To improve surface wettability, each sample was treated by atmospheric pressure plasma (APP) using dielectric barrier discharge (DBD) system. Argon and oxygen gases were used for treatment gas to modify the $TiO_2$ surface by APP with RF power range from 50 to 200 W. Water contact angle was decreased from $20^{\circ}$ to $10^{\circ}$ with argon only. However, water contact angle was decreased from $20^{\circ}$ to < $1^{\circ}$ with mixture of argon and oxygen. Water contact angle with $O_2$ plasma was lower than water contact angle with Ar plasma at the same RF power. It seems to be increasing the polar force of $TiO_2$ surface. Also, analysis result of X-ray photoelectron spectra (XPS) shows the increase of intensity of O1s shoulder peak, resulting in increasing of surface wettability by APP. Moreover, each water contact angle increased according to increase past time. However, contact angle increase with plasma treatment was lower than without plasma treatment. Additionally, the efficiency of $TiO_2$ photocatalyst was improved by plasma surface-treatment through the degradation experiment of phenol.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.52
no.9
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pp.400-406
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2003
Efficient electrodes are devised for organic luminescent device(OLED). ITO electrode is treated with $O_2$ plasma. In order to inject hole efficiently, there is proposed the shape of anode that inserted plasma polymerized films as buffer layer between anode and organic layer using thiophene monomer. In the case of device inserted the buffer layer by using the plasma polymerization after $O_2$ plasma processing for ITO transparent electrode, since it forms the stable interface and reduce the moving speed of hole, the recombination of hole and electronic are made in the emitting layer. Therefore it realized the device capability of two times in the aspect of luminous efficiency than the device which do not be inserted the buffer layer. Experiments are limited to the device that has the structure of TPD/$AIq_3$, however, the aforementioned electrodes can similarly applied to the organic luminous device and the Polymer luminous device.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.17
no.2
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pp.228-235
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2004
In this thesis, it is designed efficient electrode formation on the organic luminescent device. ITO electrode is treated with $O_2$plasma. In order to inject hole efficiently, there is proposed the shape of anode that inserted plasma polymerized films as buffer layer between anode and organic layer using thiophene monomer. It is realized efficiently electron injection to aluminum due to introduce the quantum well in cathode. In the case of device inserted the buffer layer by using the plasma poiymerization after $O_2$plasma processing for ITO transparent electrode, since it forms the stable interface and reduce the moving speed of hole, the recombination of hole and electronic ate made in the omitting layer. Compared with the devices without buffer layer, the turn-on voltage was lowered by 1.0(V) doc to the introduction of buffer layer Since the quantum well structure is formed in front of cathode to optimize the tunneling effect, there is improved the power efficiency more than two times.
Kim, Hyeong-Gweon;Lee, Boong-Joo;Kim, Jong-Teak;Kim, Yong-Bong;Lee, Duck-Chool
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.11
no.5
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pp.340-346
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1998
In this study, we intended to investigate aging effect of polyimide prepared by VDPD(vapor deposition polymerized method). The prepared polymide was treated by the oxygen and argon gas plasma. And we evaluated the polyimide treated by plasma from contact angle, surface leakage current, FT-IR and SEM. We know that the structure of polyimide at surface are changed to amide structure by plasma treating. It seems that strong energy of plasma causes breaking the molecular chin of the polyimide. And surface roughness increases with plasma treating time increased and sequentially the wettability and leakage current increases.
The effect of inductively coupled plasma (ICP) treatment with O2 gas on the surface properties of poly(ether sulfone) (PES) was investigated. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) was used to analyze the chemical characteristics of the O2 plasma-treated PES films. The surface roughness of the pristine and O2 plasma-treated PES films for different RF powers of the ICP was determined using an atomic force microscope (AFM). The contact angles of the PES films were also measured, using which the surface free energies were calculated. The O1s XPS spectra of the PES films revealed that the number of polar functional groups increased following the O2 plasma treatment. The AFM analysis showed the average surface roughness increased from 1.01 to 4.48 nm as the RF power of the ICP was increased. The contact angle measurements revealed that the PES films became more hydrophilic as the RF power of the ICP was increased. The total surface energy increased with the RF power of the ICP, resulting from the increased polar energy component.
