3,3-Dimethyl-1-butene ($C_6H_{12}$) monomer를 이용하여 RF power와 압력에 따라 막을 증착하였다. Power/pressure (W/Torr)가 증가할수록 증착된 비정질 탄소막은 FT-IR 스펙트럼에서 $CH_x$ (at around $2900cm^{-1}$)는 감소하였지 만 elastic modulus는 증가하는 것으로 나타났다.
3,3-Dimethyl-1-butene ($C_6H_{12}$) monomer를 이용하여 RF power와 압력에 따라 막을 증착하였다. 증착된 막은 power/pressure (W/Torr)가 증가할수록 비정질 탄소막은 FT-IR 스펙트럼에서 $CH_x$ (at around $2900cm^{-1}$)는 감소하였고, n과 k값은 증가하는 것으로 나타났다.
3,3-Dimethyl-1-butene($C_6H_{12}$) monomer를 이용하여 RF power와 압력에 따라 증착된 막의 refractive index와 extinction coefficient를 알아보았다. 증착된 막의 n & k는 power/pressure가 증가할수록 증가하였으며, Ar으로 증착된 막이 더 낮은 값을 갖는 것으로 나타났다.
3,3-Dimethyl-1-butene ($C_6H_{12}$) monomer를 이용하여 RF power와 압력에 따라 막을 증착하였다. 증착된 막은 power/pressure (W/Torr)가 증가할수록 비정질 탄소막은 Raman 스펙트럼에서 D peak가 증가하였고, ring 구조의 막을 형성하였다. 또한 ring 구조의 막이 형성됨으로써 hardness와 modulus는 각각 12 GPa과 85 GPa로 선형적으로 증가하는 것으로 나타났다.
Organic thin films were fabricated an using interelectrode capacitively coupled type plasma polymerizaion apparatus, and their optical properties were investigated. A deposition rate of styrene thin films is linearly increased, but one or vinyl-pyridine thin films is nonlinearly increased with increasing of polymerization time, pressure and monomer flow rate. The transmittance of single layer thin films is constant, but that of multi-layer appeared irregular peak with increasing of the number of layers. And then the refractive index of organic thin films is various from 1.55 to 1.65 with wavelength, the extinction coefficient indicated $10^{-3}$.
최근에 소개된 plasma arc curing units는 비교적 높은 광 강도를 가지고 짧은 시간내에 복합레진을 적절히 중합시킨다고 한다. 이 연구는 plasma arc curing units의 강한 광도와 짧은 시간에 의한 중합이 복합레진에 미치는 영향을 평가하기 위해 기존의 가시광선 중합기를 대조군으로 하여 표면 미세경도와 5급 수복물의 변연에 나타나는 미세누출을 색소침투방법으로 측정, 분석하여 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 각 깊이에서의 미세경도는 AHL군이 AP3, AP6군보다 모든 깊이에서 높았고, ZHL군보다 ZP6군이 표면에서 더 높았으며(P<0.05), 1mm와 2mm에서는 차이가 없었다(P>0.05). 그 외 모든 깊이에서 ZHL군이 ZP3, ZP6군보다 높았다(P<0.05). 2. 각 중합방법내 깊이에 따른 미세경도는 AHL군의 표면-1mm와 ZHL군의 1mm-2mm를 제외하고는 모든 군에서 깊이에 따라 감소되었다(P<0.05). 3. 교합면측과 치경부측 미세누출은 모든 중합군에서 교합면측이 낮게 나타났지만 유의한 차이는 없었다(P>0.05). 4. 중합방법간 미세누출은 모든 군에서 차이가 없었다(P>0.05). 5. 각 중합방법에 따른 재료간의 미세누출은 차이가 없었다(P>0.05).
Polymerase chain reaction (PCR) was evaluated for the early detection of Aujeszky's disease virus (ADV) DNA from virus-infected cell cultures. For the purposes, the Korean ADV NYJ1-87 was propagated in swine kidney (SK) cells and subjected to the amplification of DNA (217 bp) by PCR using sense and antisense primers specific to gp50 gene of the ADV. In detection of cell-associated viral DNA, reliable PCR conditions were determined as 30 cycles of reaction consisting 1 minute each of denaturation at $94^{\circ}C$, annealing at $55^{\circ}C$ and polymerization at $72^{\circ}C$. The PCR encountered best results with reagent mixtures of $50{\mu}l$ containing $200{\mu}M$ dNTPs, $0.2{\mu}M$ each sense and antisense primers, 1 mM $MgCl_2$ and 10% (v/v) template DNA in the final concentrations. ADV-specific DNAs were detected as early as 6, 6, and 9 hours post-infection, respectively, from lysates of the SK cells infected with ADV of $10^3$, $10^2$ and $10^1\;TCID_{50}/ml$ by this condition. In culture supernatant, the DNAs were detected from ADV of as low infectivity as $10^ {-3}\;TCID_{50}/ml$ by the reduced reagent concentrations and 30 cycles of 1 minute each of denaturation at $94^{\circ}C$ and annealing at $55^{\circ}C$, and 2 minutes of polymerization at $72^{\circ}C$. The lowest amount of detectable ADV DNA was 1 fg. In conclusion, the PCR condition established in the present study was recognized as a feasible alternative to time-consuming procedures in isolation and characterization of the virus.
Shim, J. K.;Lee, S. H.;Kwon, O. H.;Lee, Y. M.;Nho, Y. C.
