• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 1996.11a
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• pp.357-360
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• 1996

MgO protection layer in ac PDP(plasma display panel) prevents the dielectric layer from ion bombarding in discharge plasma. The MgO layer also has the additional important role in lowering the firing voltage due to a large secondary electron emission coefficient. Until now, the MgO protection layer is mainly prepared by E-beam evaporation. In this study, MgO protection layer is prepared on dielectric layer of ac PDP cell by reactive R.F magnetron sputtering with Mg target under various conditions of oxygen partial pressure. Discharge characteristics of PDP is also studied as a parameter of MgO preparation conditions. The sputtered MgO shows the better discharge characteristics compared with MgO deposited by E-beam evaporator.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 1999.07e
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• pp.2230-2232
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• 1999

A new type ac plasma display panel(PDP) cells are designed and tested electrically and optically. One cell has the structure of sin discharge path shape and small electrode area. The other cells have the non-symmetric structure with a same electrode area. They show a higher luminous efficienccy and a lower power consumption about 25% improvement than the conventional standard ac PDP cells.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 1999.07a
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• pp.232-232
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• 1999

교류형 플라즈마 방전 표시기(AC Plasma Display Panel, AC PDP)에 사용되는 플라즈마는 그 부피가 너무 작아서 플라즈마에 변화를 일으키지 않고 그 물성을 관측하기란 쉬운일이 아니다. 그래서 주로 PDP 내의 물성을 관측하는 데 시뮬레이션에 의존하게 된다. 그 물성중에 PDP내의 전계 분포에 대한 정보는 방전의 형성 및 소멸에 대한 많은 단서를 제공하고 있다. 특히 AC PDP의 경우, 유전체에 형성되는 벽적하(wall charge)가 방전의 형성 및 PDP 구동에 중요한 역할을 하는데, 이는 PDP 내의 전계 분포를 살펴봄으로써 대략 예측할 수 있다. 본 연구에서는 시뮬레이션에 의존하지 않고, 직접 레이저 유도 형광법을 이용하여 AC PDP 내의 전계를 측정하였다. 방전 가스인 헬륨(He)의 에너지 준위는 전계의 크기에 따라 에너지 준위가 변화하여, Rydberg(n$\geq$8) 준위가 여러 개의 준위로 나누어지는 현상이 일어나는데, 이를 Stack 효과라고 한다. 따라서 전계의 세기가 커짐에 따라서 각 준위와 준위 사이 값(splitting)이 커지는데, 이를 이용하면 전계를 측정할 수 있다. 즉, 헬륨 원자를 여기시키는 레이저 파장을 변화시키면서 관측되는 레이저 유도 형광 신호를 관측하면, 준위의 splitting을 관측할 수 있다. 본 연구에서는 PDP 내의 전계의 시간적 변화를 관측하였다. 50%, 40kHz의 구형파를 PDP의 두 전극에 가하였을 때, 플라즈마가 켜진 상태뿐만 아니라 플라즈마가 꺼진 후에도 전계에 의한 Splitting 신호가 관측이 되었는데, 전계로 환산하였을 때, 그 값은 대략 수 kV/cm의 값을 갖았는데, 이는 wall charge에 의한 값으로 사료된다.결과로 생각되어진다.플라즈마의 강도값을 입력하여 플라즈마의 radiation을 검출하고, 스퍼터링 공정중 실질적인 in-situ 정보로 이용하였다. PEM을 통하여 In/Sn의 플라즈마 강도변화를 조사하였다. 초기 In/Sn의 플라즈마 강도(intensity)는 강도를 100하여, 산소를 주입한 결과, plasma intensity가 35 줄어들었고, 이때 우수한 ITO 박막을 얻을 수 있었다. Pulsed DC power를 사용하여 아크 현상을 방지하였다. PET 상에 coating 된 ITO 박막의 표면저항과 광투과도는 4-point prove와 spectrophotometer를 이용하여 분석하였고, AES로 박막의 두께에 따른 성분비를 확인하였다. ITO 박막의 광투과도는 산소의 유량과 sputter 된 In/Sn ion의 plasma emission peak에 따라 72%-92%까지 변화하였으며, 저항은 37$\Omega$/$\square$ 이상을 나타내었다. 박막의 Sn/In atomic ratio는 0.12, O/In의 비율은 In2O3의 화학양론적 비율인 1.5보다 작은 1.3을 나타내었다.로 보인다.하면 수평축과 수직축의 분산 장벽의 비에 따라 cluster의 두께비가 달라지는 성장을 볼 수 있었고, 한 축 방향으로의 팔 넓이는 fcc(100) 표면의 경우 동일한 Ed+Ep값에 대응하는 팔 넓이와 거의 동일한 결과가 나타나는 것을 볼 수 있다. 따라서 이러한 비대칭적인 모양을 가지는 성장의 경우도 cluster 밀도, cluster 모양, cluster의 양 축 방향 길이 비, 양 축 방향의 평균 팔 넓이로부터 각 축 방향의 분산 장벽을 얻어낼 수 있을 것으로 보인다. 기대할 수 있는 여러

