• 제목/요약/키워드: Random effect

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중국 소흥안령 활엽수-잣나무 혼효림에서의 산겨릅나무의 공간분포 양상 (Spatial Pattern of Acer tegmentosum in the Mixed Broadleaved-Korean Pine Forest of Xiaoxing'an Mountains, China)

  • 김광택;려여;이지굉;김지홍
    • 한국산림과학회지
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    • 제96권6호
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    • pp.730-736
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    • 2007
  • 생육환경의 이질성은 수목의 개체군 구조와 동태, 군락의 구성 및 종다양성 유지에 중요한 역할을 한다. 이 연구는 미세지형이 활엽수-잣나무 혼효림에서의 산겨릅나무 개체군의 공간분포에 미치는 영향과 공간분포 양상을 검토하기 위하여 9 ha의 영구 표본구에 있는 유묘, 치수, 살아있는 성숙목과 고사목에 대하여 공간분포 특성을 분석하였다. 그 결과 사면경사에 있어서 산겨릅나무는 비교적 완만한 경사를 선호하였다. 사면 방향별 유묘의 밀도는 차이가 없었고, 치수, 살아 있는 성숙목, 고사목의 밀도는 서향, 동남향에서 높게 나타났다. 살아있는 성숙목의 경우, 150 m 이내의 모든 척도에서 집락분포를 하고 있으며, 척도 30 m에서 최고값을 보였고, 고사목은 111 m 이내에서는 집락분포를 하고. 척도 72 m에서 최고값을 보이고 있으며, 111 m보다 큰 척도에서는 무작위분포를 하고 있었다(P < 0.01). 산겨릅나무의 생육단계별 발생 유사성에 있어서 유묘는 치수와 고도의 정의 상관관계, 치수는 살아 있는 성숙목과 고도의 정의 상관관계, 살아 있는 성숙목은 죽은 성숙목과 고도의 정의 상관관계가 있어 (P < 0.01), 생활사 하위 단계의 발생은 상위단계와 고도의 정의 상관관계가 있음을 알 수 있었다.

창업초기기업의 외부자금조달에 대한 기업소유구조 간 비교연구 (The the Effect on External Financing of Ownership Type in Case of Early-Stage Firms)

  • 강원
    • 벤처창업연구
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    • 제10권6호
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    • pp.47-57
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    • 2015
  • 본 논문은 성공한 창업초기기업을 대상으로 기업집단 소속기업에 비해 독립기업이 과연 외부로부터 자금을 조달하는 데 더 큰 어려움을 겪고 있는지를 분석하였다. 외부자금조달의 용이성은 투자-현금흐름 배수로 측정하였고, 이 배수가 과거실적에 의해 영향 받는 부분과 미래 영업에 대한 기대에 의해 영향 받는 부분을 모두 통제한 뒤, 기업집단 소속 여부가 투자-현금흐름 배수에 미치는 영향을 살펴보았다. 분석 결과, 현금흐름이 양수일 때는 오히려 독립기업이 유의적으로 더 높은 투자-현금흐름 배수를 기록하였음이 밝혀졌다. 그러나 현금흐름이 음수일 때는 유의성이 낮으나마 그 반대의 현상이 목격되었다. 이러한 결과는 성공한 독립기업의 경우 창업초기에 기업집단 소속기업에 비해 자금조달에 더 큰 어려움을 겪는다는 일방적인 주장을 할 수 없음을 시사한다. 만약 기업집단 소속기업이 창업초기에 외부자금조달에 큰 문제가 없다면, 위의 결과는 독립기업도 마찬가지로 창업초기에 외부자금조달을 중요한 애로사항으로 느끼지 않고 있음을 뜻한다. 따라서 향후 성공가능성에 상관없이 모든 창업 벤처기업에게 혜택을 주는 보편적인 정책이 아니고 성공할 기업을 가려내서 이들에게만 혜택을 주는 선별적인 정책을 정부가 추구한다면, 창업초기기업에 대한 지원정책 중 자금지원 정책은 그 우선순위가 낮아져야 할 것이다.

