We proposed AlGaN/GaN high-electron-mobility transistors (HEMTs) using thermal oxidation for NiOx passivation. Auger electron spectroscopy, secondary ion mass spectroscopy, and pulsed I-V were used to study oxidation features. The oxidation process diffused Ni and O into the AlGaN barrier and formed NiOx on the surface. The breakdown voltage of the proposed device was 1520 V while that of the conventional device was 300 V. The gate leakage current of the proposed device was 3.5 ${\mu}A/mm$ and that of the conventional device was 1116.7 ${\mu}A/mm$. The conventional device exhibited similar current in the gate-and-drain-pulsed I-V and its drain-pulsed counterpart. The gate-and-drain-pulsed current of the proposed device was about 56 % of the drain-pulsed current. This indicated that the oxidation process may form deep states having a low emission current, which then suppresses the leakage current. Our results suggest that the proposed process is suitable for achieving high breakdown voltages in the GaN-based devices.
This paper investigates the design of multi-winding coupled inductor for minimum inductor current ripple. Based on the general circuit model of coupled inductor together with the operating principles of dc-dc converter, the relationship between the ripple size of inductor current and the coupling factor is derived under the different duty ratio. The optimal coupling factor of n-phase multi-winding coupled inductor which corresponds to a minimum inductor ripple current becomes -(1/n-1), i.e. a complete inverse coupling without leakage inductance, as the duty ratio of steady-state operating point approaches 1/n, 2/n, ${\cdots}$ or (n-1)/n. In an opposite manner, the optimal coupling factor value of zero, i.e. zero mutual inductance, is required when the duty ratio of steady-state operating point approaches either zero or one. Therefore, coupled inductors having optimal coupling factor can minimize the ripple current of inductor and inductor size.
Nam, Giwoong;Kim, Byunggu;Park, Youngbin;Kim, Soaram;Kim, Jin Soo;Son, Jeong-Sik;Leem, Jae-Young
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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pp.219-219
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2013
The effect of an electron blocking layer (EBL) on V-I curves in GaN/InGaN multiple quantum well is investigated. For the first time, we found that curves were intersected at 3.012 V and analyzed the reason for intersection. The forward voltage in LEDs with an p-AlGaN EBL is larger than without p-AlGaN EBL at low injection current because the Mg doping efficiency for p-GaN layer was higher than that of p-AlGaN layer. However, the forward voltage in LEDs with an p-AlGaN EBL is smaller than without p-AlGaN EBL at high injection current because the carriers overflow from the active layer when injection current increases in LEDs without p-AlGaN EBL and in case of LED with p-AlGaN EBL, the carriers are blocked by EBL.
The electrical properties of Al/TiN/Ti contact according to post anneal ins conditions are investigated at submicron contacts. $N^+$ contact resistance increases with increasing alloy temperature while $P^+$ contact resistance slightly decreases. The contact tentage current increases wi th increasing alloy temperature for both $N^+$ and $P^+$ contacts. The contact resistance and leakage current of $N^+$ contact increases with increasing alloy tide. $P^+$ contact resistance decreases with increasing alloy time but $P^+$ contact tentage current increases. The contact resistance and contact leakage current increases with increasing alloy cycles for both $N^+$ and $P^+$ contacts.
A two terminal N+/P/N+ junction device to replace the conventional selective transistor was studied as a bilateral switching device for spin transfer torque (STT) MRAM based on 3D device simulation. An N+/P/N+ junction structure with $30{\times}30nm$ area requires bi-directional current flow enough to write a data by a drain induced barrier lowering (DIBL) under a reverse bias at N+/P (or P/N+ junction), and high current on/off ratio of 106. The SiGe materials are widely used in hetero-junction bipolar transistors, bipolar compensation metal-oxide semiconductors (BiCMOS) since the band gap of SiGe materials can be controlled by changing the fraction and the strain epilayers, and the drift mobility is increased with the increasing Ge content. In this work, N+/P/N+ SiGe material based junction provides that drive current is increased from 40 to $130{\mu}A$ by increased Ge content from 10~80%. When Ge content is about 20%, the drive current density of SiGe device substantially increased to 2~3 times better than Si-based junction device in case of 28 nm P length, which is sufficient current to operation of STT-MRAM.
