• 전기학회논문지
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• 제58권8호
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• pp.1566-1571
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• 2009

The discharge electrodes in ac PDP are coated with dielectric layer, and transparent MgO thin films are deposited on the dielectric layer. The main role of the MgO thin films in ac PDP is to protect the dielectric layer from sputtering by ion bombardment in the glow-discharge plasma. An additional important role of the MgO thin film is the high secondary electron emission coefficient which leads the low firing voltage and low cost of the PDP. In this paper, we investigated the relations of the crystal orientation about deposition thickness, deposition rate, temperature of substrate, and distance between the MgO tablet and the substrate. Additionally, we investigated the discharge characteristics of the AC PDP using nano-powder MgO tablet

• 한국정밀공학회지
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• 제22권8호
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• pp.159-164
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• 2005

The Hot Embossing Lithography(HEL) as a method fur the fabrication of the nanostructure with polymer is becoming increasingly important because of its simple process, low cost, high replication fidelity and relatively high throughput. In this paper, we carried out experimental studies and numerical simulations in order to understand the viscous flow of the polymer (PMMA) film during the hot embossing process. To grasp the characteristics of the micro patterning rheology by process parameters (embossing temperature, pressure and time), we have carried out various experiments by using the nickel-coated master fabricated by the deep RIE process and the plasma sputtering. During the hot embossing process, we have observed the characteristics of the viscoelastic behavior of polymer. Also, the viscous flow during the hot embossing process has been simulated by the continuum based FDM(Finite Difference Method) analysis considering the micro effect, such as a surface tension and a contact angle.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1997년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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• pp.379-381
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• 1997

The dielectric layers in AC plasma display panel(AC PDP) are essential to the discharge cell structure, because they protect metal electrodes from sputtering by positive ion and from a sheath of wall charges which are essential to memory function of AC PDP. Furthermore, this layer should be transparent because the visible light must pass through the layer. In this paper, the dielectric breakdown strength and transparency of the dielectric layer on the discharge electrodes are studied. The variables in this test are the dielectric layer thickness, dielectric firing condition, gas pressure, species of gas and so on.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2008년도 제39회 하계학술대회
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• pp.1281-1282
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• 2008

Low cost TCO(Transparent Conductive oxide) thin films were prepared by 3" DC/RF magnetron sputtering systems. For the AZO preparation processes a 99.99% AZO target (Zn: 98 wt.%, $Al_2O_3$: 2 wt.%) was used. In order to verify feasibility of the AZO thin films to organic light emitting device (OLED) application, test organic light emitting device was fabricated based on AZO as TCO, TPD as hole transporting layer (HTL), Alq3 as both emitting layer (EML) and electron transporting layer (ETL), and aluminium as cathode, where the both ITO and AZO surfaces were treated using $O_2$ RF plasma. The I-V characteristics of the AZO/TPD/Alq3/Al OLEDs were evaluated. As the results, the performance of the OLEDs with AZO as transparent conducting anode could be useable.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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• pp.183-183
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• 2010

최근 고밀도 플라즈마(High Density Plasma, HDP)를 이용하여 STI (shallow trench Isolation) 공정에 사용하기 위한 높은 종횡비를 가지는 갭을 공극 없이 절연물질로 채우는 HDP CVD 법이 개발되어 사용되고 있으며, HDP 공정에서는 그 증착 과정 중에 스퍼터링(Sputtering)에 의한 식각이 동시에 발생하기 때문에 높은 종횡비를 가지는 갭을 공극 없이 채우는 것이 가능하게 되었다. 이러한 특성을 이용하여 HDP CVD 공정은 주로 STI 와 알루미늄 배선간의 갭을 실리콘 산화막 ($SiO_2$)의 절연막으로 채우는 데 주로 사용되고 있다. 이 논문에서는 새로 개발된 HDP CVD 법을 적용하여 300 mm Si 웨이퍼에 $SiO_2$ 절연막을 증착하여 웨이퍼의 중심과 가장자리의 deposition uniformity를 nano-indenter system을 이용하여 연구하였으며, 그 결과 300 mm 웨이퍼에서 균일한 탄성계수 값이 측정되었다. 또한 HDP CVD로 제작된 SiO2 박막의 탄성계수 값이 99 - 107 GPa로 측정되어 기존 PECVD-$SiO_2$ 박막보다 약 10 - 20% 향상된 것을 확인하였다.

