysplasia in $35.7\%$ of Class II division 1 malocclusion group each other, and this inconsistency was suggested to be related with mandibular rotation, inclination of cranial base, and anteroposterior position of the maxilla.