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In-situ Synchrotron Radiation Photoemission Spectroscopy Study of Property Variation of Ta2O5 Film during the Atomic Layer Deposition

  • Lee, Seung Youb;Jeon, Cheolho;Kim, Seok Hwan;Lee, Jouhahn;Yun, Hyung Joong;Park, Soo Jeong;An, Ki-Seok;Park, Chong-Yun
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.362-362
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    • 2014
  • Atomic layer deposition (ALD) can be regarded as a special variation of the chemical vapor deposition method for reducing film thickness. ALD is based on sequential self-limiting reactions from the gas phase to produce thin films and over-layers in the nanometer scale with perfect conformality and process controllability. These characteristics make ALD an important film deposition technique for nanoelectronics. Tantalum pentoxide ($Ta_2O_5$) has a number of applications in optics and electronics due to its superior properties, such as thermal and chemical stability, high refractive index (>2.0), low absorption in near-UV to IR regions, and high-k. In particular, the dielectric constant of amorphous $Ta_2O_5$ is typically close to 25. Accordingly, $Ta_2O_5$ has been extensively studied in various electronics such as metal oxide semiconductor field-effect transistors (FET), organic FET, dynamic random access memories (RAM), resistance RAM, etc. In this experiment, the variations of chemical and interfacial state during the growth of $Ta_2O_5$ films on the Si substrate by ALD was investigated using in-situ synchrotron radiation photoemission spectroscopy. A newly synthesized liquid precursor $Ta(N^tBu)(dmamp)_2$ Me was used as the metal precursor, with Ar as a purging gas and $H_2O$ as the oxidant source. The core-level spectra of Si 2p, Ta 4f, and O 1s revealed that Ta suboxide and Si dioxide were formed at the initial stages of $Ta_2O_5$ growth. However, the Ta suboxide states almost disappeared as the ALD cycles progressed. Consequently, the $Ta^{5+}$ state, which corresponds with the stoichiometric $Ta_2O_5$, only appeared after 4.0 cycles. Additionally, tantalum silicide was not detected at the interfacial states between $Ta_2O_5$ and Si. The measured valence band offset value between $Ta_2O_5$ and the Si substrate was 3.08 eV after 2.5 cycles.

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New Ruthenium Complexes for Semiconductor Device Using Atomic Layer Deposition

  • Jung, Eun Ae;Han, Jeong Hwan;Park, Bo Keun;Jeon, Dong Ju;Kim, Chang Gyoun;Chung, Taek-Mo
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.363-363
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    • 2014
  • Ruthenium (Ru) has attractive material properties due to its promising characteristics such as a low resistivity ($7.1{\mu}{\Omega}{\cdot}cm$ in the bulk), a high work function of 4.7 eV, and feasibility for the dry etch process. These properties make Ru films appropriate for various applications in the state-of-art semiconductor device technologies. Thus, it has been widely investigated as an electrode for capacitor in the dynamic random access memory (DRAM), a metal gate for metal-oxide semiconductor field effect transistor (MOSFET), and a seed layer for Cu metallization. Due to the continuous shrinkage of microelectronic devices, better deposition processes for Ru thin films are critically required with excellent step coverages in high aspect ratio (AR) structures. In these respects, atomic layer deposition (ALD) is a viable solution for preparing Ru thin films because it enables atomic-scale control of the film thickness with excellent conformality. A recent investigation reported that the nucleation of ALD-Ru film was enhanced considerably by using a zero-valent metallorganic precursor, compared to the utilization of precursors with higher metal valences. In this study, we will present our research results on the synthesis and characterization of novel ruthenium complexes. The ruthenium compounds were easy synthesized by the reaction of ruthenium halide with appropriate organic ligands in protic solvent, and characterized by NMR, elemental analysis and thermogravimetric analysis. The molecular structures of the complexes were studied by single crystal diffraction. ALD of Ru film was demonstrated using the new Ru metallorganic precursor and O2 as the Ru source and reactant, respectively, at the deposition temperatures of $300-350^{\circ}C$. Self-limited reaction behavior was observed as increasing Ru precursor and O2 pulse time, suggesting that newly developed Ru precursor is applicable for ALD process. Detailed discussions on the chemical and structural properties of Ru thin films as well as its growth behavior using new Ru precursor will be also presented.

