• 한국가스학회지
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• 제9권4호
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• pp.17-25
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• 2005

탈알루미늄 및 알칼리/알칼리토금속 양이온을 교환한 Y형 제올라이트 촉매를 제조하였다. 제조한 촉매물질의 원소조성 및 구조 변화를 ICP-AES, XRF 및 XRD와 같은 각종 분광학적 방법으로 분석하였으며, NO-TPD 실험을 통한 표면흡착종의 탈착 거동을 조사하였다. 탈알루미늄 처리 후 출발물질인 NaY보다 촉매물질의 Si/Al비는 증가하였으며, 탈알루미늄 후 Cs및 Ba양이온으로 교환한 Y형 제올라이트의 경우 Si/Al비가 부가적으로 조금 더 감소하였다. 탈알루미늄 처리한 촉매는 Al원자의 탈리로 기본골격의 파괴가 심화되어 framework (tetrahedral)구조가 감소하고 non-framework (octahedral) 구조가 증가하였다. 이러한 현상은 스팀처리시간이 많아질수록 증가하였으며 양이온을 교환한 후에는 더 크게 나타났다. NO-TPD 실험에서 탈알루미늄 및 양이온 교환 후 촉매의 활성점을 나타내는 탈착 봉우리들은 저온으로 이동하였으며, 스팀처리시간이 많아질수록 탈착 봉우리가 상대적으로 저온에서 나타났다. 탈알루미늄 및 양이온 교환을 한 Y형 제올라이트는 교환된 양이온과 탈알루미늄으로 인한 non-framework (octahedral) 구조의 생성이 촉매의 활성에 미치는 영향이 더 큰 것으로 나타났다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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• pp.196-196
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• 2011

Molecular $N_2O$ has bee known to react over oxygen vacancy on a reduced rutile $TiO_2$(110)-1${\times}$1 surface to desorb as molecular $N_2$ leaving oxygen atom behind. In the present study, we investigated the reaction of $N_2O$ on rutile $TiO_2$(110) using temperature-programmed desorption (TPD). Our results indicate that $N_2O$ does not react over the oxygen vacancy under a typical UHV experimental condition. On a rutile $TiO_2$(110)-1${\times}$1 with a well-defined oxygen vacancy concentration of 5% ($2.6{\times}10^{13}/cm^2$), $N_2O$ desorption features show a monolayer peak maximum at 135 K followed by a small peak maximum at 170 K. When the oxygen vacancy is blocked with $H_2O$, the $N_2O$ peak at 170 K disappears completely, indicating that the peak is due to molecular $N_2O$ interacting with oxygen vacancy. The integrated amount of desorbed $N_2O$ plotted against the amount of adsorbed $N_2O$ however shows a straight line with no offset indicating no loss of $N_2O$ during our cycles of TPD measurements. In addition, our $N_2O$ uptake measurements at 70~100 K showed no $N_2$ (as a reaction product) desorption except contaminant $N_2$. Also, $H_2O$ TPD taken after $N_2O$ scattering up to 350 K indicates no change in the vacancy-related $H_2O$ desorption peak at 500 K showing no change in the oxygen vacancy concentration after the interaction with $N_2O$.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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• pp.131-131
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• 2012

We present our recent temperature-programmed desorption (TPD) study on catalytic reductions of $NO_x$ such as NO, $NO_2$, and $N_2O$ over rutile $TiO_2$(110) surfaces. Our results indicate that $NO_2$/NO readily reacts to give NO/$N_2O$ desorption at the substrate temperature as low as 100 K/70 K. Interestingly, $N_2O$, however, does not dissociate into $N_2$ and $O_{BBO}$ over the oxygen vacancy on the $TiO_2$(110) surface. Successive reduction of NO and $NO_2$ into $N_2O$ and NO, respectively, leaves oxygen atoms on the $TiO_2$(110) surface in a form of $O_{ad}$, which can induce additional reductive channels of NO and $NO_2$ at higher temperatures up to 400 K. During the repeated TPD cycles of $NO_x$, our x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis indicates that no N atom accumulates on the $TiO_2$ surface.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제30권7호
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• pp.1470-1474
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• 2009

Thermal and photochemistry of methyl iodide ($CH_3I)\;adsorbed\;on\;D_2O$ ice film on Cu(111) at 100 K were studied using temperature-programmed desorption (TPD) time-of-flight mass spectrometry (TOF-MS), X-ray and ultraviolet photoelectron spectroscopies. On the basis of TPD, multilayer and monolayer $CH_3I$ molecules desorb from $D_2O$ ice layer at 120 and 130 K, respectively. Photo-irradiation at 100 K exhibits dramatic changes in the TPD and I $3d_{5/2}\;XPS\;of\;CH_3I$ on ice film, due to a dramatic dissociation of $CH_3I$. The dissociation is likely activated by solvated electrons transferred from the metal substrate during photo-irradiation. No other photo-initiated reaction products were found within our instrumental detection limit. During photo-irradiation, the $CH_3I$, $CH_3$ and I could be trapped (or solvated) in ice film by rearrangement (and self-diffusion) of water molecules. A newly appeared parent molecular desorption peak at 145 K is attributed to trapped $CH_3I$. In addition, the $CH_3$ and I may diffuse through ice and chemisorb on Cu(111), indicated by TPD and I $d_{5/2}$ XPS taken with photo-irradiation time, respectively. No molecular ejection was found during photo-irradiation at 100 K. The work functions for $CH_3I/Cu(111),\;D_2O/Cu(111)\;and\;CH_3I/D_2$O/Cu(111) were all measured to be about 3.9 eV, 1.0 eV downward shift from that of clean Cu(111).

