• 대한화학회지
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• 제17권3호
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• pp.154-162
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• 1973

치환된 염화벤젠술포닐 $XC_6H_4SO_2Cl$(X:p-MeO, H, p-Cl, p-Br, p-NO_2)의 할라이드 교환 반응을 무수 아세톤 중에서 행하여 반응속도 상수와 활성화 계수를 구하였다. 금속 할라이드의 이온쌍 $M^{+}X^{-}$의 반응성은 할라이드 이온에 비하여 무시할 수 있음을 보았다. EH 친핵성도가 전자를 밀어내는 치환기를 가진 경우에 $Cl>Br^{-}>I^{-}$이고, 전자를 끌어주는 치환기를 가진 경우에는 $Cl>I^{-}>Br^{-}$이었다. 이들 결과와 Hammett그림표가 위로 볼록한 것을 결합 약화 과정이 크게 기여하는 단순 $S_N2$메커니즘으로 설명하였다.

• 상하수도학회지
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• 제14권1호
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• pp.84-98
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• 2000

Control of Trihalomethanes(THMs) is a major concern of many water treatment plants. A number of researchers have studied the effectiveness of activated carbon adsorption process in removing THMs or organic halogen compounds. Recently, attention has been paid to the biological activated carbon (BAC) treatment of THM precursors as an alternative to the carbon adsorption treatment because of its effectiveness as well as its low running cost. In this study, changes of THM formation potential(THMFP) and removal of substrates in the SBR effluent were investigated in an attempt to clarify the mechanisms of the decrease/increase of THMFP in the BAC treatment. The increase and decrease of THMFP concentrations were observed in effluents during prolonged operation. When PCP or DBS was feeded as substrate contained in SBR effluent, the THMFPs were easyly removed with TOCs removal. But the case of SBR effluent containing SDS or glycine was introduced, and when microbial growth came to its near steady state, the THMFPs of treated effluents were increased more or less in comparison to those in the influents. Such increases of THMFP coincided with the increase in microbial growth within the activated carbon fiber(ACF) column. In the case of only sucrose was feeded as substrate on ACF colume, THMFP concentrations of effluent were higher than those of influent. The THMFP concentration was significantly increased on inlet part of ACF column, which biomass inhabits abundantly, then they were decreased gradually. These increases mean production of the secondary THM precursors by biological activities, which can be removed by adsorption and biological degradation on ACF column.

• 대한화학회지
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• 제7권3호
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• pp.216-224
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• 1963

有機含鹽素 에스테르, 알콜, 및 산과 金屬亞鉛 및 錫을 dimethyl formanmide 溶媒存在下에서 反應시킨 結果 有機金屬 콤프렉스를 좋은 收率로 生成하였다. 같은 反應을 混合紫外線照射下에서 進行시킨 結果 高溫 以外에서는 콤프렉스의 生成이 크지못하였다. D.M.F.에 依한 金屬 콤프렉스의 溶解效果는 토루엘이나 사이크로헥산보다 훨씬 컸었다. 鹽素를 含有한 酸에서는 酸의 金屬鹽의 金屬 콤프렉스가 生成됨을 觀察하였다. 카보닐 precursor와의 反應에 있어서는 少量의 雙合物과 함께 附加物을 生成하였으나 收率이 높지 못하였다(산 30∼40%, 에스테르 73%, 알콜 14.6%). 그러나 이 方法은 從來法에 比하여 簡便한 것임을 알았다. 硏究結果를 溶媒效果에 關聯시켜 論議하였으며 實驗方式을 報告하였다.