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대용량 플래시 저장장치에서 신뢰성 향상을 위한 무작위 기반 정적 마모 평준화 기법 (Randomness based Static Wear-Leveling for Enhancing Reliability in Large-scale Flash-based Storage)

  • 최길모;김세욱;최종무
    • 정보과학회 컴퓨팅의 실제 논문지
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    • 제21권2호
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    • pp.126-131
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    • 2015
  • 플래시 기반 저장장치가 서버와 데이터 센터에 활발하게 도입됨에 따라 신뢰성이 더욱 중요해지고 있다. 신뢰성을 향상시키는 방법들 중에 한 가지는 정적 마모도 평준화로, 이것은 삭제 횟수를 평준화시켜 결국 저장장치 수명을 향상시킬 수 있다. 하지만 저장장치의 용량이 증가함에 따라 정적 마모도 평준화를 위한 부하도 커지고 있다. 특히 전체 블록에서 최대 또는 최소의 삭제 횟수를 갖는 블록의 검색 비용이 용량의 증가에 따라 커지고 있다. 본 논문에서는 이러한 부하를 줄이기 위해 무작위 선택을 정적 마모도 평준화에 도입한다. 구체적으로 전수 조사 대신, n개의 블록을 무작위로 뽑고 이 중에서 최대 또는 최소 삭제 횟수를 갖는 블록들을 선택한다. 실험 결과 n이 2일 때에도 마모 평준화 효과가 있으며, n이 4 이상이며 전수 조사에 기반한 최적 평준화에 근접하는 결과를 보이는 것을 알 수 있었다. 성능 향상의 효과를 측정하기 위해 실제 보드에 구현을 하였으며, 블록 선택 시간이 3배 이상 향상된 것을 관찰할 수 있었다. 결국 제안 기법은 기존 정적 마모 평균화의 효과를 적은 부하로 얻을 수 있는 것이다.

실크단백질 효소 가수분해물이 OLETF Rat의 혈당, 혈중 인슐린과 렙틴분비에 미치는 영향 (Effects of Silk Protein Hydrolysates on Blood Glucose Level, Serum Insulin and Leptin Secretion in OLETF Rats)

  • 이영숙;박민정;최지은;김지영;남문석;정윤화
    • 한국식품영양과학회지
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    • 제36권6호
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    • pp.703-707
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    • 2007
  • 본 연구는 누에고치를 가수분해하여 얻은 실크단백질 효소 가수분해물이 비만형 당뇨병 모델인 OLETF 쥐의 당뇨병 개선에 미치는 영향을 조사하였다. 27주령의 OLETF 쥐를 당뇨대조군과 실크단백질 효소 가수분해물 0.5%, 0.8% 섭취군으로 나누어 19주 동안 음수로 섭취시켰다. 19주 동안 실험동물의 체중, 식이 섭취량, 음수 섭취량을 측정하고, 매주 2회씩 비공복과 공복 혈당변화를 관찰하였으며, 19주 후 모든 동물을 희생시킨 후 혈액을 채취하여 혈청지질과 인슐린 및 렙틴의 농도를 분석하였다. 당뇨대조군의 체중은 실크단백질 효소 가수분해물 섭취군에 비해 크게 감소하는 경향을 보였고, 총 콜레스테롤은 농도 의존적으로 그 수치가 낮아지는 경향을 보였으나 유의적 차이는 없었다. 또한 중성지질이나 HDL-cholesterol 함량 변화에도 큰 영향을 미치지 못하였다. 실크단백질 효소 가수분해물 섭취군은 대조군에 비하여 혈당 상승이 유의적으로 억제되었다. 17주 후 내당능 측정결과 실크단백질 효소 가수분해물 섭취군의 최고 혈당치가 농도 의존적으로 낮게 나타나는 경향을 보였으며 회복도 빨랐다. 인슐린과 렙틴은 농도 의존적으로 증가하였으며, 유의적인 차이를 보였다. 실크단백질 효소 가수분해물의 섭취는 인슐린과 렙틴의 대사에 관여하여 혈당상승을 억제하는 것으로 사료된다.

