• Title/Summary/Keyword: Micro-V groove

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The Improvement of Form Accuracy by High Pressure Air Jet in Slot Grinding (미세홈 가공시 고압공기분사에 의한 형상정밀도의 향상)

  • Lee, Seok-U;Lee, Yong-Chan;Jeong, Hae-Do;Choe, Heon-Jong
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.16 no.1 s.94
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    • pp.68-74
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    • 1999
  • One of the recent changes in machining technology is rapid application of micro- and high precision grinding processes. A fine groove generation is necessary for the fabrication of optic, electronic and semiconductor parts, and achieved by chemical or mechanical processes. Slot grinding is very efficient for the generation of micro ordered groove with hard and brittle materials. As slot grinding is continuous, the ground depth become gradually shallow because of wheel wear. The form accuracy become worse from the increase of ground slot width by the loading phenomena at wheel side, results on chipping damage of the workpiece. The experiments achieve to the enhancement of the form accuracy and chipping free of the brittle materials using V shaped cast iron bonded diamond wheels. In this study we focused on the investigation of the effect of the high pressure air jet on the grinding characteristics. As a results, we found that the high pressure air jet is very effective on the reductions of the wheel wear, enhancement of the form accuracy.

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Deformation analysis of Tool and Tool holder for Micromachining by FEM (FEM을 이용한 Micromachining용 Tool 및 Tool holder의 변형해석)

  • Min, Kyung-Tak;Jang, Ho-Su
    • Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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    • v.9 no.1
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    • pp.87-92
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    • 2010
  • Micromachining technology using a ultra-precision micromachining system is widely applied in the fields of optics, biotechnology and analytical chemistry, etc. specially in microfabrication of fresnel lens, light guide panels of TFT-LED and PDP ribs with micro-patterns, machining errors have an effect on the performance of those products. The deflection of tool and tool holder is known to be one of the very important factors that is due to machining errors in micromachining. The deflections of diamond tool and tool holder used in micro-grooving are analysed by FEM. We analysed by FEM. With an linearity valuation of FEM, deflection of tool and tool holder is calculated by using the data of cutting force which is acquired from micro-V groove machining experiments in micromachining system.

Micro V-groove Machining Using Cyclic Elliptical Cutting Motion of a Couple of Piezoelectric Material (압전소자의 미세회전운동을 이용한 초음파 미세 홈 가공)

  • Kim G.D.;Hwang K.S.;Loh B.G.
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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    • 2005.06a
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    • pp.625-628
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    • 2005
  • For precise micro-grooving and surface machining, ultrasonic cyclic elliptical cutting is proposed using two parallel piezoelectric actuators. The piezoelectric actuators are energized by sinusoidal voltages of varying phase which is essenstial to generating elliptical cutting. Experimental setup is composed of ultrasonic motor, single crystal diamond cutting tool, and precise motorized xyz stage. It is confirmed experimentally that the cutting performance, in terms of the cutting force, the burr formation, and the discontinuous chip formation is improved remarkably by applying ultrasonic elliptical vibration cutting.

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Realization of 1D-2DEG Composite Nanowire FET by Selective Area Molecular Beam Epitaxy (선택적 분자선 에픽택시 방법에 의한 1D-2DEG 혼성 나노선 FET의 구현)

  • Kim, Yun-Joo;Kim, Dong-Ho;Kim, Eun-Hong;Seo, Yoo-Jung;Roh, Cheong-Hyun;Hahn, Cheol-Koo;Ogura, Mutsuo;Kim, Tae-Geun
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.19 no.11
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    • pp.1005-1009
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    • 2006
  • High quality three-dimensional (3D) heterostructures were constructed by selective area (SA) molecular beam epitaxy (MBE) using a specially patterned GaAs (001) substrate to improve the efficiency of tarrier transport. MBE growth parameters such as substrate temperature, V/III ratio, growth ratio, group V sources (As2, As4) were varied to calibrate the selective area growth conditions and the 3D GaAs-AlGaAs heterostructures were fabricated into the ridge type and the V-groove type. Scanning micro-photoluminescence $({\mu}-PL)$ measurements and the following analysis revealed that the gradually (adiabatically) coupled 1D-2DEG (electron gas) field effect transistor (FET) system was successfully realized. These 3D-heterostructures are expected to be useful for the realization of high-performance mesoscopic electronic devices and circuits since it makes it possible to form direct ohmic contact onto the (quasi) 1D electron channel.

