The experiment investigated the possibility of using effluent from RUSITEC (rumen simulation technique) inoculated with rumen liquor or cow faeces as sources of micro-organisms for in vitro digestion of forages. Nine forages ${\times}3$ sources of inoculum were used in a factorial arrangement of treatments. Rumen liquor was collected from fistulated sheep and faeces was collected from cows. The RUSITEC apparatus consisted of 4 vessels, 2 vessels were charged with faecal liquor and 2 with rumen liquor. On the 8th day of the experiment RUSITEC effluent were collected to use in in vitro studies. In vitro OMD (g/kg) values using three sources of inoculum (fresh rumen liquor, RUSITEC effluent from rumen liquor or cow faeces) were statistically significant (p < 0.001). The regression relationships between OMD using fresh rumen liquor and RUSITEC effluent were highly significant ($R^2>0.90$). The results suggest that RUSITEC effluent either from rumen liquor or cow faeces can be used as a source of micro-organisms for in vitro digestion of forages.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제6권4호
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pp.135-139
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2005
In this paper, negative SU-8 photoresist processed at low temperature is characterized in terms of delamination. Based on a $3^3$ factorial designed experiment, 27 samples are fabricated, and the degree of delamination is measured for each. In addition, nine samples are fabricated for the purpose of verification. Employing the. neural network modeling technique, a process model is established, and response surfaces are generated to investigate degree of delamination associated with three process parameters: post exposure bake (PEB) temperature, PEB time, and exposure energy. From the response surfaces generated, two significant parameters associated with delamination are identified, and their effects on delamination are analyzed. Higher PEB temperature at a fixed PEB time results in a greater degree of delamination. In addition, a higher dose of exposure energy lowers the temperature at which the delamination begins and also results in a larger degree of delamination. These results identify acceptable ranges of the three process variables to avoid delamination of SU-8 film, which in turn might lead to potential defects in MEMS device fabrication.
Effects of Zn, P and Fe on Cd uptake and accumulations by tomato (Lycopersicum esculentum Mill) and also their interactions on the uptake of Zn, Fe, Mn, P and Cd were investigated using batch type solution culture technique. Experiment 1 was a factorial scheme with 3 levels of Zn (0, 0.5, 2.5 ppm) and 3 levels of Cd (0, 0.2, 1.0 ppm). At 1.0 ppm Cd, significant yield reduction of dry matter and visual toxicity symptoms (yellowing and necrosis) of Cd was observed for all zinc levels. At this Cd level, increasing Zn treatment from 0 to 2.5 ppm increased Cd concentration from 199 to 235 ppm in leaves and from 124 to 145 ppm in stems. Similarly, Cd treatment did not suppress Zn uptake in leaves, and rather significantly increased in stems. Fe concentrations in leaves and stems were significantly reduced due to Cd treatment while Mn were increased by both Zn and Cd treatment. The results of experiment 2 with 3 levels of P (0.5, 2.0, 4.0m Mol) and 3 levels of Cd (0, 1.0, 2.0 ppm) in a factorial scheme also showed a growth reduction and visual toxic symptons from 1.0 ppm Cd level. Increasing P treatment tend to increase Cd concentrations in leaves and stems although it was not statistically significant. Increasing P concentration due to Cd treatment could be the 'concentration' effect as a result of reduced growth, while there was significant decrease in Fe concentration due to Cd treatment in spite of possible 'concentration' effect. Mn concentration was increased at 1.0 ppm Cd level and then dropped at 2.0 ppm Cd level. Zu concentration in leaves and stems showed significant increase as Cd treatment increased as observed in experiment 1. Experiment 3 had 3 levels of Fe (0.5, 1.0, 2.0 ppm) and 3 levels of Cd (0, 0.8, 1.6 ppm) treatments in a factorial design. Significant growth reduction and visual toxic symptoms as observed in experiment 1 and 2 were also observed from 0.8 ppm Cd level. Increasing Fe treatment obviously alleviated toxic symptoms, improved growth and significantly increased dry matter yield. At 0.8 ppm Cd treatment level, increasing Fe treatment from 0.5 to 2.0 ppm significantly decreased Cd concentration from 141 to 92 ppm in leaves and from 101 to 46 ppm in stems. At 1.6 ppm Cd treatment level the decrease was from 224 to 167 ppm in leaves and from 124 to 109 ppm in stems. As in the case of experiment 1 and 2, Fe concentration in leaves and stems were reduced as Cd treatment increased to 1.6 ppm at 0.5 and 1. 0 Fe treatment levels, whereas at 2.0 ppm Fe level, Cd treatment increased Fe concentration in leaves and stems showing significant interactions of Fe and Cd on Fe uptake. Cd effect on Zn and Mn showed similar results to experiment 1 and 2 and Fe treatments reduced Zn and Mn concentrations in plant tissue. The results of 3 experiments show that P and Zn did not manifest suppressive effect on Cd uptake, Fe significantly demonstrated it. Fe also alleviated Cd toxicity symptoms significantly in terms of visual symptoms and dry matter yield. Visual toxicity symptoms were definitely related to Fe status in plant tissue as well as possible physiological effect of Cd itself, and the results suggest that Fe requirement for normal growth increase as Cd element is present in plant tissue. Zn accumulated more in stems than in leaves whereas Cd, Fe and Mn showed the opposite trend in all experiments.