압출성형 ECC 패널의 섬유분포 특성과 휨 성능 (Fiber Distribution Characteristics and Flexural Performance of Extruded ECC Panel)

  • 이방연;한병찬;조창근;권영진;김윤용
    • 콘크리트학회논문집
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    • 제21권5호
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    • pp.573-580
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    • 2009
  • 이 연구는 변형률 경화거동을 나타내기 위한 압출성형된 ECC를 제조하기 위하여 사용되는 조성물의 특성, 제조 방식, 배합 조건, 양생 조건에 관한 검토를 수행하였으며, 섬유의 분포 특성이 압출성형 ECC의 휨거동에 미치는 영향을 파악하고자 하였다. 이를 위하여 이론적/실험적 연구를 수행하여 압출성형 ECC를 생산하기 위한 기본 배합 및 제조 공정을 제시하였으며, 이미지 프로세싱 기법을 이용하여 섬유 분포 특성을 파악하였다. 실험 결과, 최적의 압출성형 ECC 패널의 배합비를 물-매트릭스 비, 시멘트, ECC 파우더, 그리고 규사미분의 비율로 제시하였다. 또한 섬유 분포 특성은 배합에 따라 달라지며 이러한 섬유 분포 특성에 따라 휨거동에 차이가 발생하는 것으로 나타났다. 즉, 섬유 분산성이 좋을수록, 상보에너지($J_b'$)와 최고 가교 응력(${\sigma}_0$)이 클수록 휨 인성이 크게 나타났다. 이는 ECC 배합의 차이가 섬유 분포 특성에 차이를 줄 뿐만 아니라, 마이크로역학 특성에도 변화를 주기 때문이다. 섬유 방향성의 경우, 실험체 별로 크게 차이가 발생하지 않았으나 섬유의 분포가 3차원보다 2차원에 가깝게 배열되는 것으로 나타났다. 그러나 섬유 방향성에 대한 확률 밀도 함수는 2차원으로 가정한 경우와 매우 다른 양상을 보이는 것으로 나타났다. 따라서 원하는 성능(초기균열 강도 및 인성)을 얻기 위해서는 배합과 섬유 분포 특성을 고려하여야 하는 것으로 나타났다.

NMP로부터 제조된 Melt-blown흑연섬유의 안정화조건에 따른 미세구조와 전기화학적 특성 (Effect of Stabilization Conditions on the Microstructure and Electrochemical Properties of Melt-blown Graphite Fibers Prepared from NMP)

  • 김찬;양갑승;고장면;박상희;박호철;김영민
    • 전기화학회지
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    • 제4권3호
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    • pp.104-108
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    • 2001
  • 용융분사법으로 나프탈렌계 메조페이스 피치(mP)를 방사하여 산화안정화 속도를 변화시켜 흑연화 섬유의 모폴러지를 제어하였으며, 흑연화 섬유를 이용하여 Li-ion 이차전지 부극을 제조하여 충$\cdot$방전 거동 및 용량을 측정하였다. 용융분사조건에 따라 제조된 피치섬유의 직경은 $4{\mu}m$로부터 $16{\mu}m$까지 다양하였다 이중에서 직경 $10{\mu}m$인 피치섬유를 선택하여 세가지 승온속도 조건 $2^{\circ}C/min,\;5^{\circ}C/min,\;10^{\circ}/min$에서 산화안정화 후 $1000^{\circ}C$에서 탄소화하여 $2650^{\circ}C$에서 흑연화 한 결과, 섬유 단면이 산화안정화 조건 $2^{\circ}C/min$의 경우는 라디알 구조, $5^{\circ}C/min$의 것은 라디알-랜덤 구조, $10^{\circ}C/min$의 경우는 skin-core 구조를 형성하였고, 승온속도가 큰 경우일수록 이흑연화성이 컷다. 이것은 큰 승온속도에서는 탄소화$\cdot$흑연화 과정에서 섬유표면에서만 산화안정화가 일어나고, 내부에서는 피치분자가 유동성이 커 승온과정에서 고결정성의 흑연구조가 발달한 것으로 추측된다. 따라서 이흑연화성이 큰 $10^{\circ}C/min$에서 산화안정화 한 것이 충전방전 용량이 $2^{\circ}C/min$의 경우에 비해서 1.3배로 약 400mAh/g, 충방전 효율도 $96.8\%$로 가장 우수한 특성을 나타냈다.