Effects of Al Contents on Toughness of High Strength GMA Weld Metal (고강도 GMA 용착금속의 충격인성에 미치는 Al의 영향)

  • Park, Hyoung-Keun;Kim, Hee-Jin;Seo, Jun-Seok;Ryoo, Hoi-Soo;Ko, Jin-Hyun
    • Proceedings of the KWS Conference
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    • 2010.05a
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    • pp.30-30
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    • 2010
  • 고강도강의 용접성은 저온균열 저항성으로 대변되는데, TMCP강과 HSLA강 등이 개발되면서 고강도강의 저온균열저항성이 크게 향상되어 무예열 용접성이 확보되었다. 그러나 용접재료 측면에서는 그에 상응하는 재료의 개발이 지연되어 강재 개발로 인한 우수한 성능을 충분히 발휘하지 못하고 있으며 용접부의 건전성 문제가 심각하게 인식되고 있다. 이로 인해 고강도강에 적용시킬 수 있는 무예열 용접재료의 필요성이 대두되어 개발이 진행되고 있으며 상용화를 앞두고 있다. 이러한 용접재료의 개발단계에서 합금설계는 가장 중요한 항목으로 합금 조성에 따라 용착금속의 강도 및 인성에 상당한 변화를 가져오기 때문이다. 합금원소 중 Al은 강재의 탈산을 돕기 때문에 가능한 많은 양의 첨가를 요구하지만 적정량 이상을 초과하게 되면 오히려 용착금속의 저온인성 특성에 부정적인 영향을 미치게 된다. 본 연구에서는 고강도 GMA 용착금속의 Al함량을 단계적으로 변화시켜 용착금속 내 최적의 Al의 함량을 찾고자 하였다. 또한 높은 비용 및 많은 시간을 필요로 하는 와이어로드를 제작하지 않고도 Al함량을 조절 할 수 있는 방법을 고안하고자 하였다. 실험의 모재는 HSLA-100강을 사용하였으며 용접재료는 ER120S-G급의 GMA용접 재료를 사용하였다. 모재 성분과의 희석을 방지하기 위해 V-Groove 가공 후 6패스 Buttering 용접을 실시하였고, 다시 Buttering용접부에 V-Groove 가공을 하여 최종 용접을 실시하였다. 이 때 Al함량을 조절하기 위해 최종 용접 개선부 밑면에 홈을 판 후 Al fiber(직경 0.3mm)를 깔고 용접(입열량 20kJ/cm)하여 Al함유량을 총 3가지(0.003~0.04% Al)로 제어하였다. 용접 후 각각의 시편에 대해 미세조직, 충격시험, O/N분석, 성분분석 등의 시험을 수행하여 저온인성과의 상관관계를 알아보았다.

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STRESS ANALYSIS OF MAXILLARY PREMOLARS WITH COMPOSITE RESIN RESTORATION OF NOTCH-SHAPED CLASSⅤCAVITY AND ACCESS CAVITY ; THREE-DIMENSIONAL FINITE ELEMENT STUDY (쐐기형 5급 와동과 근관와동을 복합레진으로 수복한 상악 소구치에 대한 응력 분석: 3차원 유한요소법적 연구)

  • Lee, Seon-Hwa;Kim, Hyeon-Cheol;Hur, Bock;Kim, Kwang-Hoon;Son, Kwon;Park, Jeong-Kil
    • Restorative Dentistry and Endodontics
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    • v.33 no.6
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    • pp.570-579
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    • 2008
  • The purpose of this study was to investigate the distribution of tensile stress of canal obturated maxillary second premolar with access cavity and notch-shaped class V cavity restored with composite resin using a 3D finite element analysis. The tested groups were classified as 8 situations by only access cavity or access cavity with notch-shaped class V cavity (S or N), loading condition (L1 or L2), and with or without glass ionomer cement base (R1 or R2). A static load of 500 N was applied at buccal and palatal cusps. Notch-shaped cavity and access cavity were filled microhybrid composite resin (Z100) with or without GIC base (Fuji II LC). The tensile stresses presented in the buccal cervical area, palatal cervical area and occlusal surface were analyzed using ANSYS. Tensile stress distributions were similar regardless of base. When the load was applied on the buccal cusp, excessive high tensile stress was concentrated around the loading point and along the central groove of occlusal surface. The tensile stress values of the tooth with class Ⅴ cavity were slightly higher than that of the tooth without class V cavity. When the load was applied the palatal cusp, excessive high tensile stress was concentrated around the loading point and along the central groove of occlusal surface. The tensile stress values of the tooth without class V cavity were slightly higher than that of the tooth with class V cavity.

Ductile-Regime Nanopatterning on Pyrex 7740 Glass Surface and Its Application to the Fabrication of Positive-tone PDMS Stamp for Microcontact Printing (${\mu}CP$) (미소접촉인쇄 공정용 철형 PDMS 스템프 제작을 위한 Pyrex 7740 glass 표면의 연성영역 나노패터닝)

  • Kim H. I.;Youn S. W.;Kang C. G.
    • Proceedings of the Korean Society for Technology of Plasticity Conference
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    • 2004.10a
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    • pp.40-43
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    • 2004
  • Stamps for microcontact processing are fabricated by casting elastomer such as PDMS on a master with a negative of the desired pattern. After curing, the PDMS stamp is peeled away from the master and exposed to a solution of ink and then dried. Transfer of the ink from the PDMS stamp to the substrate occurs during a brief contact between stamp and substrate. Generally, negative-tone masters, which are used for making positive-tone PDMS stamps, are fabricated by using photolithographic technique. The shortcomings of photolithography are a relative high-cost process and require extensive processing time and heavy capital investment to build and maintain the fabrication facilities. The goal of this study is to fabricate a negative-tone master by using Nano-indenter based patterning technique. Various sizes of V-grooves and U-groove were fabricated by using the combination of nanoscratch and HF isotropic etching technique. An achieved negative-tone structure was used as a master in the PDMS replica molding process to fabricate a positive-tone PDMS stamp.

