• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2009.04b
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• pp.89-90
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• 2009

Three kind of surface-leakage-test-patterns were fabricated and measured in order to investigate the surface leakage current of AlGaN/GaN heterostructures through etched GaN buffer surface and mesa wall. The pattern which contain the mesa wall has the largest surface leakage current among them. The leakage current due to the mesa wall is predominant source of the leakage current of AlGaN/GaN devices.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2008.05a
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• pp.31.2-31.2
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• 2008

• Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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• v.22 no.8
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• pp.654-658
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• 2009

For investigation of surface leakage currrent of AlGaN/GaN heterostructures through etched GaN buffer surface and mesa wall, three kind of surface-leakage-test-patterns were fabricated. and we measured the surface leakage current of each patterns. In result of our work, the surface leakage current of pattern of which Schottky contact is formed on etched mesa wall is the largest. the leakage current through schottky contact on etched mesa wall is predominant in AlGaN/GaN heterostructures.

• Journal of architectural history
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• v.21 no.5
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• pp.7-18
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• 2012

On behalf of the royal women, SangGung(尙宮:The head of female servants in the palace) and NaIns(內人: Female servants caring for royal families in the palace) were dispatched in order to attend a funeral at the royal tomb. The NaInGaGa(內人假家) is the temporary building for SangGung and NaIns in the royal tomb. It is comprised of lodgings for them and also workrooms and warehouses to prepare ritual offering for the dead King or Queen. In the early Joseon dynasty, the NaInGaGa was utilized until a funeral at the royal tomb. Since 1674, NaInGaGa for the 3 years-period lamentation was started constructing separately. At these processes, the plan and placement of NaInGaGa was changed. This study based on the SanReungDoGam-EuiGwae (山陵都監-儀軌: The report on constructing royal tomb). The SanReungDoGam-EuiGwae written since 1800 have illustration about NaInGaGa. The illustration and explanation about NaInGaGa become a important clue that make suppose detailed space of NaInGaGa.

• Proceedings of the Korean Ceranic Society Conference
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• 2000.04a
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• pp.148-148
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• 2000

• Electronics and Telecommunications Trends
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• v.26 no.4
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• pp.105-114
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• 2011

이동통신 및 위성통신 분야에 있어서 무선통신기술은 무선환경에서 신호를 보내고 받는 기능을 수행하는 중요한 분야이다. 이러한 무선통신 분야에서 송수신단을 구성하는 송수신 부품은 RF 시스템의 성능을 좌우한다. 특히, 위성통신 분야에서 신뢰성을 획득하기 위해서는 고집적화와 소형화를 통한 경쟁력 확보가 필수적인데 이를 위한 기술이 MMIC이다. MMIC 기술이란 반도체 공정을 이용하여 RF 부품을 설계하고 제작하는 기술로써 본 고에서는 MMIC 기술 소개와 이동통신 및 위성분야에서의 MMIC 기술 동향과 개발 현황, 앞으로의 전망을 개괄적으로 서술하고자 한다.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2005.05a
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• pp.234-234
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• 2005

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2009.04b
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• pp.21-22
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• 2009

We proposed circular AlGaN/GaN schottky barrier diode, which has no mesa structure near the current path. Proposed device showed low leakage current of 10 nA/mm at -100 V while that of the rectangular device was 34 nA/mm at the same condition. Proposed circular AlGaN/GaN SBD showed high forward current of 88.61 mA at 3.5 V while that of the conventional device was 14.1 mA at the same condition.

• Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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• v.22 no.9
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• pp.751-755
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• 2009

We proposed circular AlGaN/GaN schottky barrier diode, which has no mesa structure near the current path. Proposed device showed low leakage current of 10 nA/mm at -100 V while that of the rectangular device was 34 nA/mm at the same condition. Proposed circular AIGaN/GaN SBD showed high forward current of 88.61 mA at 3,5 V while that of the conventional device was 14.1 mA at the same condition.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2000.02a
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• pp.116-116
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• 2000

질화물 반도체는 LED, LD, Transistor, 그리고 Photodetector 등 광소자 및 전자소자를 실현할 수 있는 소재로써 최근에 각광 받고 있으며, 또한 국·내외적으로 연구가 활발히 진행되고 잇다. 질화물 발광 다이오드 제작에는 소자의 효율과 수명시간의 향상을 위하여 질화물 반도체와 금속과의 접합시 고 품질의 오믹 접합이 필수적이다. 특히 p-형 GaN의 경우에는 높은 정공 농도를 갖는 p-형 GaN를 얻기가 어렵고 GaN의 일함수에 비하여 높은 일함수를 갖는 금속이 없기 때문에 매우 낮은 접합 저항을 가지며 안정성이 매우 우수한 금 접합을 얻기가 어렵다고 알려져 있다. 또한, GaN 계열의 발광 다이오드는 일반적으로 표면 발광 다이오드 형태로 제작되기 때문에 p-형 GaN 층의 오믹 접촉으로 사용되는 금속의 전기적 특성뿐만 아니라 발광 다이오드의 활성층에서 발광되어 나오는 빛에 대한 투과도 또한 우수하여야 발광 다이오드의 효율이 우수해진다. 본 연구에서는 p-형 GaN층의 접합 금속으로 Pt(80nm)과 Ni(5nm)/Au(7nm)를 사용하여 InGaN/GaN 다중양자우물 구조의 발광 다이오드를 제작하여 전기적 특성 및 발광효율을 측정하였다. 그리고, Pt(80nm)과 p-형 GaN와의 접합시 온도 변화에 따른 전기적 특성을 TLM 방법으로 조사하고, 가시광선 영역에서의 빛에 대한 투과도를 UV/VIS spectrometer, X-ray reflectivity, 그리고 Atomic Force Microscopy 등을 이용하여 분석하였다.