• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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• pp.450-451
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• 2007

Dot-patterned carbon nanotube (CNT) emitters with excellent field emission properties were fabricated using photosensitive CNT paste. We carried out a parametric study on the compositions and the fabrication processes of the paste, in particular, by ball milling CNTs, which were optimized in terms of dot shapes and their field emission characteristics. The ball milling process improved the field emission current of the dot-patterned CNT emitters several times higher than that of the non-milled paste.

• 공업화학
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• 제7권2호
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• pp.379-386
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• 1996

광 이량화 특성을 나타내는 1-methyl-4-[2-(4-diethylacetylphenyl)ethenyl] pridinium methosulfate(SbQ-A염)를 dimethyl sulfate, terephthalaldehyde mono-(diethyl acetal) 및 4-picoline을 이용하여 합성하였다. 합성된 SbQ-A염을 PVA와 반응시켜 동일(MW=77,000-79,000g/mol) 분자량을 가진 PVA내 SbQ의 함량이 다른 PVA-SbQ-H 시료 및 SbQ의 함량은 약 1.3mol%로 같으나 PVA의 분자량이 다른 PVA-SbQ-L들을 합성하였다. Gray scale(GS)법을 이용하여 측정된 PVA-SbQ 수용성 감광성 고분자의 상대감도는 PVA내 SbQ의 함량이 증가함에 따라 증가하였으며, PVA의 분자량이 낮아질수록 감소하였다. PVA-SbQ-H의 경우 SbQ 함량이 2.63mol%인 시료는 PVA에 ammonium dichromate가 혼합된 기존시료보다 90배 증가된 감도를 나타내었다. PVA-SbQ를 사용하여 형광체 슬러리를 제조하고 사진식각공정을 거쳐 형광체의 미세패턴을 형성하였다. 형광체 슬러리 제조시 양이온 계면활성제인 cetyltrimethyl ammonium chloride를 첨가제로 사용하면 형광면의 해상도가 증가됨을 알았다.

• Journal of Photoscience
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• 제9권2호
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• pp.1-4
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• 2002

Hula-twist is a volume-conserving photoisomerization reaction mechanism postulated in 1985 to account for the rapid photoisomerization of the retinyl chromophore in rhodopsin. The requisite stereochemical consequence of simultaneous isomerization of a double bond and an adjacent single bond has recently been demonstrated in isomerization of pre-vitamin D in an organic glass and by many other examples of organic systems already reported in the literature This paper reports the consequence in applying the mechanism to the primary photochemical process of several photosensitive biopigments: bilirubin, photoactive yellow protein, bacteriorhodopsin and rhodopsin. It is shown that the anchored nature of the chromophores must first be taken into consideration.

• 한국인쇄학회지
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• 제16권3호
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• pp.147-156
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• 1998

A Photosensitive Crown Ether Styryl Dye derivative(CESD) was prepared for the application and the structure of it was discussed. Light excitation causes the trans-cis isomerization of CESD yielding a conformation suitable to form a coordination bond between an anion group and a metal cation located in crown ether. Intermolecular complex stabilized the cis isomer that absorbs at a shorter wavelength in the trend-cis isomerization. Application of CESD was suggested.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2007년도 추계학술발표대회 및
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• pp.31.1-31.1
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• 2007

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1999년도 추계학술대회 논문집 학회본부 C
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• pp.1140-1141
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• 1999

유리 및 세라믹 미세구조물은 열적, 화학적, 기계적특성이 우수하며 이 제조방법으로 대표적인 것이 그라스의 노광, 열처리에 의한 노광부를 선택적으로 에칭시켜 구조물을 형성시키는 감광성그라스 공정이다. 그러나 공정조건을 변화시킴에 따라 기존과는 정반대로 비노광부를 선택적으로 에칭시키는 것이 가능하였으며 본 방식에 의해서 더욱 정밀한 미세구조물을 형성할 수 있음을 확인하였다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제29권9호
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• pp.1689-1694
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• 2008

• 공업화학
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• 제9권7호
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• pp.1053-1058
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• 1998