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Effect of Ti Contents on characteristics of 700Mpa Weld Metal (Ti 함량에 따른 700MPa급 용착금속의 특성 변화)

  • Park, H.K.;Kim, H.J.;Seo, J.S.;Ryoo, H.S.;Ko, J.H.
    • Proceedings of the KWS Conference
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    • 2009.11a
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    • pp.47-47
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    • 2009
  • 용착금속의 미세조직은 크게 Acicular ferrite(AF), Ferrite with aligned second phase(FS), Primary ferrite(=Grain boundary Ferrite) 등으로 나눌 수 있다. 이 중 침상형 페라이트(AF)는 인성과 강도를 동시에 증가시킬 수 있으므로 이를 다량 확보하는 것이 용접산업의 관건이다. 본 연구에서는 침상형 페라이트 발생에 기여한다고 알려진 Ti 함량을 용착금속에서 단계적으로 조절하여 나타나는 미세조직과 특성변화를 관찰하였다. 모재는 HSB-600을 사용하였으며 용접재료는 ER100S-G급의 Ti가 함유되어 있는 것(A)과 미함유된 것(B)을 사용하였다. 모재 성분의 희석을 방지하기 위해 V-Groove 가공 후 Buttering 용접을 실시하였다. 중앙에 가공된 V-그루브에 이들 재료를 적절히 조합하고 용접(입열량 20kJ/cm)하여 Ti함유량을 총 4가지(0.002~0.025% Ti)로 제어하였다. 용접 후 각각의 시편에 대해 미세조직, 충격시험, O/N분석, 성분분석 등의 시험을 진행하였다. 미세조직 관찰결과 Ti함량이 증가할수록 AF는 증가하고 FS는 감소함을 확인할 수 있었으며 충격시험결과 Ti가 많이 함유된 시편일수록 더 낮은 연성취성 천이온도(DBTT)를 나타내었다. EDS와 SEM으로 관찰한 결과 Ti함량 증가에 따라 비금속개재물의 크기는 작아지고 밀도는 높아지는 것을 확인할 수 있었으며 개재물 내에서의 Ti함량도 더 많아지는 것을 확인 할 수 있었다.

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표면변형에 따른 실리콘 태양전지의 전력변환효율 변화

  • Lee, Se-Won;O, Si-Deok;Sin, Hyeon-Uk;Jeong, Je-Myeong;Kim, Tae-Hwan;Sin, Jae-Cheol;Kim, Hyo-Jin
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.02a
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    • pp.387-387
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    • 2012
  • 결정 Si 및 비정질 Si 태양전지는 환경친화적이며 안정적인 물질로 전력변환 및 에너지 저장 장치에 중요하기 때문에 연구가 활발하게 진행되고 있다. 고효율 Si 태양전지를 제작하여 상용화하기에는 여러 가지 문제점이 있다. 공기와 비교하여 높은 굴절률을 갖고 있기 때문에 발생하는 반사를 줄이기 위해서 필요한 무반사 코팅층(Anti-reflective coating; ARC)은 주로 SiO2 와 SiNx 와 같은 유전체를 이용하여 사용하지만 이들 ARC 증착은 PECVD와 같은 진공장비를 사용하므로 제작 비용이 높아지는 단점이 있다. 나노선 또는 나노 팁과 같은 sub-wavelength 구조를 표면에 만들어 반사율을 줄이는 작업을 통해 ARC 공정비용을 감소하고 효율을 증진하는 연구가 활발히 진행되고 있다. CdS 양자점을 태양전지 표면에 형성함으로 ARC로 해결할 수 없는 단파장영역에 해당하는 부분을 줄이는 연구가 진행되었으며, 비정질의 경우 원기둥 형태의 태양전지 형태와 더불어 지름 방향으로의 PN 접합 나노로드 배열을 만들어 흡수면을 증가하여 효율을 증가한 연구도 진행되었다. 태양전지 표면의 형태를 V-groove 형태로 형성하여 입사하는 태양전지의 광밀도를 증가하는 이론적 결과도 발표되었다. 본 연구에서는 Si 태양전지의 표면변형에 따른 태양전지의 전력변환효율의 변화를 관찰하기 위하여 태양전지 표면의 texture 지름을 $3{\sim}15{\mu}m$, 간격을 $5{\sim}20{\mu}m$로 변화하고, 태양전지 표면의 나노 패턴을 2~10 nm 로 변화하여 반사율과 전력변환효율을 비교하였다. 나노와 마이크로 패턴은 각각 polystyrene nanosphere 와 photo mask를 이용하여 제작하였으며 PN junction Si 태양전지는 spin on dopant 방식으로 제작하여 성능을 조사하였다.

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