PECVD로 증착된 $SiO_2$ 의 non-uniformity 특성 연구
(The study on the $SiO_2$ film non-uniformity by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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- pp.73-73
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- 2008