Poly(vinyl alcohol)(PVA)와 n-butylaldehyde를 산촉매하에서 반응시켜 butyral unit의 함량이 서로 다른 poly(vinyl butyral)(PVB)를 합성하였으며, PVB내 butyral unit의 함량은 원소분석으로부터 결정하였다. 합성된 PVB와 p-azidobenzaldehyde를 산촉매하에서 반응시켜 azidobenzene기가 도입된 감광성수지(PVB-AZ)를 합성하였으며, PVB-AZ내 azidobenzene기의 함량은 UV 분광분석법으로 결정하였다. 합성된 PVB-AZ의 감광특성, 열적성질 및 용해특성을 조사하였으며, 상대감도 변화를 gray scale(GS)법으로 조사하였다.PVB-AZ내 butyral unit의 함량, azidobenzene기의 함량 및 현상용매에 따라 GS법에 의한 상대감도가 서로 다르게 나타났으며, 공유결합으로 감광기가 도입된 감광성수지(PVB-AZ)의 감도는 PVB에 감광제인 2,6-bis(p-azidobenzylidene) cyclohexanone(BAC)가 혼합된 감광성수지(PVB-BAC)보다 우수하였다.

• 한국세라믹학회지
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• 제40권2호
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• pp.153-158
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• 2003

Photosensitive sol solution을 이용한 self pattern된 박막은 photoresist/dry etching process에 비해 박막의 제조과정이 간단하다는 장점을 가지고 있다. 이 연구에서는 강유전성 메모리소자의 산화물 전극재료로 사용되고 있는 La$_{0.5}$Sr$_{0.5}$CoO$_3$(LSCO)극 photosensitive sol solution을 이용하여 spin coating법으로 제조하였으며 출발원료는 La-2methoxyethoxide, Sr-ethoxide, Co-2methoxyethoxide를 사용하였다. LSCO gel 박막에 UV 노광시간을 증가시킴에 따라 M(metal)-O-M 결합이 생성되면서 metal $\beta$-diketonate의 UV 흡수 피크 강도는 감소되었고 LSCO gel 박막에 UV조사에 따른 용해도 차이가 생기면서 fine patterning 을 얻을 수 있었다. 68$0^{\circ}C$ 이상의 온도로 대기 중에서 열처리된 LSCO 박막은 perovskite 상을 나타내었고 74$0^{\circ}C$에서 가장 낮은 비저항값(4$\times$10￣$^3$Ωcm)을 얻을 수 있었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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• pp.421-421
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• 2008

Generally, the polymer thick-film resistors for embedded organic or hybrid substrate are patterned by screen printing so that the accuracy of resistor pattern is not good and the tolerance of resistance is too high(${\pm}$20~30%). To reform these demerits, a method using Fodel$^{(R)}$ technology, which is the patterning method using a photosensitive resin to be developable by aqueous alkali-solution as a base polymer for thick-film pastes, was recently incorporated for the patterning of thermosetting thick-film resistor paste. Alkali-solution developable photosensitive resin system has a merit that the precise patterns can be obtained by UV exposure and aqueous development, so the essential point is to get the composition similar to PSR(photo solder resist) used for PCB process. In present research, we made the photopatternable resistor pastes using 8 kinds of epoxy acrylates and a conductive carbonblack (CDX-7055 Ultra), evaluated their developing performance, and then measured the resistance after final curing. To become developable by alkali-solution, epoxy acrylate oligomers with carboxyl group were prepared. Test coupons were fabricated by patterning copper foil on FR-4 CCL board, plating Ni/Au on the patterned copper electrode, applying the resistor paste on the board, exposing the applied paste to UV through Cr mask with resistor patterns, developing the exposed paste with aqueous alkali-solution (1wt% $Na_2CO_3$), drying the patterned paste at $80^{\circ}C$ oven, and then curing it at $200^{\circ}C$ during 1 hour. As a result, some test compositions couldn't be developed according to the kind of oligomer and, in the developed compositions, the measured resistance showed different results depending on the paste compositions though they had the same amount of carbonblack.