자화된 유도결합형 $\textrm{C}_{4}\textrm{F}_{8}$ 플라즈마를 이용한 $\textrm{SiO}_2$ 건식 식각시 실리콘 표면에 발생하는 손상 및 오염에 관한 연구
(A Study of Damage and Contamination on Silicon by Magnetized Inductively Coupled $\textrm{C}_{4}\textrm{F}_{8}$ Plasma Etching of $\textrm{SiO}_2$ )
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- 한국재료학회지
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- 제8권9호
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- pp.825-830
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- 1998