한국막학회:학술대회논문집
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한국막학회 1998년도 춘계 총회 및 학술발표회
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pp.99-101
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1998
1. Introduction : The conventional grafting polymerization technique requires chemically reactive groups on the surface as well as on the polymer chains. For this reason, a series of prefunctionalization steps are necessary for covalent grafting. The surface prefunctionalizational technique for grafting can be used to ionization radiation, UV, plasma, ion beam or chemical initiators. Of these techniques, radiation method is one of the useful methods because of uniform and rapid creation of active radical sites without catalytic contamination in grafted samples. If the diffusion of monomer into polymer is large enough to come to the inside of polymer substrate, a homogeneous and uniform grafting reaction can be carried out throughout the whole polymer substrate. Radiation-induced grafting method may attach specific functional moieties to a polymeric substrate, such as preirradiation and simultaneous irradiation. The former is irradiated at backbone polymer in vacuum or nitrogen gas and air, and then subsequent monomer grafting by trapped or peroxy radicals, while the latter is irradiated at backbone polymer in the presence of the monomer. Therefore, radiation-induced polymerization can be used to modification of the chemical and physical properties of the polymeric materials and has attracted considerable interest because it imparts desirable properties such as blood compatibility. membrane quality, ion excahnge, dyeability, protein adsorption, and immobilization of bioactive materials. Synthesizing biocompatible materials by radiation method such as preirradiation or simultaneous irradiation has often used $\gamma$-rays to graft hydrophilic monomers onto hydrophobic polymer substrates. In this work, in attempt to produce surfaces that show low levels of anti-fouling of bovine serum albumin(BSA) solutions, hydroxyethyl methacrylate(HEMA) was grafted polypropylene membrane surfaces by preirradiation technique. The anti-fouling effect of the polypropylene membrane after grafting was examined by permeation BSA solution.
256M DRAM급에 해당하는 0.25$\mu\textrm{m}$의 회로선 폭을 가공하기 위해 Arc layer & DUV resist 사용이 필수적이다. Poly-Si 식각시 Arc layer 적용여부 및 resist 종류에 따른 차이 를 TCP-9408 etcher(Lam Research Co.)에서 $Cl_2/O_2, Cl_2/N_2, Cl_2$/HBr 3가지 gas chemistry 를 변화시키면서 조사하였다. 동일한 식각 조건에서 DUV resist사용의 경우에 I-line resist 에 비해 식각 profile이 profile이 positive하고 CD gain도 크게 나왔다. 이것은 resist손실에 의한 polymer생성의 증가가 식각시 측벽 보호막을 강화시키기 때문이다. Arc layer 적용의 경우 Arc layer 식각시 생기는 fluorine계 polymer가 poly-Si 식각시 mask역할을 하므로 CD gain이 증가하는 것으로 나타났다. Gas chemistry에 의한 영향은 $Cl_2/O_2$의 경우가 식각 시 polymer형성을 촉진시켜 positive profile 및 CD gain을 초래하였다. $Cl_2$/HBr의 경우에는 profile이 vertical 하였고 CD gain도 거의 없었다. 또한 dense pattern 과 isolated pattern 사이의 profile 및 CD 차이도 가정 작게 나타났다. HBr gas 사용이 식각시 pattern density 에 따른 측벽 보호막 형성의 불균일성을 최소화 시켜 양호한 특성을 보여주었다.
본 연구는 광중합 충전 재료의 적층 방법에 따른 중합수축 양상을 스트레인 게이지를 이용하여 측정하고, 이를 응력으로 환산하여 치면에 미치는 영향을 평가하였다. 발거된 영구치 70개의 치경부에 가로 3 mm, 세로 3 mm, 높이 1.5 mm의 와동을 형성하고, 일회 충전, 수평 적층법, 사면적층법으로 나누어 수복 재료를 충전하였다. Plasma arc lamp(PAL)를 사용한 고출력 광중합기를 광원으로 사용하였으며, 수복 재료는 Filtek $Z-250^{(R)}$ 복합레진, $Dyract^{(R)}$ AP 컴포머 그리고 $Tetric^{(R)}$ Flow 유동성 복합레진을 사용하였다. 중합과정동안 스트레인 게이지를 이용하여 치면에 발생된 스트레인을 측정하였고, 이를 응력으로 환산하여 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. Strain 값은 광중합 개시와 함께 급격히 증가하였으며, 시간이 지남에 따라 서서히 감소하는 양상을 보여 주었다. 2. $Z-250^{(R)}$의 수축응력이 $Dyract^{(R)}$ AP와 $Tetric^{(R)}$ Flow에 비해 상대적으로 높게 나타났으나 통계학적 유의차는 없었다(p>0.05). 3. $Z-250^{(R)}$과 $Dyract^{(R)}$ AP에서 3가지 와동 충전 방법 간에는 수축응력의 차이가 없었다(p>0.05). 4. 와동 충전 방법에 따른 충전 재료 간에도 수축응력의 유의차는 없었다(p>0.05). 이상의 결과를 종합해보면 $Dyract^{(R)}$ AP는 광중합 과정과 자가 중합 과정이 함께 일어남으로 인해 $Z-250^{(R)}$보다 상대적으로 중합 수축이 적게 나타난 것으로 판단되었다. $Tetric^{(R)}$ Flow는 한 번에 충전을 완료할 수가 있어 시간 소모가 적고 치질에 대한 중합수축력도 적어 유치 와동 충전 시 유용한 충전 방법이라고 판단되었다. 향후 와동 충전 방법의 방향과 광중합 시간 간격이 광중합수축에 미치는 영향 등에 대한 추가 연구가 필요하다고 사료되었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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