• 자원리싸이클링
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• 제29권2호
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• pp.3-7
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• 2020

최근 저품위 (폐)광석으로부터의 금 회수를 위한 침출기술이 각광을 받고 있다. 현재 침출기술은 경제성과 효율성 측면에서 시안을 이용하는 것이 효과적이나 시안은 독극물의 일종으로 환경오염의 우려가 있어 규제 및 관리가 요구된다. 특히 이러한 문제는 최근 주목받고 있는 저비용 침출기술인 Dump 혹은 Heap leaching 적용시 더욱 현저하다. 이를 해결하기 위해 티오황산염(thiosulfate) 이나 할로겐화합물 등 시안을 대체할 대안침출제의 개발이 활발하게 진행되고 있으나 이들은 아직 상용화에 이르기까지 여러 어려움이 있으며 추가적인 연구개발이 필요하다. 저비용 친환경적인 생물학적 금침출도 상용화되고 있으나 이는 대부분 직접 금 침출이 아닌 시안침출의 전처리 산화공정(pre-oxidation process)으로 적용되고 있다. 그러나 생물학적 침출을 통한 직접 금 회수도 이론적으로 가능하며 향후 Dump나 heap bioleaching을 통한 직접 금 침출로 시안이 필요없는 저품위 금 회수 상용화가 시급하다고 판단된다.

• Applied Biological Chemistry
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• 제17권3호
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• pp.149-176
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• 1974

팔종(八種)의 치환(置換) diphenyl ether 제초제(除草劑)를 Rayonet 광화학(光化學) 반응기(反應器)를 사용(使用)한 모조환경조건하(模造環境條件下)에서 용액상(溶液相) 광분해(光分解)시켜 그 분해산물(分解産物)에 관(關)하여 연구(硏究)하였다. 시료(試料)로 사용(使用)된 화합물(化合物)들은 300 nm에서 광화학반응(光化學反應)을 일으키기에 충분(充分)한 energy를 흡수(吸收)하였으며 분해산물(分解産物)은 tlc, glc, ir, ms, 그리고 nmr 등(等)에 의(依)하여 확인(確認)하였다. 그 결과(結果)를 요약(要約)하면 C-6989의 용액상(溶液相) 광분해(光分解) : p-nitrophenol이 다량(多量) 생성(生成)됨을 보아 ether결합(結合)의 결렬이 주반응(主反應)이며 치환기(置換基) $NO_2{\rightarrow}NH_2$의 광화학적(光化學約) 환원반응(還元反應)과 $CF_3{\rightarrow}COOH$의 산화반응(酸化反應)도 관찰되었다. p-Nitrophenol의 수중(水中) 광분해(光分解) : quinone(0.28%), hydroquinone(0.66%) 및 p-aminophenol(0.42%)과 비교적(比較的) 소량(少量)의 미지화합물(未知化合物)이 생성(生成)됨을 확인(確認)하였고 모화합물(母化化合物)은 대부분(大部分) 작용(作用)을 받지 않은 채로 존재(存在)하였다. 이들 분해산물(分解産物)의 형성기구(形成機構)는 $n{\rightarrow}{\pi}^*$ 및 여기(勵起)를 거친 nitro-nitrite재배열(再配列) 및 자유기(自由基)에 의(依)한 수소탈취(水素脫取)를 통(通)한 광환원(光還元)으로 추측(推測)되었다. Nitrofen의 용액상(溶液相) 광분해(光分解) : n-hexane중(中)에서는 $NO_2$기(基)의 광환원(光遷元)이 주반응(主反應)이었고 수용액(水溶液) 중(中)에서는 광환원(光遷元) 및 hydroxylation이 ether결합(結合) 결렬 보다 현저하였다. hydroxide ion에 의한 친핵적(親核的) 치환(置換), hydroxyl기(基) 및 소량(少量)이긴 하지만 수소(水素)에 의한 염소(鹽素)의 치환(置換)도 다소 관찰되었다. MO-338의 용액상(溶液相) 광분해(光分解) : n-hexane용액중(中) nitro기(基)의 광환원(光遷元) 반응(反應)과 수용액중(水溶液中)에서의 광환원(光遷元) 및 hydroxylation이 주반응(主反應)이었으며 hydroxyl기(基)와 수소(水素)에 의(依)한 염소(鹽素)의 치환(置換) 및 ether결합(結合)의 결렬도 볼 수 있었다. n-Hexane과 cyclohexane중(中)에서의 MC-4379, MC-3761, MC-5127, MC-6063 및 MC-7181의 광분해(光分解) : nitro기(基)의 광환원반응(光還元反應)과 수소(水素)에 의(依)한 halogen의 치환반응(置換反應)이 주(主)로 일어났다. MC-4379의 수중(水中) 광분해(光分解) : ether결합(結合)의 결렬, hydroxyl기(基)에 의한 carboxymethyl기(基)의 치환(置換), hydroxylation, hydroxyl기(基)에 의한 nitro기(基)의 치환(置換)이 주(主)로 일어났고 광환원(光還元) 및 광염소화반응(光鹽素化反應)도 약간 일어났다. MC-3761의 수중(水中) 광분해(光分解) : ether결합(結合)의 결렬, hydroxyl기(基)에 의한 carboxymethyl기(基)의 치환(置換) 및 hydroxylation이 수반되는 광환원(光還元)이 주반응(主反應)이었다. MC-5127의 수중(水中) 광분해(光分解) : 수소(水素)에 의한 carboxyethyl기(基)의 치환(置換)이 현저 하였고 ether결합(結合)의 결렬, 광환원(光還元) 및 탈염소화반응(脫鹽素化反應)도 약간 관찰되었으며 decarboxyethylation은 decarxy-methylation보다 용이함을 볼 수 있었다. MC-6063의 수중(水中) 광분해(光分解) : ether결합(結合)의 결렬과 탈염소화반응(脫鹽素化反應)이 주(主)로 관찰되었다. MC-7181의 수중(水中) 광분해(光分解) : 수소(水素)에 의한 carboxymethyl기(基)의 치환(置換)과 monodechlorination이 현저하였고 ether결합(結合) 결렬과 hydroxylation도 약간 일어났다. 3-Carboxymethyl-4-nitrophenol의 수중(水中) 광분해(光分解) : 방향족(芳香族) ester에서 흔히 볼 수 있는 광유도(光誘導) Fries rearrangement는 이 화합물(化合物)의 carboxymethyl기(基)에서는 볼 수 없었고 $nitro{\to}nitroso$반응(反應)이 주(主)로 일어났다.