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 1999.07a
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• pp.99-99
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• 1999

투명전도막인 Ito(Indium Tin Oxide)는 flat panel display 와 solar cell 같은 optoelectronic 이나 microelectronic device에서 널리 이용되어 지고 있다. 현재 상용화되고 있는 거의 대부분의 ITO 박막은 sputtering법에 의해 제조되고 있으나 공정상의 이유로 15$0^{\circ}C$이상의 기판온도가 요구되어진다. 그런, 실제 display device 제조공정에서는 비정질 실리콘 박막이나 유기막 위에 ITO박막을 제작할 필요성이 증대되어 지고 있고, 또한 다른 전자소자에 있어서도 상온 ITO 박막 형성 공정에 대한 필요성이 증대되고 있다. 이러한 이유로 본 실험에서는 IBAE(Ion Beam Assisted Evsporation)을 이용하여 저온 ITO박막을 유기막 위에 증착하는 공정에 대한 연구를 수행하였다. 이렇게 증착된 ITO 박막의 결정성은 비정질이었다. 또한, 모든 display device 제작에는 식각공정이 필수인데 기존에 사용되고 있는 wet etching 법은 등방성 식각특성 때문에 미세 pattern 형성에 부적합？, 따라서 비등방성 식각에 용이한 plasma etching법을 사용하여 저온 증착된 ITO 박막의 식각특성을 알아보았다. 실험에 사용된 식각장비는 자장 강화된 유도결합형 플라즈마 식각장비(MEICP)를 사용하였으며, 13.56MHz의 RF power를 사용하였다. 식각조건으로 source power는 600W~1000W, 기판 bias boltage는 -100V~-250V를 가하였으며, Ar, CH4, O2, H2, BCl3의 식각 gases, 5mTorr~30mTorr의 working pressure 변화 그리고 기판 온도에 따른 식각특성을 관찰하였다. ITO 가 증착된 기판으로는 유기물 중 투명전도성 박막에 기판으로서 사용가능성이 클 것으로 기대되어지는 PET(polyethylene-terephtalate), PC(polycarbonate), 아크릴을 사용하여 기판 변화가 식각특성에 미치는 영향에 대해서 각각 관찰하였다. 식각속도의 측정은 stylus profiler를 이용하여 측정하였으며 식각후에 표면상태는 scanning electron spectroscopy(SEM)을 이용하여 관찰하였다.

• Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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• v.18 no.2
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• pp.180-186
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• 2005

As a driving method of AC-PDP, Address-Display Separated(ADS) driving has been widely adopted for its simple architecture and low discharge failure rate. However, a high definition like a HDTV has defect of long addressing time by reason of a number of pixels. Priming effect isn't fully sustained because of long addressing time during the address period. Therefore, it has different wall charge and luminance of each addressing time in the sustain period. In this study, we suggest a new driving waveform on the address period to improve these defects. We applied a ramp waveform, instead of a square waveform, to an address period in ADS, for operating on the AC-PDP, which used the conventional gas [He-Ne-Xe]. When the ramp waveform is applied to the address period, we experimented for uniform wall charge and the improved luminance by sustained Priming effect at each addressing time in the sustain period.

• Journal of the Korean Society of Safety
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• v.24 no.6
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• pp.50-54
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• 2009

Ionizer is used for improving manufacturing process and reducing inferior goods in the clean room. As a general rule, neutralization of the electrostatic charge is most important to make TFT-LCD, PDP and OLED. Pulse AC-static eliminator with output voltage of about 10.5kV has been used these days as neutralization device. But this device has a problem with lower performance which was caused by particles-adhesion on the electrode when it has been used for a long time. So we studied to solve the problem with lower performance using high Frequency(72kHz) static eliminator which was produced by Piezo transformer device, and compared Pulse-AC type with Piezo-electronic device such as decay time and ion balance for 10 weeks periods. As a result of this study, we found that Piezo transformer device has been maintained normal condition for 10 weeks. Also, we made the rule by this study, normally Piezo transformer device has to clean the electrode during every 11th weeks.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 1999.05a
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• pp.582-588
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• 1999

