• 공업화학
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• 제9권3호
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• pp.435-439
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• 1998

페녹시기와 트라이풀루오르에톡시기가 함께 치환된 포스파젠 고분자를 기초로 한 새로운 형태의 이온교환 분리막 재질을 제조하였다. 합성된 고분자의 구조를 핵자기 공명 분석기, 적외선 흡광 분석기, 원소 분석기와 겔침투 분석기를 통해 확인하였다. 기본 포스파젠 분리막은 친수성과 이온 투과성을 높이기 위해 술폰화시켰다. $[NP(OC_6H_4SO_3H)_{1.58}(OCH_2CF_3)_{0.42}]_n$으로부터 얻은 분리막을 상용 분리막과 비교한 결과 매우 뛰어난 이온운반율, 면적 저항 및 이온교환용량을 나타내었다.

• 공업화학
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• 제5권5호
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• pp.843-850
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• 1994

$[NP(OC_6H_5)_{1.7}(OC_6H_4P(Ph)_2$=$CHCH_2CH_2CH_3)_{0.3}]_n$과 같은 포스파젠 고분자에 부착된 Wittig 시약을 $[NP(OC_6H_5)_{1.7}(OC_6H_4Br)_{0.3}]_n$에 n-butyllithium, diphenylchlorophosphine, 그리고 n-butyl iodide 등으로 처리하여 만들었다. 고분자의 반응들은 [$NP(OC_6H_5)_5(OC_6H_4P(Ph)_2$)]와 같은 고리형 삼중체를 이용한 모델반응 조건들을 고려해 이루어졌다. 포스파젠 고분자에 부착된 Wittig 시약과 benzophenone을 반응시켜 원하는 알켄과 고분자에 부착된 phosphine oxide를 성공적으로 만들었다.