• 제목/요약/키워드: Multimode Interference (MMI)

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$Ag^{+}-Na^+$ 이온교환법을 이용한 Y-분리기 모델링 및 제작 (A modeling and fabrication of Y-splitter using $Ag^{+}-Na^+$ion exchange)

  • 장명호;강동성;라영로;반재경
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2000년도 하계학술발표회
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    • pp.160-161
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    • 2000
  • BK7 glass 기판에 Ag$^{+}$-$Na^{+}$ 이온교환법을 이용하여 Y-분리기를 제작하였다. Y-분리기는 하나의 입력으로 입사되는 광파워를 두 개의 출력단으로 분리하거나 합하는 기능을 수행하는 가장 기본적인 소자로서 이온 교환법을 이용하여 0.2dB/cm 이하의 전송손실을 유지할 수 있다. 또한 MMI (multimode interference)가 갖는 파장에 의존적인 동작 특성과는 달리 사용 파장에 덜 의존적으로 광 신호를 분기시킬 수 있다$^{(1-3)}$ . (중략)

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플라즈마 계단형 다중모드 간섭 결합기의 모드 특성 (Modal Characteristics of Plasmonic Multimode Interference Couplers with Stepped Structure)

  • 호광춘
    • 한국인터넷방송통신학회논문지
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    • 제13권2호
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    • pp.47-52
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    • 2013
  • 플라즈마 다중모드 간섭 결합기 (MMIC)를 계단형으로 구성하여 전형적인 방법으로 설계된 MMIC 보다 결합길이를 현저하게 줄일 수 있는 새로운 구조가 본 논문에서 제안되었다. 전송폭이 계단형인 플라즈마 MMIC에서 60%의 cross 전력분배율에 대하여, 결합길이는 약 42%가 줄어들었다. 또한, 굴절률 변화에 따른 플라즈마 MMIC의 전력분배율과 결합길이는 약 2~6%로 거의 변화가 없었으나, 전송폭을 변화 시켰을 때 전력분배율과 결합길이는 약 30~40%로 큰 변화를 나타내었다.

계단형 다중모드 간섭 결합기를 사용한 소자의 소형화 (Device Miniaturization Using Stepped Multimode-Interference Couplers)

  • 호광춘
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제47권1호
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    • pp.14-19
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    • 2010
  • 전송폭과 굴절률이 서로 다른 다중모드 간섭 결합기 (MMICs)를 계단형으로 연결하면 전형적인 방법으로 설계된 다중모드 간섭 결합기의 결합길이를 현저하게 줄일 수 있는 새로운 구조가 본 논문에서 제안되었다. 전송폭이 82%의 cross 결합효율에 대하여, 결합길이는 약 6.7%가 줄어들었다. 그러나, 전송폭과 굴절률이 계단형인 다중모드 간섭 결합기에서는 약 93%의 결합 효율과 약 9%의 결합길이 축소가 발생하였다. 더욱이, 소형 다중모드 간섭 결합기를 설계하기 위하여 널리 사용되는 테이퍼 구조를 계단형으로 구성하면, 약 90%의 결합효율과 약 25%가 축소된 소형 다중모드 간섭 결합기를 설계할 수 있음을 보였다.

DFB 구조형 플라즈마 다중모드 간섭 결합기를 사용한 편향기의 구현 (Implementation of Polarization Beam-Splitter based on DFB-Assisted Plasmonic Multimode Interference Coupler)

  • 호광춘
    • 한국인터넷방송통신학회논문지
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    • 제13권5호
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    • pp.143-148
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    • 2013
  • 2개의 플라즈마 다중모드 간섭 결합기 (P-MMIC)와 DFB 전송구조를 결합하여 하나의 새로운 초소형 광 편향기를 구현하였다. $2{\times}1$$1{\times}2$ P-MMIC를 연결하는 내부 DFB 구조로부터 반사되거나 투과되는 TE, TM 모드들의 편향된 전력들을 P-MMIC를 통하여 출력되도록 설계하였다. 수치해석 결과 설계된 DFB 구조형 플라즈마 다중모드 간섭 결합기의 크기는 약 $75{\mu}m$로 매우 작았으며, 낮은 삽입손실과 높은 분리비율을 보였다. 더욱이, DFB 전송구조의 대역폭은 약 20 nm로 광대역 특성을 나타내었다.

