Magnetic properties and thermal stability by exchange biased perpendicular magnetic anisotropy in (Pd/Co)$_{N}$FeMn multilayer deposited by do magnetron sputtering system are investigated. We measured the perpendicular magnetization curves of (Pd(0.8nm)/Co(0.8nm)$_{5}$FeMn multilayer as function of FeMn thickness and annealing temperature. As FeMn thickness increases from 0 to 21nm, the perpendicular exchange bias(Hex) obtained 127 Oe at FeMn thickness 15nm. As the annealing temperature increases to 24$0^{\circ}C$, the E$_{ex}$ increased from 115 Oe to 190 Oe and disappeared exchange biased perpendicular magnetic anisotropy effect at 33$0^{\circ}C$.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.11a
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pp.267-270
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2003
We have studied the interfacial diffusion phenomena and the role of ${\alpha}-Al_2O_3$ buffer layer as a diffusion barrier in the $Ba-ferrite/SiO_2$ magnetic thin films for high-density recording media. In the interface of amorphous Ba-ferrite ($1900-{\AA}-thick)/SiO_2$ thin film during annealing, the interfacial diffusion started to occur at ${\sim}700^{\circ}C$. As the annealing temperature increased up to $800^{\circ}C$, the interfacial diffusion abruptly proceeded resulting in the high interface roughness and the deterioration of the magnetic properties. In order to control the interfacial diffusion at the high temperature, we introduced ${\alpha}-Al_2O_3$ buffer layer ($110-{\AA}-thick$) in the interface of $Ba-ferrite/SiO_2$ thin film. During the annealing of $Ba-ferrite/{\alpha}-Al_2O_3/SiO_2$ thin film even at ${\sim}800^{\circ}C$, the interface was very smooth. The smooth interface of the film was also clearly shown by the cross-sectional FESEM. The magnetic properties, such as saturation magnetization 3nd intrinsic coercivity, were also enhanced, due to the inhibition of interfacial diffusion by the ${\alpha}-Al_2O_3$ buffer layer. Our study suggests that the ${\alpha}-Al_2O_3$ buffer layer act as a useful interfacial diffusion barrier in the $Ba-ferrite/SiO_2$ thin films.
The HDDR (Hydrogenation-Disproportionation-Desorption-Recombination) process is a special method to produce anisotropic NdFeB powders for bonded magnet. The effect of the modified HDDR process on magnetic properties of $Nd_2Fe_{14}B$-based magnet with several composition $Nd_{11.2}Fe_{66.5-x}Co_{15.4}B_{6,8}Zr{0.1}Ga_x(x=0{\sim}1.0)$ and that of microelement Ga, disproportional temperature and annealing temperature on $_jH_c$, grain size were investigated in order to produce anisotropic powder with high magnetic properties. It was found that modified HDDR process is very effective to enhance magnetic properties and to fine grain size. The addition of Ga could change disproportionation character remarkably of the alloy and could improve magnetic properties of magnet powder. Increasing annealing temperature induces significant grain growth. And grain size produced by modified HDDR process is significantly smaller than those produced by conventional HDDR process.
We successfully grew $La_{0.35}Pr_{0.35}Ca_{0.3}MnO_3$(LPCMO)/$LaAlO_3$(LAO) thin film using Laser Molecular-Beam Epitaxy and studied post-growth annealing effects ($750^{\circ}C$, 5 h) on its crystal structural and magnetic properties. Whereas the single-layered LPCMO and LPCMO/STO superlattice thin films show rough surface before and after the post-growth annealing, LPCMO/LAO superlattice shows a relatively very flat surface even after the post-growth annealing. The enhancement of ferromagnetism of LPCMO/LAO superlattice after the post-growth annealing was remarkable compared to the single-layered LPCMO thin film. The coercive and saturation magnetic field of the single-layed LPCMO thin film were decreased after the post-annealing. However, for LPCMO/LAO superlattice, a same coercive and increased saturation magnetic field were exhibited after post-growth annealing. We suggest that these peculiar observations are originate from the super-structure of LPCMO and LAO.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.6
no.4
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pp.103-107
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1989
The effects of annealing temperature on the magnetic properties (maximum permeability, coercive force and remanence) and mechanical properties (hardness, tensile strength and elongation at rupture) were analyzed using the nondestructive impulsive magnetic analyzer in a medium carbon cold rolled steel sheet. This nondestructive method was very useful for the analysis of magnetic and mechanical properties of materials. As it was known in the literature, the three distinct processes that indicate the recovery, recrystallization, and grain growth of a metal were measured with the non-destructive analyzer.