본 연구에서는 AlGaN/GaN HEMT (High electron mobility transistor)를 제작하고 20 mTorr의 챔버 압력과 15 sccm의 ${N_2}O$ 유량, 40 W의 RF 전력의 조건으로 원거리에서 형성된 플라즈마로 소스와 드레인 영역을 10초${\sim}$120초 동안 처리하여 HEMT의 전기적 특성을 관찰하였다. 상온에서 ${N_2}O$ 플라즈마에 처리한 경우 HEMT의 특성이 변화하지 않았으나 $200^{\circ}C$의 온도에서 10초 동안 처리한 경우 게이트 길이가 1um, 소스와 드레인 사이의 거리가 4um인 HEMT의 게이트 누설전류가 246 nA로부터 1.2 pA로 크게 감소하였다. 또한 25 um 떨어진 200um 폭의 두 활성층 사이 누설전류가 3 uA로부터 7 nA로 감소하였으며 720 ${\Omega}/{\box}$의 활성층의 면저항을 608 ${\Omega}/{\box}$로 감소시켜 도전율의 증가를 나타내기도 하였다. ${N_2}O$ 플라즈마의 처리에 의한 전기적 특성 개선은 10초 이내의 짧은 시간 동안 이루어지며 더 이상의 처리는 누설전류 특성 개선에 도움이 되지 않았다. 또한 ${N_2}O$ 플라즈마 처리로 개선된 특성은 $SiO_2$의 증착과 식각 후에도 개선된 특성이 유지되었다. ${N_2}O$ 플라즈마의 처리는 트랜지스터의 트랜스컨덕턴스와 드레인 전류의 증가, 드레인 전류의 차단특성의 개선에도 기여하여 고품위의 AlGaN/GaN HEMT 제작에 효과적으로 이용될 수 있음이 확인되었다.
Kim, Jang Hyun;Kim, Garam;Park, Euyhwan;Kang, Dong Hoon;Park, Byung-Gook
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제15권1호
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pp.114-121
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2015
In conventional LEDs, a mesa-structure is usually used and it causes the current to be overcrowded in a specific region. We propose a novel structure of GaN-based LED to overcome this problem. In order to distribute the current in an active region, a spreading pad is inserted at the p-type region in the GaN based LED device. The inserted spreading pad helps the current flow because it is more conductive than the p-type GaN layer. By performing electrical and optical simulations, the effects of the spreading pad insertion are confirmed. The results of electrical simulation show that the current spreads more uniformly and more radiative recombination is produced as well. Moreover, from the optical simulation, it is revealed that the ITO is less absorptive material than p-GaN if the condition of specific wavelength sources is satisfied. Considering all of the results, we can conclude that the luminescent power is enhanced by the spreading pad.
In this paper, we report on the DC characteristics of the AlGaN/GaN HFETs using physical models on piezoelectric and thermal effects. Employing the models was found to be essential for a realistic prediction of the DC current-voltage characteristics of the AlGaN/GaN HFETs. Though use of the implementation of the physical models, peak drain current, transconductance, pinch-off voltage, and most importantly, the negative slope in the current were accurately predicted. The importance of the heat sink effect was demonstrated by the comparison of the DC characteristics of AlGaN/GaN HFETs fabricated from different substrates including sapphire, Si and SiC. Highest peak current was achieved from the device with SiC by an effective suppression of heat sink effect.
p-n junction에 있어서 microplasma전류의 selfheating에 의한 온도상승의 과도현상을 전류가 작은 경우와 큰 경우에 대해서 고찰하였다. 전류가 작은 경우에는 microplasma site의 온도상승과 전류의 감소는 비례하며 일반적인 시정수가 정해지나 큰 전류의 경우에는 일반적으로 복잡하며 시정수도 일반적으로 정해지지 않는다.
In this paper, the current lead for superconducting device is studied by numerical method. The current lead is cooled by surrounded $N_{2}$ gas by natural convection. The heat conduction equation for current lead and boundary layer equation for $N_{2}$ gas must be solved simultaneously. The boundary layer equation for $N_{2}$ gas is highly nonlinear for varied temperature of current lead. So the linearization method is adopted for simplicity. Numerical results using natural convection cooling are compared with the conventional cooling methods such as conduction cooling and vapor cooling methods. The main difference of natural convection cooing is the non-zero temperature gradient at the top of current lead for the minimum heat dissipation into superconducting devices. For the optimized conduction-cooling and vapor-cooling current leads, the temperature gradient at the top of current lead is zero. Also, the heat flow at the cold end is much smaller than conduction cooling case.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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