Volleyball is an international sport with many fans. This sport has made significant progress in schools and clubs. Volleyball is suitable for all age groups and can be used in different environments. It has many social and physical benefits. During the game provides special physical training for the players and is considered one of the most exciting games. Another type of volleyball is beach volleyball, a beach sport and one of the Olympic sports held on the sand with the same rules as volleyball. This sport is usually played in coastal areas, especially with wide sandy beaches. Because this sport is played in open spaces, the players stay in this space for a long time and are exposed to dangerous ultraviolet radiation. It is a wavelength of light in the range of electromagnetic waves with a wavelength between 10 and 400 nm. This wavelength is shorter than visible light and more protracted than X-ray. Ultraviolet (UV) rays are naturally present in sunlight and include about 10% of all waves emitted from the sun's surface. Prolonged exposure to ultraviolet light causes acute and chronic damage to the skin and vision and even destroys the entire immune system. Different covers of the earth's surface reflect different amounts of UV rays. For example, snow cover, sand, and seawater surface reflect this radiation. Therefore, the health of volleyball players is in danger due to this harmful radiation. This work aims to introduce a type of clothing made of nanoparticles that can repel ultraviolet rays and protect beach volleyball players whose health is at risk from this radiation.
We present a simple design rule for a passive temperature-compensating optical package. We also present experimentally that a package fabricated by using the design rule compensates the temperature dependence of the resonant wavelength of an optical long period fiber grating by varying the strain inside the fiber, The package fabricated in this work consists of two pieced of brass tube, 10 mm long, and a piece of nylon rod, 45.4 mm long. It is shown that the package can compensate the temperature-induce wavelength shifts of the long period grating to a range of 6.8 pm/$^{\circ}C$, compared with 0..48 nm/$^{\circ}C$ for an uncompensated grating. The reduced strength of the fiber caused by exposure to ultraviolet limits the performance of the package to the range operating temperature form -3 $^{\circ}C$ to 7$0^{\circ}C$.
견본 회화 문화재의 보존처리의 보견작업에 적합한 자외선 인공 열화견을 얻기 위해 자외선의 종류, 자외선 조사시간에 따른 열화견의 물리적 특성과 견본 회화 보존처리에의 적용성을 평가하였다. 장파장 자외선(UV-A) 조사 열화견은 단파장 자외선(UV-C) 조사 열화견에 비해 자연상태에서 열화가 일어난 생견과 유사한 표면 손상 형태를 보였다. UV-C 열화견은 자외선 조사와 함께 강도가 급격하게 떨어져 54시간을 조사하였을 때 원래 강도의 12.7%까지 저하한 반면 UV-A 열화견은 168시간 조사하였을 때 원래 강도의 14.2% 수준으로 떨어져 강도 저하가 완만하였다. UV-A 열화견의 수분율은 자외선 조사시간의 증가와 함께 7.3%까지 떨어지다가 증가하지만 UV-C 열화견은 6.0%까지 떨어지다가 다시 증가하였으며 전체적으로 UV-A 열화견의 수분이 높았다. UV-A 열화견은 밝은 황색을 띠며 황변지수가 낮은 반면 UV-C 열화견은 어두운 황갈색이며 황변지수가 높았다. 견본 회화 보존처리에의 적용성을 평가한 결과, UV-A 열화견은 UV-C 열화견에 비해 황변에 의한 색상차가 크지 않아 보견 작업시 염색이나 보채에 크게 문제가 되지 않을 정도이며, 강도면에서 UV-C 열화견은 섬유가 부서지기 쉬운 상태인 것과는 달리, UV-A 열화견은 자연상태에서 열화가 일어난 생견과 유사한 속심이 살아있는 듯한 느낌을 띠었다. 그리고 UV-A 열화견과 UV-C 열화견 모두 친수성을 가져 보채에는 문제가 없었다. 전반적인 평가 결과 UV-C 열화견 보다 UV-A 열화견이 견본 회화의 보견에 사용하기 적합하였다.