정보화 사회의 발전과 함께 멀티미디어에 대한 관심이 집중되고 있으며, 점유 공간이 작고 가벼우며 대면적이 가능한 정보 표시 디스플레이에 대한 기술은 고부가가치 산업으로 인식되어 지고 있다. 이러한 정보 표시 디스플레이들 중, 전기 발광 소자 (Electroluminescence Display : ELD), 액정 표시 디스플레이 (Liquid Crystal Display LCD), 플라즈마 디스플레이 (Plasma Display Panel) 등의 대한 연구가 세계적으로 매우 활발하게 진행되고 있다. 본 연구에서는 란탄 계열의 금속 착 화합물인 Tb(ACAC)$_3$(Phen)과 Tb(ACAC)$_3$(Phen-Cl)를 이용해 다비이스를 제작한후 광학적 및 전기적 특성을 조사하였다. 또한 luminous efficiency와 cyclic voltametric 방법을 이용해 에너지 밴드로 두 발광 물질인 Tb(ACAC)$_3$(Phen)과 Tb(ACAC)$_3$(Phen-Cl)을 비교.분석하였다. 본 연구의 디바이스 구조를 보면 anode/hole transporting layer (HTL)/emitting material layer (EML)/electron transporting layer (ETL)/cathode와 같고 ETL를 aluminum-tris- (8-hydroxyquinoline) (Alq$_3$)와 bis(10-hydroxybenzo(h)quinolinato)beryllium (Bebq$_2$)를 사용하였으며 HTL 로 N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD)를 사용하였다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2004.04b
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• pp.137-140
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• 2004

We treated $O_2$ plasma on ITO thin film using RIE (Reactive Ion Etching) system, and analyzed the ingredient of ITO thin film according to change of processing conditions. The ingredient analysis of ITO thin film was used by EDS (Energy Dispersive Spectroscopy) and XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) to compare and analyze the ingredient of bulk and surface. We measured electrical resistivity using Four-Point-Probe and calculated sheet resistance, and ITO surface roughness was measured by using AFM (Atomic Force Microscope). Finally, we fabricated OLEDs (Organic Light-Emitting Diodes) device using substrate that was treated optimum ITO surface. The result of the study for electrical and optical properties using I V L System (Flat Panel Display Analysis System), we confirmed that electrical properties (I-V) and optical properties (L-V) were improved.

• Journal of the Korean institute of surface engineering
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• v.38 no.2
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• pp.73-78
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• 2005

A real-time monitoring of ICP(inductively coupled plasma) assisted magnetron sputtering of MgO was carried out using a QMS(quadrupole mass spectrometer), an OES(optical emission spectrometer), and a digital oscilloscope with a high voltage probe and a current monitor. At the time of ICP ignition, the most distinct impurity was OH emission (308.9 nm) which was dissociated from water molecules. For reactive deposition oxygen was added to Ar and the OH emission intensity was reduced abruptly When the discharge voltage was regulated by a PID controller from 240V(metallic mode) to 120V(oxide mode), the emission intensity from Mg (285.2 nm) changed proportionally to the discharge voltage, but the intensity of Ar I(811.6 nm) was constant. At 100V of discharge voltage, Mg sputtering was almost stopped. Emissions from Ar I(420.1 nm) and Mg I were dropped down to 1/10, but Ar I(811.6 nm) didn't change. And the emission from atomic oxygen (O I, 777.3 nm) was increased to 10 times. These results are compatible with those from QMS study.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2000.01a
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• pp.175-176
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• 2000

Electric fields and the wall voltages in a surface-type AC PDP cell were measured using a Laser Induced Fluorescence Spectroscopy. For the condition of He 100Torr, 200V sustain voltage and 50kHz sustain frequency, the wall voltage dropped from about 50V to about -75V within $1{\mu}sec$ after the main discharge. And the wall voltage decreased with the rate of $10.8V/{\mu}sec$ due to the accumulation of the space charges after $1{\mu}sec$. But when the operating pressure was 40Torr, it increased with the rate of $4.5V/{\mu}sec$ because the diffusion effect of the wall charge on MgO surface was more dominant than the accumulation effect of the space charges. During the pulse-off period, the wall voltage decreased slightly due to the diffusion of the wall charge. When the sustain voltage was 250V, the self-erasing discharge occurred, and the absolute value of the wall voltage decreased rapidly just after the pulses were off, which was caused by the accumulation of the charges generated by the self-erasing discharge.