비초점 정밀 계측 방식에 의한 새로운 광학 프로브를 이용한 반도체 웨이퍼의 삼차원 미소형상 측정 기술 (A New Method of Noncontact Measurement for 3D Microtopography in Semiconductor Wafer Implementing a New Optical Probe based on the Precision Defocus Measurement)
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- 한국정밀공학회지
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- 제17권1호
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- pp.129-137
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- 2000