• 전력전자학회:학술대회논문집
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• 전력전자학회 2010년도 하계학술대회 논문집
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• pp.516-517
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• 2010

최근에 들어 반도체 및 디스플레이 분야를 포함하여 태양전지와 같은 신재생 에너지 분야에서 고품질, 고기능성 박막이 많이 사용되고 있으며, 이에 따라 플라즈마 제어기술 및 코팅 공정기술 개발에 대한 요구가 증가하고 있다. 산업기술이 고도화됨에 따라 다양한 계열의 박막이 필요하게 되었고 고밀도의 플라즈마를 공급하고 안정된 공정을 진행하기 위해 순시적인 플라즈마 제어가 가능한 임펄스 전원장치에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 기존의 임펄스 전원장치에서는 플라즈마 발생에 필요한 고전압 발생만 관점을 두고 있으나 플라즈마의 발생뿐이 아니라 증착율이 높은 상태로 유지되어야 실제 공정의 효율이 증가한다. 본 연구에서는 증착 효율을 극대화하기 위하여 별도의 저압회로를 부가한 복합형 임펄스 전원장치를 제안한다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 1996년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.55-58
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• 1996

A new type CuN/Cu/CuN thin film electrode material with high adhesion to glass was developed by the dc reactive planar magnetron sputtering system for the PDP(Plasma Display Panel). The adhesive force of the CuxN thin film was in the range of 20∼40(N) under the conditions of the N$_2$ partial pressure of 15%, discharge current of 70mA, discharge voltage of 450v and substrate bias voltage of -100V. The adhesive force was depended on the N$_2$ partial Pressure, discharge current and substrate bias voltage.

• 한국윤활학회:학술대회논문집
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• 한국윤활학회 1992년도 제15회 학술강연회초록집
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• pp.71-76
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• 1992

초고진공중에 있어서의 기계, 기기의 설계에 있어서 마찰의 제어는 가장 중요한 과제의 하나이다. 지금까지 그 마찰면의 윤활을 위해서는 고체 윤활제로서 Au, Ag 등 $MoS_2$ 피막이 많이 쓰여져 왔다. 또한 그것들의 피막 형성법으로서 Plasma Coating, Sputtering 및 Ion-Plating 등의 여러가지 피막형성법이 개발되어 왔다. 그러나 어느 경우도 형성된 $수\mum$의 피막의 마모에 의한 유한의 수명이 존재하고, 마찰게수의 면에서도 아직 충분하다고 말 할수 없는 것이 현상이다. 이것에 대하여 필자들은 우주에 있어서 사용을 목적으로 새로운 피막 형성법으로서 Tribo-Coating법을 개발하여 그 유효성을 나타내어 왔다. 본 연구에서는 초고진공중에 있어서 Tribo-Coating법에 의한 In막의 윤활 특성에 영향을 미치는 지배적 제인자의 역활을 밝히고져한다.

• KSTLE International Journal
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• 제9권1_2호
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• pp.31-35
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• 2008

DLC (Diamond Like Carbon) films have predominant tribological properties like a high hardness, low friction and high chemical resistance; therefore, DLC films are applied in a wide range of industrial fields. This paper evaluated the characteristics of DLC films deposited on bearing steel with different hardness by RF-PECVD (Radio Frequency - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) method. Si-interlayer was deposited on bearing steel to improve adhesion strength by RF-Sputtering method. The DLC film structures were analyzed with Raman spectra and Gaussian function. Adhesion strength of DLC films was measured with a scratch tester. Friction and wear test were carried out with a ball-on -disc type to investigate the tribological characteristics. Experimental results showed that DLC films deposited on bearing steel under same deposition condition have typical structure DLC films regardless of hardness of bearing steel. Adhesion strength of DLC film is increased with a hardness of bearing steel. Friction coefficient of DLC film showed lower at the high hardness of bearing steel.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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• pp.109-109
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• 2010

최근 AC-PDP에서 MgO Protective Layer 위에 별도의 기능막(Functional Layer)을 사용하고 있는데, 이 기능막인 MgO 나노 입자는 장시간 구동시 AC_PDP panel내에서 plasma 방전에 의하여 MgO Protective Layer와 기능막이 방전 공간에 형성 된 이온에 의해 Sputtering 또는 재 증착 될 수 있다. 본 실험에서는 조성이 다른 기능막이 적용된 AC-PDP Test panel을 제작하여 장시간 구동 후 기능막인 두 가지 다른 MgO 나노 입자의 재형성된 형태를 주사 전자 현미경(Scanning Electron Microscope)을 통해 Surface Profile 및 구조의 변화를 분석하고, 또한 음극선 분광 분석(Cathodoluminascence)을 통하여 방전 영역과 비방전 영역의 delay time, 방전전압 및 효율 등의 전기 광학적 특성과의 관계를 분석하고자 한다.