Charge Pumping 기술을 응용한 열화된 SONOSFET 비휘발성 기억소자의 Si-SiO$_2$ 계면트랩에 관한 연구
(A Study on the Si-SiO$_2$ Interface Traps of the Degraded SONOSFET Nonveolatile Memories with the Charge Pumping Techniques)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 1994년도 추계학술대회 논문집
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- pp.59-64
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- 1994
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