다채널 ISFET 측정용 단일 바이어스 회로의 설계 (Design of Bias Circuit for Measuring the Multi-channel ISFET)

  • 조병욱;김영진;김창수;최평;손병기
    • 센서학회지
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    • 제7권1호
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    • pp.31-38
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    • 1998
  • ISFET을 측정할 때 다채널 센서를 이용하면 신뢰도를 향상시킬 수 있고 노이즈를 제거할 수 있다. 향후 하나의 소자를 이용하여 여러 가지 이온을 측정할 수 있는 센서를 제조하기 위해서도 다채널 센서는 반드시 필요한 과정이다. 그러나 다채널 센서를 개발시 각 센서에 개별적으로 바이어스를 인가한다면 센서의 개수만큼 바이어스 회로가 필요하다. 본 논문에서는 영전위회로에 스위칭방식을 도입하여 4개의 pH-ISFET을 바이어스 하는 방식을 제안하였다. 제안된 회로는 4개의 센서에 대해 단지 하나의 바이어스 회로가 필요하므로 개별적인 바이어스 인가방식에 비해 전력을 적게 소모하며 적은 면적에 구현할 수 있다. 제안된 회로는 이산소자를 이용하여 성능을 검증하였다. 또한 최근 센서시스템이 휴대화 되어지는 경향에 따라 검증된 바이어스 회로를 CMOS를 이용하여 집적화 하였다. 설계된 바이어스 회로의 마스크 면적은 $660{\mu}m{\times}500{\mu}m$이다. ISFET은 반도체 집적회로 공정에 의해 제조되므로 향후 CMOS를 이용한 신호처리 회로와 함께 하나의 칩에 집적화 하여 다기능, 다채널, 그리고 지능형의 스마트센서 시스템으로 개발되어져야 바람직할 것이다.

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cDNA 마이크로어레이에서 유전자간 상관 관계에 대한 보고 (A Report on the Inter-Gene Correlations in cDNA Microarray Data Sets)

  • 김병수;장지선;김상철;임요한
    • 응용통계연구
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    • 제22권3호
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    • pp.617-626
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    • 2009
  • 최근에 보고되는 일련의 연구는 Affymetrix 마이크로어레이 자료에서 유전자간 상관관계가 강하고 장범위(長範圍)(long-ranged)로 나타나고 있으며, 기존의 "편한" 가정, 즉 유전자간 상관관계가 매우 약하며, 따라서 유전자간 유사 독립성을 가정할 수 있다는 주장이 비현실적이라는 것을 보고하고 있다. Qui 등 (2005b)은 각 유전자의 검정통계량을 병합하여 통계적 추론을 하는 이른바 비모수적 경험적 베이즈 방법을 적용하면 검색된 특이발현 유전자수의 분산이 커진다는 것을 보고하고 있고, 이러한 분산의 불안전성 이유로서 유전자간 강한 상관관계를 지적하고 있다. 또한 Klebanov와 Yakovlev (2007)는 유전자간 상관관계가 통계적 분석을 어렵게 하는 요인이라기 보다는 유용한 정보의 원천이고 적정한 변환을 통하여 근사 독립을 유지할 수 있는 급수를 만들 수 있으며 이 급수를 ${\delta}$-급수라고 불렀다. 본 보고에서는 국내에서 생산된 2조의 cDNA 마이크로어레이 자료에서 유전자간 상관관계가 비교적 강하며, 장범위(長範圍)로 나타나는 것을 확인하며, 유사 독립성을 전제할 수 있는 ${\delta}$-급수가 cDNA 마이크로어레이에서도 발견되는 것을 보고하고자 한다, 동 보고는 추후 cDNA 마이크로어레이 자료의 분석에서도 유전자간 상관관계를 고려하여야 함을 강조하고 있다.