• 청정기술
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• 제23권4호
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• pp.378-387
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• 2017

영구적 난연성기를 함유한 에폭시 수지를 얻기 위하여, 본 연구에서는 디하이드록시를 함유한 인 화합물[10-(2,5-dihydroxyphenyl)-9,10-dihydro-9-oxa-10-phospha phenanthrene-10-oxide, DOPO-HQ]과 디하이드록시를 함유한 실리콘 화합물(polydimethylsiloxane, hydroxyl terminated, PDMS)를 경화하지 않은 에폭시 프리폴리머(diglycidyl ether of bisphenol A, DGEBA)와 반응시킨 다음, 경화제(4,4-diaminodiphenylmethane, DDM)를 사용하여 경화반응 시킨 에폭시 수지를 제조하였다. 제조된 에폭시 수지의 각종 특성을 적외선 분광분석기(FTIR), 시차주사열량기(DSC), 열중량 분석기(TGA), 한계산소지수(LOI)/수직 연소 시험(UL 94-V test), 인장 및 충격 시험을 이용하여 분석하였다. 그리고 사용한 인 및 실리콘 화합물의 함량이 에폭시 경화물의 열적/기계적 성질 및 난연성에 미치는 영향을 조사하였다. 인 및 실리콘 성분이 함유된 에폭시 수지의 열적 및 기계적 물성이 단순 에폭시 수지의 물성에 비교하여 크게 향상되었다는 것을 알 수 있었다. 그리고 인 및 실리콘을 함유한 모든 에폭시 수지는 29.9 ~ 31.8%의 LOI 및 V-0 수준의 UL 94-V로 난연성 기준(LOI: 30% 이상, UL 94-V: V-0)을 통과한 반면, 단순 에폭시 수지는 LOI: 21.4% 및 UL 94-V: no rating으로 난연성 기준에 크게 못 미치는 것을 알 수 있었다.