• Applied Microscopy
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• 제36권spc1호
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• pp.1-7
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• 2006

The three-dimensional structure of an inorganic crystal, $SmZn_{0.67}Sb_2$ (space group $P4/nmm,\;a=4.30(3){\AA}\;and\;c= 10.27(1){\AA}$), was refined by electron crystallography utilizing high voltage electron microscopy (HVEM). Effects of instrumental resolution, image quality, beam damage and specimen tilting on the structure refinement have been evaluated. The instrumental resolution and image quality were the most important factors on the final results in the structure refinement, while the beam damage and specimen tilting effects could be experimentally minimized or controlled. The average phase errors $({\Phi}_{res})$ for the [001], [100] and [110] HVEM images of $SmZn_{0.67}Sb_2$ were $10.1^{\circ},\;9.6^{\circ}\;and\;6.8^{\circ}$, respectively. The atomic coordinates of $SmZn_{0.67}Sb_2$ were consistent within $0.0013{\AA}{\sim}0.0088{\AA}$, compared to the X-ray crystallography data for the same sample.

• 한국정보과학회:학술대회논문집
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• 한국정보과학회 2005년도 한국컴퓨터종합학술대회 논문집 Vol.32 No.1 (A)
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• pp.580-582
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• 2005

거리가 상당히 먼 곳에서 고가의 장비를 사용하기 위해서는 사용할 연구 인력이 직접 와야 하는 많은 시간적 비용적 문제가 발생한다. 특히 본원에 장비되어 있는 초고전압 투과전자현미경(High Voltage Electron Microscopy - 이하 HVEM)의 경우 고가의 장비로 지역마다 기기를 구비할 수 없어 사용자는 직접 장비가 있는 연구실까지 와서 사용해야 한다. HVEM은 1천만 배율의 성능을 가진 국내 유일은 물론 전 세계적으로도 손꼽히는 고성능의 투과전자현미경으로 NT(Nano Technology), BT(Bio Technology) 연구에 있어서 핵심적인 역할을 하는 청단 연구기기이다. 따라서 본 논문에서는 그리드 컴퓨터 기술을 이용하여 HVEM을 원격제어 하는 시스템을 구축하였다.

• Applied Microscopy
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• 제34권1호
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• pp.13-21
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• 2004

최근에 한국기초과학지원연구원에 설치된 초고전압 투과전자현미경은 원자분해능(점분해능 $1.2{\AA}$ 이하)의 구현과 고경사각 tilting 기능(${\pm}60^{\circ}$)에 의해 시편의 원자배열 구조를 3차원적으로 이미징할 수 있는 고성능 투과전자현미경이다. 이에 더하여 FasTEM이라는 원격 운용 시스템이 갖춰져 있어서 장비의 직접운용에 따른 여러 제약을 극복할 수 있게 한다. 초고전압 투과전자현미경의 원격운용을 위해 FasTEM 원격 시스템은 본원 초고전압 투과전자현미경에 설치된 Server 시스템과 서울분소에 설치된 Client 콘솔 시스템을 155 Mbps급 초고속 선도망 KOREN에 연결하여 구성하였으며 서울분소에서 대전본원의 초고전압 투과전자현미경을 운영하여 Au의 [001] 고분해능 영상을 얻는데 성공하였다. 초고전압 투과전자 현미경의 조사계 및 결상계 시스템 파라메타들의 조정, 각각의 detector 시스템 조정과 이미징, goniometer와 aperture 구동을 위한 motor-driven system들의 동작 등 초고전압 투과전자현미경의 원격 조정은 원격 작업자가 현장에 있는 것과 마찬가지로 실시간 운용이 가능하였다. 초고전압 투과전자현미경과 IT 기반기술의 접목에 의해 실현된 원격운용 기능은 국가적 공동연구시설에 대한 e-Science Grid를 구축하는데 중요한 역할을 하리라 기대된다.

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 한국현미경학회 2005년도 제36차 춘계학술대회 및 제3회 HVEM 이용자 워크샵
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• pp.66-69
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• 2005

• 세라미스트
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• 제10권5호
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• pp.63-67
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• 2007

• 한국결정학회:학술대회논문집
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• 한국결정학회 2004년도 학술대회지
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• pp.11-11
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• 2004

• Applied Microscopy
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• 제35권4호
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• pp.98-104
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• 2005

초고전압 투과전자현미경 (HVEM)에 장착된 postcolumn 방식의 HV-GIF (high voltage gatan image filter)의 영상기록 장치인 HV-MSC (high voltage multi-scan CCD, $1024{\times}1024$픽셀) 카메라의 결상영역은 현미경 최소 관찰 배율인 2,000배에서 $0.43{\mu}m^2$로서 동일 배율에서 필름 기록영역($2000{\mu}m^2$)에 비해 약 0.02%에 해당하는 매우 적은 영역이다. 이러한 결상 영역 제한성을 개선하고자 투사렌즈 전류조절 기법을 도입하였으며 본 연구의 결과로 HV-MSC의 결상영역은 $112{\mu}m^2$로 비약적으로 증가하였다. 이는 약 8,800배에서 필름으로 기록할 수 있는 영역과 동일하였다. 이와 더불어 투사렌즈 조절에 따른 이미지 변형정도를 약 5%이하까지 허용하고 8,800배 이상에서 필름 기록영역과 동일한 HV-MSC 결상영역을 확보할 수 있는 실험적인 참조곡선을 고안하였다.

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 한국현미경학회 2005년도 제36차 추계학술대회 및 제4회 HVEM 이용자 워크샵
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• pp.48-52
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• 2005

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 한국현미경학회 2005년도 제36차 추계학술대회 및 제4회 HVEM 이용자 워크샵
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• pp.31-32
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• 2005

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 한국현미경학회 2005년도 제36차 춘계학술대회 및 제3회 HVEM 이용자 워크샵
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• pp.32-32
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• 2005