연구목적: 연안건축 재료의 자외선 반사율과 투과율은 건물의 자외선 방출 및 방출의 주요 요인 중 하나이다. 이 연구에서는 건축 자재의 여러 종류의 자외선 스펙트럼 반사율이 측정되었으며 또한 표면 특성 중에 하나인 명도, 거칠기 및 색도와의 관계에 대해서도 검토 및 제안했다. 연구방법: 본 연구에서는 CIE 분류에 의거하여 자외선영역은 단파장 UV-C (10nm~280nm), 중파장 영역 UV-B (280-315 nm), 장파장 영역 UV-A (315-400nm), 가시광선 영역 (400nm~780nm)으로 정했으며, 연속적으로 측정하기 위하여 분광 광도계를 사용했다. 연구결과: 나무의 경우 반사율은 가시광선역 55-68 %, UV-A * 7-12 %, UV-B* 4-5 %로 나타났다. 벽타일은 가시광선역 18-40 %, UV-A* 8-20 %, UV-B* 7-8 % 로 나타났으며, 콘크리트는 가사광선역 37 %, UV-A* 28 %, UV-B* 19 %로 나타났다. 결론: 가시광선 반사율에 의해 자외선 반사율을 추정 할 수 있으며, 또한 자외선 차단을 할 때에는 용도에 따라 다양한 재료를 선택하는 것이 중요하다.
화학적 열화를 빠르게 유도할 수 있는 단파장의 자외선(254 nm)을 고밀도 폴리에틸렌의 표면에 조사하여, 생성된 carbonyl band의 변화로부터 기계적 물성 변화를 예측할 수 있는 지에 대한 가능성을 연구하였다. 오랜 시간이 요구되는 자연 태양광에 의한 옥외폭로시험이나, 제논-아크 광원에 의한 광 열화 대신에 광양자 에너지가 높은 UVC 램프를 사용함으로써, 유도되는 광열화의 화학적 특성이 동일한 기계적 물성 변화를 유발하는지를 확인하는 것에 본 연구의 의미가 있다. 인장시험과 크리프-파괴시험으로 진행된 고밀도 폴리에틸렌의 기계적 강도는 CI 변화에 유사한 양상을 보였으며, 특히 항복강도와 신장률은 자외선 노출시간과 밀접한 관계가 있음을 보여주었다. 따라서 빠른 표면 열화를 유발하는 UVC 램프를 활용한 카르보닐 지수와 기계적 물성 변화의 관계를 통하여 장시간이 요구되는 옥외에서의 기계적 물성변화를 보다 빠르게 파악할 수 있는 방법을 제시하였다.
한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.803-806
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2002
Flame spray pyrolysis was applied to improve the photoluminescence characteristics of blue-emitting $Sr_5(PO_4)_3Cl:Eu^{2+}$ phosphor particles with high brightness for the application to LED phosphor. $Sr_5(PO_4)_3Cl:Eu^{2+}$ prepared from conventional spray pyrolysis had poor PL intensity than that of commercial products under long-wavelength ultraviolet(UV). $Sr_5(PO_4)_3Cl:Eu^{2+}$ phosphor particles prepared by flame spray pyrolysis had PL intensity as same as that of commercial products under long-wavelength UV. Hollow morphology and porous structure of the particles prepared by the flame spray pyrolysis disappeared after posttreatment. Even though the $Sr_5(PO_4)_3Cl:Eu^{2+}$ phosphor particles prepared by the flame spray pyrolysis had irregular shape, the particles had dense structure and clear surface property.