Tb3+-doped CaNb2O6 (CaNb2O6:Tb3+) thin films were deposited on quartz substrates at a growth temperature of 300 ℃ using radio-frequency magnetron sputtering. The deposited thin films were annealed at several annealing temperatures for 20 min and characterized for their structural, morphological, and luminescent properties. The experimental results showed that the annealing temperature had a significant effect on the properties of the CaNb2O6:Tb3+ thin films. The crystalline structure of the as-grown CaNb2O6:Tb3+ thin films transformed from amorphous to crystalline after annealing at temperatures greater than or equal to 700 ℃. The emission spectra of the thin films under excitation at 251 nm exhibited a dominant emission band at 546 nm arising from the 5D4→7F5 magnetic dipole transition of Tb3+ and three weak emission bands at 489, 586, and 620 nm, respectively. The intensity of the 5D4→7F5 (546 nm) magnetic dipole transition was greater than that of the 5D4→7F6 (489 nm) electrical dipole transition, indicating that the Tb3+ ions in the host crystal were located at sites with inversion symmetry. The average transmittance at wavelengths of 370~1,100 nm decreased from 86.8 % at 700 ℃ to 80.5 % at an annealing temperature of 1,000 ℃, and a red shift was observed in the bandgap energy with increasing annealing temperature. These results suggest that the annealing temperature plays a crucial role in developing green light-emitting CaNb2O6:Tb3+ thin films for application in electroluminescent displays.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2015.08a
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pp.230.2-230.2
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2015
Nanoparticles of magnesium ferrite are used as a heterogeneous catalyst, humidity sensor, oxygen sensor and cure of local hyperthermia. These applications usually utilize the magnetic behavior of these nanoparticles. Moreover, magnetic properties of nanoferrites exhibit rather complex behavior compared to bulk ferrite. The magnetic properties of ferrites are complicated by spins at vortices, surface spins. Reports till date indicate strong dependency on the structural parameters, oxidation state of metal ions and their presence in octahedral and tetrahedral environment. Thus we have carried out investigation on magnesium ferrite nanoparticles in order to study coordination, oxidation state and structural distortion. For present work, magnesium ferrite nanoparticles were synthesized using nitrates of metal ions and citric acid. Fe L-edge spectra measured for these nanoparticles shows attributes of $Fe^{3+}$ in high spin state. Moreover O K-edge spectra for these nanoparticles exhibit spectral features that arises due to unoccupied states of O 2p character hybridized with metal ions. Mg K-edge spectra shows spectral features at 1304, 1307, 1311 and 1324 eV for nanoparticles obtained after annealing at 400, 500, 600, 800, 1000, and $1200^{\circ}C$. Apart from this, spectra for precursor and nanoparticles obtained at $300^{\circ}C$ exhibit a broad peak centered around 1305 eV. A shoulde rlike structure is present at 1301 eV in spectra for precursor. This feature does not appear after annealing. After annealing a small kink appear at ~1297 eV in Mg K-edge spectra for all nanoparticles. This indicates changes in local electronic structure during annealing of precursor. Observed behavior of change in local electronic structure will be discussed on the basis of existing theories.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.313-313
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2013
For high-performance TFT (Thin film transistor), poly-crystalline semiconductor thin film with low resistivity and high hall carrier mobility is necessary. But, conventional SPC (Solid phase crystallization) process has disadvantages in fabrication such as long annealing time in high temperature or using very expensive Excimer laser. On the contrary, MIC (Metal-induced crystallization) process enables semiconductor thin film crystallization at lower temperature in short annealing time. But, it has been known that the poly-crystalline semiconductor thin film fabricated by MIC methods, has low hall mobility due to the residual metals after crystallization process. In this study, Ni metal was shallow implanted using PIII&D (Plasma Immersion Ion Implantation & Deposition) technique instead of depositing Ni layer to reduce the Ni contamination after annealing. In addition, the effect of external magnetic field during annealing was studied to enhance the amorphous silicon thin film crystallization process. Various thin film analytical techniques such as XRD (X-Ray Diffraction), Raman spectroscopy, and XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy), Hall mobility measurement system were used to investigate the structure and composition of silicon thin film samples.
The structural and magnetic properties of sputtered CoNbZr alloy films were investigated. In the as-deposited $Co_{87.0}$N $b_{8.5}$Z $r_{4.5}$ film deposited at 2 mTorr and 130 W, we observed the minimum coercivity of 1.75 Oe, the maximum resistivity of 3000 $\mu$Ω.cm and permeability of 1095 at 100 MHz. As the Ar pressure or the RF input power increased, the permeability of films at 100 MHz decreased and the coercivity increased because of the development of columnar structure and the formation of unstable amorphous phase. Permeability lower than 100 and coercivity of 60 Oe were observed in film deposited at 1 mTorr or 190 W due to the formation of crystalline phase. Magnetic anisotropy field of as-deposited films could be reduced by rotating field annealing for 120 minutes at 30$0^{\circ}C$. After the annealing, the anisotropy field (Hk) decreased from 1.43 Oe to 0.3 Oe and the permeability increased from 1095 to 1345 because defects in as-deposited films were eliminated by the annealing.aling.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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