다중모드 간섭효과를 이용한 1.3/1.55$\mu\textrm{M}$ InGaAlAs/InP 파장분배기의 제작 (Fabrication of a 1.3/l.55$\mu\textrm{M}$InGaAlAs/InP Dual Wavelength Demultiplexer Based on Multimode Interference(MMI))

  • Moon, Jeong-Yi;Yu, Jae-Su;Dong, Song-Jin;Kim, Jong-Min;Lee, Yong-Tik
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2001년도 제12회 정기총회 및 01년도 동계학술발표회
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    • pp.34-35
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    • 2001
  • The wavelength demultiplexer is an essential component in optical transmission systems using wavelength-division multiplexing(WDM), which can increase the number of channels and information capacity of optical fibers. For optical telecommunication, much attention has been given to demultiplexing two wavelengths in the 1.3${\mu}{\textrm}{m}$ of low dispersion band and 1.55${\mu}{\textrm}{m}$ of low loss window. Various integrated-optical devices have been proposed to perform this function, including conventional directional couplers, asymmetric Y-branching devices, asymmetric Mach-Zehnder interferometers and two-mode interference devices. (omitted)

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편광에 무관한 1 ${\times}$ 8 InGaAsP/InP 다중모드간섭 광분배기의 설계 및 제작 (Design and Fabrication of a Polarization-Independent 1 ${\times}$ 8 InGaAsP/InP MMI Optical Splitter)

  • Yu, Jae-Su;Moon, Jeong-Yi;Bae, Seong-Ju;Lee, Yong-Tak
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2000년도 하계학술발표회
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    • pp.28-29
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    • 2000
  • Optical power splitters and/or couplers are important components for optical signal distribution between channels both in wavelength division multiplexing(WDM) systems and photonic integrated circuits(PICs). Since polarization is usually not known after propagation in an optical fiber, passive WDM components have to be polarization insensitivity, Compared to alternatives such as directional couplers or Y-junction splitters, splitters based on multimode interference(MMI) have found a growing interest in recent yens because of their desirable characteristics, such as compact size, low excess loss, wide bandwidth, polarization independence, and relaxed fabrication tolerances$^{(1)}$ . These devices have been fabricated in polymers, silica, or III-V semiconductor materials. A1 $\times$ 4 MMI power splitter on InP materials that were suitable for application in the 1.55-${\mu}{\textrm}{m}$ region$^{(2)}$ . However, the fabrication process of the structure is too complicated and the photolithography tolerance is very tight. Also, a 1 $\times$ 16 InGaAsP/InP MMI power splitter with an excess loss of 2.2dB and a splitting ratio of 1.5dB was demonstrated by using deep etching$^{(3)}$ . The deep etching of the sidewalls through the entire guide layer of the slab waveguide resulted in a number of drawbacks$^{(4)}$ . (omitted)

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감광성 폴리이미드 재료를 가정한 다중모드 간섭 편광분리 소자의 최적설계 (Optimized design of the multimode interferenced-polarization splitter with a photodefinable polyimide)

  • 홍정무;류현호;정재완;이승걸;이일항;박세근;오범환;우덕하;김선호
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2002년도 춘계학술대회 논문집 디스플레이 광소자 분야
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    • pp.101-104
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    • 2002
  • The beam splitter is important in optical communication systems. in this work, thc quasi-state based on four-mode interference in thc MMI coupler is proposed, and so, device length is shorten to be 1/5 of general designed length. We designed thc polarization splitter based on thc concept of quasi-state. Thc analysis has been accomplished by thc effective index method(EIM) and thc mode propagation analysis(MPA) for given structure.

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원자층 증착 방법을 이용한 폴리머 광도파로 제작 (Atomic Layer Deposition Method for Polymeric Optical Waveguide Fabrication)

  • 이은수;천권욱;진진웅;정예준;오민철
    • 한국광학회지
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    • 제35권4호
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    • pp.175-183
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    • 2024
  • 근래 광통신, 광센서, 양자광학 등의 다양한 연구 분야에서 광IC 소자를 이용한 광신호 처리 연구가 활발히 진행되고 있으며, 광IC 제작에 이용되는 재료들 중 특히 폴리머 재료는 고유의 특징을 바탕으로 폭넓게 연구개발되고 있다. 폴리머 기반 광IC 소자를 제작하기 위해서는 광도파로 단면 구조를 정확히 제작하기 위한 제작 공정을 확립하는 것이 중요하며, 특히 안정적인 소자 특성을 유지하고 대량생산 시의 수율을 높이기 위해서는 재현성이 높고 오차 수용 범위가 넓은 공정과 제작 조건을 설정하는 것이 필요하다. 본 연구에서는 원자층 증착(atomic layer deposition, ALD) 공정을 도입하여 폴리머 광도파로 소자를 효율적으로 제작할 수 있는 방법을 제안하였으며, 기존의 포토 레지스트나 금속 박막 증착을 이용하는 방법에 비해 광도파로 코어 형상을 더욱 정밀하게 제작할 수 있음을 확인하였다. 본 연구에서는 ALD 공정을 도입하여 코어의 크기가 1.8 × 1.6 ㎛2인 폴리이미드 광도파로를 제작하여 광도파로의 손실을 측정하고, 이와 함께 광파워 분배기인 다중모드 간섭(multi-mode interference) 광도파로 소자를 제작하여 특성을 측정하였다. 이때 기존의 제작과정에서 문제시되었던 에칭 마스크 층의 크랙 현상은 나타나지 않았으며, 광도파로 패턴 단면의 수직성도 우수하였고, 도파로의 전파손실 또한 1.5 dB/cm 이하로 양호하였다. 이로써 ALD 공정이 대량생산을 위한 폴리머 광소자 제작 공정에 적합한 방법임을 확인하였다.