An atmospheric plasma pre-treatment method was applied to polyurethane foam (density: 0.27) and rubber (butadiene rubber) to improve its contact angle and adhesion using atmospheric plate type reactor. In order to investigate the optimum reaction condition of plasma treatment, type of treatment gas (nitrogen, argon, oxygen, air), rate of gas flow ($30{\sim}100\;mL/min$), and treated time ($0{\sim}30\;s$) were examined in a plate plasma reactor. The result of the surface modification with respect to the treatment procedure was characterized by using SEM and ATR-FTIR. Due to a decrease of the contact angle of various materials, the greatest adhesion strength was achieved at optimum condition such as flow rate of 100 mL/min, reaction time of polyurethane foam 10 s and rubber 3 s for an atmosphere nitrogen gas. Consequently, the atmospheric plasma treatment reduced the wettability of the polyurethane foam and rubber also resulted in the improvement of the adhesion.
The effect of vacuum heat treatment in the thermal sprayed ceramics coating on a capstan by either high velocity oxygen fuel(HVOF) or plasma thermal spray process was investigated. The coating materials applied on the capstan were tungsten and chrome carbides. In order to characterize the interface between coating layer and bare materials, hardness, adhesion strength, X-ray diffraction(XRD) and microstructural analysis are conducted. The adhesion strength of the carbide coated materials by HVOF process is over 500MPa compared to those of plasma coating process is 230MPa. In case of the carbide coated materials by HVOF process, the adhesion strength is increased to 15MPa and the porosity is reduced under 5% by vacuum heat treatment for 5 hrs at $1000^{\circ}C$. The XRD results reveal that the increasement is believed due to the phase stabilization of metastable $Cr_3C_2$ phase to stable $Cr_{23}C_6$ phase.
We investigated the possibility of introducing functional groups without damaging surface polymeric chains through the treatment of a polypropylene(PP) film immersed in liquid phase using an atmospheric pressure plasma with large area. The ionic liquid of 1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate: $[BMIM]^{+}[BF_{4}]^{-}$- was successfully applied for generating stable plasmas in the plasma-solution system. We successfully treated the film surface using the plasma-solution system and confirmed various oxygen-containing functional groups formed on the surface of PP film. The surface free energy of PP film was increased with increasing plasma treatment time and power. It also showed a maximum value at the PP sample treated in the ionic liquid solution of 1.5 M. ATR-FTIR analyses revealed the increase of various carbonyl groups(1,726 $cm^{-1}$, 1,643 $cm^{-1}$) and OH groups$(3,100{\sim}3,500\;cm^{-1})$ after plasma treatment of PP film, and XPS also supported the ATR-FTIR result.
Plasma treatment is frequently used to increase surface functionality and surface activity. It enables to improve various surface properties such as catalytic selectivity, printability, and interfacial adhesion between various materials. Surface or the ethylene-vinyl acetate (EVA) is exposed under an atmospheric pressure plasma torch (APPT), generated by dielectric barrier discharge (DBD), and the treated surfaces are systemically investigated. Argon, air, and oxygen are used as a processing gas. Properties of the treated EVA surfaces are investigated by the zeta-potential measurements and surface free energies. It is shown that the plasma treatment leads to a drastic increase of surface functional groups of EVA, as the increase of its adhesion energy ($G_{IC}$). Therefore, it is concluded that the APPT process is an effective means to improve adhesion of EVA and polyurethane (PU).
This study is to improve the worst lightfastness of a natural dye. To modify the fiber surface, low temperature oxygen plasma was carried out on silk fabric. The result is followed below after the examination of surface shape, dyeability, color change, UV absorbent influence and lightfastness. 1. When electric discharge outputs are 60W, 80W and 100w, and processing times are 10minutes, 20minutes and 40minutes, the etching effect of surface increased as electric discharge outputs and processing times increased. 2. When examined UV absorbent for 5hours, 10hours, 20hours, 40hours and 80hours, the value changes of E are 1.47, 2.51, 2.91, 3.71, 4.51 and 5.31 in case of Al pre-mordanting/ prasma 80W, 20min./ UVabsorbent 5% (100:1), 2.31, 2.47, 3.84, 3.90, 3.61 and 4.42 in case of Al pre-mordanting/prasma 80W, 20min.1 UV absorbent 5% (o.w.f.). The lightfastness decreased when UV absorbent increased. 3. Dyeability of the samples pre-treated with five different methods was in the following order: plasma processing for 20minutes at 60W/Al pre-mordanting > Al pre-mordanting > plasma processing for 20minutes at 60W > Al after-mordanting. non mordanting Plasma treatment had superior effect on dyeability. 4. When UV absorbent was applied in fabric, the sample under higher electric discharge out puts showed more effective in improving lightfastness.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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