Reactive ion etching of GaAs, AIGaAs, and InGaP in $Cl_2$ and $CCl_2F_2$ plasmas with Ar and $H_2$ addition
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- 한국진공학회:학술대회논문집
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- 한국진공학회 2001년도 제21회 학술발표회 초록집
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- pp.153-154
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- 2001