• 공업화학
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• 제16권6호
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• pp.857-864
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• 2005

탈알루미늄 및 알칼리/알칼리토금속 양이온으로 치환한 Y형 및 ZSM-5 제올라이트 촉매를 제조하였다. 전처리 후 Y형 및 ZSM-5 제올라이트의 Si/Al비는 증가하였고, bulk보다는 표면에서의 Si/Al비가 더 큰 것을 알 수 있었다. 전처리에 의해 제조된 Y형 및 ZSM-5 제올라이트의 골격구조 파괴는 주로 탈알루미늄 처리과정에서 Al 이온의 탈리에 의한 것이며, framework이 감소하고 non-framework이 증가하였다. 이러한 현상은 스팀처리 시간이 많아질수록 증가하였고, 양이온으로 치환함에 따라 더욱 심화되었음을 알 수 있었다. NO-TPD 실험결과, 전처리된 Y형 및 ZSM-5 제올라이트는 탈착봉우리가 저온으로 이동하였다. 또한 스팀처리 시간이 많은 촉매물질일수록 탈착온도가 더 낮은 온도로 이동하였다. 촉매의 활성은 치환된 양이온, Si/Al 함량비 및 탈알루미늄으로 변화된 골격구조에서 framework과 non-framework의 비율에 의존하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 1997년도 제13회 학술발표회 논문개요집
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• pp.132-133
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• 1997

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제13권11호
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• pp.943-949
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• 2000

In this paper, the single and double heterostructure organic light-emitting devices(OLEDs) were fabricated. The single heterostructure OLED(TYPE 1) is consisted of TPD as a HTL(hole transfer layer) and Alq$_3$as an EML(emitting layer). The double heterostructure OLED(TYPE 2) is consisted of TPD as a HTL, Alq$_3$as an EML and PBD as an ETL(electron transfer layer). The another double heterostructure OLED(TYPE 3) is consisted of TPD as a HTL, PBD as an EML and Alq$_3$as an ETL. We obtained a strong green emission device with maximum EL emission wavelength 500nm in TYPE 3. When the applied voltage was 12V, the emission luminescence was 120.9cd/㎡. The chromaticity index of TYPE 3 was x=0.29, y=0.50. In the characteristic plot of current-voltage, TYPE 3 device was turned on at 6.9V. This voltage was a fairly low turn-on voltage. TYPE 1 and 2 device were turned on at 10V and 8.9V respectively. These types showed no good properties over that of TYPE 3.

• 청정기술
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• 제17권2호
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• pp.142-149
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• 2011

혼합금속산화물인 AlCoPd (1/1/0.05) 및 AlCoFe (1/1/2) 촉매의 Lean $NO_x$ Trap (LNT) 적용을 위하여 NO 및 $N_2O$에 대한 흡착 및 탈착 특성을 살펴보았다. 이들은 NO 및 $N_2O$에 대해 산화 과정 없이도 NO를 잘 흡착하는 성능을 나타냈다. 산소가 공존하는 복합 성분의 흡착에서는 흡착량이 많이 떨어졌지만 NO의 경우 산소대비 높은 선택성과 흡착능을 유지한 반면 $N_2O$의 선택성과 흡착능은 급격히 떨어지는 양상을 나타냈다. 또한 TPD로 살펴본 탈착 특성에서는 고온 영역에서 NO 및 $N_2O$성분이 분해되며 생성된 산소 성분 등이 높은 온도에서도 촉매에 강하게 결합되어 있는 것으로 파악되었다.

• 에너지공학
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• 제6권1호
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• pp.26-33
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• 1997

유기주형물질을 첨가하지 않고 순수하고 결정성이 좋은 구리이온이 교환된 Cu-ZSM5 제올라이트 촉매를 제조하여 NO 분해반응 실험에 사용하였다. 구리이온교환 정도의 증가에 따라 NO 분해 활성은 점차로 증가하였고 100% 이상으로 구리이온교환 시에도 지속적으로 증가하였다. 산소의 존재하에서 NO의 분해 활성은 $O_2$양이 증가할수록 저하되었고, NO, $O_2$TPD실험 결과 NO의 분해 활성점과 $O_2$의 흡착점은 같은 것으로 판명되었다. 또한 50$0^{\circ}C$에서 전처리 후에도 촉매 표면의 $O_2$는 완전히 탈착되지 않았으며, 50$0^{\circ}C$에서 수소 처리를 하였을 경우 반응 활성이 초기에 상당량 향상되는 현상으로 보아 촉매 표면에 흡착된 산소가 NO의 분해반응 활성을 저하시키는 요인이 된다는 것을 알 수 있었다.

• 한국자동차공학회논문집
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• 제14권1호
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• pp.8-16
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• 2006

The research was conducted to characterize of Rh-Pd-Pt TWC with a double-layer washcoat for gasoline vehicle. The physical characteristics on surface of catalyst were inspected by BET, SEM and TEM. The characteristics of catalytic reaction were examined by the TPD/TPR and CO-pulse chemisorption. The catalyst $6Hx(0.35\times11\times3)$ showed superior conversion performance after hydrothermal aging process, which was due to small difference of the surface area between. the fresh and the aged catalyst. The CO-chemisorption and surface area were superior in the 600 cpsi catalyst than other catalysts, this catalyst also shown the higher conversion efficiency of the exhaust emissions. From the TPR test, the conversion performance of the aged catalyst was decreased by the agglomeration and sintering of the PM and metal oxides. From the TPD result, it was found that the NO chemisorption was happed on the bottom-layer washcoat with Pd, and the NO chemisorption was re-happened on the upper-layer washcoat with Pt and Rh in the desorption process.