범죄 현장에서 눈으로 보이지 않는 지문의 위치를 파악하기 위해 254 nm의 단파자외선과 루비스(RUVIS;Reflective Ultraviolet Imaging System, 반사자외선이미징시스템) 장비를 사용하는 것이 매우 효과적이다. 최근 유전자 감식 기술의 발전으로 지문과 같은 극미량의 생체시료에서도 성공적으로 DNA 프로필을 확보할 수 있게 되었지만, 지문 탐색에 사용되는 단파자외선에 의해 DNA가 파괴될 수 있다. 본 연구에서는 일반적으로 가장 많이 사용되고 있는 4 종류의 자외선 광원을 대상으로 자외선 조사 시간과 조사 거리에 따른 DNA 손상 정도를 비교하였다. 단파 자외선을 사용하는 경찰 루비스, SIRCHIE 미니라이트 및 SIRCHIE 루비스의 경우에는 10 cm 거리에서 10초간 조사할 경우 약 50% 정도의 DNA가 손상되었고, 시료와의 거리가 가까울수록, 처리 시간이 길수록 DNA 손상 정도가 증가하였다. 이 장비들을 사건 현장에서 사용할 경우에는 유전자 감식 시료의 DNA에 많은 손상을 가져올 수 있기 때문에 1 m 이상의 거리에서 조사하는 것이 바람직할 것으로 판단되었다. 반면 350 nm의 장파자외선을 사용하는 폴리라이트 장비는 단파 자외선 장비에 비해 DNA 손상 정도가 크지 않았다. 지문 탐색과 유전자감식을 모두 고려한다면, 자외선 광원의 종류에 따라 조사 거리와 조사 시간을 결정하는 것이 필요하다.
The overhang structure of photoresist in optical lithography was studied for the metallization of GaAs-related devices throughout lift-off method. Optical contact aligner with a dose of 8.5 m J/cm\ulcornerand with a wavelength of 300mm was used for ultraviolet exposure of single layer of S1400-27 photoresist. The overhang thickness shows a linear relationship with the soaking time in monochlorobenzene, which its magnitude becomes high at elevated softbake temperature. Such process conditions as a low softbake temperature, a long monochlorohbenzene soaking time and a little exposed energy make the development rate of photoresist lower. The optimum process conditions to obtain a target line-width, which include an appropriate overhang structure such as complete separation between the sidewall of photoresist pattern and the deposited metal edge, are determined as the softbake temperature of 64-74\ulcornerC, the monochlorobenzene soaking time of 10-15min, the ultraviolet exposure time of 70-100sec and the development time of 50-80sec.
Green-emitting $Ba_{1.468}Sr_{0.5}SiO_4\;:\;Eu_{0.012},\;Y_{0.02}$ phosphor powders under long-wavelength ultraviolet light were prepared via high-temperature flame spray pyrolysis from spray solutions with and without $NH_4Cl$ flux. The effects of the temperature of the diffusion flame and the $NH_4Cl$ flux on the morphologies, crystal structures and photoluminescence intensities of the $Ba_{1.468}Sr_{0.5}SiO_4\;:\;Eu_{0.012},\;Y_{0.02}$ phosphor powders were investigated. The phosphor powders obtained from the spray solution with the $NH_4Cl$ flux had higher photoluminescence intensities compared to phosphor powders obtained from the spray solution without the flux. The photoluminescence intensity of the phosphor powders obtained from the spray solution without the flux decreased as the flow rate of the fuel gas increased. On the other hand, the photoluminescence intensity of the phosphor powders obtained from the spray solution with the flux increased as the flow rate of the fuel gas increased. The difference of in the phase purity and morphology of the powders affected the photoluminescence intensities of the phosphor powders.
The IUE low dispersion spectra of AZ Cas have been analyzed for line identifications and energy distribution in ultraviolet region. Highly ionized atoms, SiIV and CIV are identified. We could infer a temperature range of the B star between 15,000K and 20,000K. The energy density distribution shows a hump between IUE short wavelength and long wavelength regions. Photometric and spectroscopic elements were revised based on the Florkowisk photeelectric observations and collected radial velocities. The temperature of both stars were reduced as 16,000K and 3,800K. The radii of both stars are $10 R_{\odot}\;and\;320R_{\odot}$. The eccentricity and longitude of periastron are 0.61 and $10.5^{\circ}$, respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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