In this study, an empirical relationship between the energy band gap of multi-walled carbon nanotubes (MWCNTs) and synthesis parameters in a chemical vapor deposition (CVD) reactor using factorial design of experiment was established. A bimetallic (Fe-Ni) catalyst supported on $CaCO_3$ was synthesized via wet impregnation technique and used for MWCNT growth. The effects of synthesis parameters such as temperature, time, acetylene flow rate, and argon carrier gas flow rate on the MWCNTs energy gap, yield, and aspect ratio were investigated. The as-prepared supported bimetallic catalyst and the MWCNTs were characterized for their morphologies, microstructures, elemental composition, thermal profiles and surface areas by high-resolution scanning electron microscope, high resolution transmission electron microscope, energy dispersive X-ray spectroscopy, thermal gravimetry analysis and Brunauer-Emmett-Teller. A regression model was developed to establish the relationship between band gap energy, MWCNTs yield and aspect ratio. The results revealed that the optimum conditions to obtain high yield and quality MWCNTs of 159.9% were: temperature ($700^{\circ}C$), time (55 min), argon flow rate ($230.37mL\;min^{-1}$) and acetylene flow rate ($150mL\;min^{-1}$) respectively. The developed regression models demonstrated that the estimated values for the three response variables; energy gap, yield and aspect ratio, were 0.246 eV, 557.64 and 0.82. The regression models showed that the energy band gap, yield, and aspect ratio of the MWCNTs were largely influenced by the synthesis parameters and can be controlled in a CVD reactor.
본 연구에서는 액상에서 EGBE, DGBE, DBM, TGME의 효율적인 분석을 위해 이용되던 액상추출법을 대신할 수 있는 방법으로 GC/FID를 이용한 SPME법 실험 연구를 진행하였다. 그리고 실험계획법(DOE)을 사용하여 EGBE를 포함한 디젤첨가제 미량분석의 최적조건을 설명하였다. 실험은 통계분석결과 뿐만 아니라 요인 수의 최적화에 따른 중심합성설계에 의한 완전요인 설계법을 사용하였다. 반응표면분석은 추출 효율이 주 영향인 염농도, 흡착 온도, 흡착 시간과 sonication 시간에 따른 2차 다항식에 의해 설명될 수 있음을 보여주었다. 실험계획법(DOE)을 사용하는 것은 액상 시료에서 디젤첨가제의 정량분석을 개선하는 자료분석법이 될 것이다.
A new technique is presented to construct predictive models of plasma etch processes. This was accomplished by combining a backpropagation neural network (BPNN) and a random generator (RC). The RG played a critical role to control neuron gradients in the hidden layer, The predictive model constructed in this way is referred to as a randomized BPNN (RG-BPNN). The proposed scheme was evaluated with a set of experimental plasma etch process data. The etch process was characterized by a 2$^3$ full factorial experiment. The etch responses modeled are 4, including aluminum (Al) etch rate, profile angle, Al selectivity, and do bias. Additional test data were prepared to evaluate model appropriateness. The performance of RC-BPNN was evaluated as a function of the number of hidden neurons and the range of gradient. for given range and hidden neurons, 100 sets of random neuron gradients were generated and among them one best set was selected for evaluation. Compared to the conventional BPNN, the proposed RC-BPNN demonstrated about 50% improvements in all comparisons. This illustrates that the RG-BPNN of multi-valued gradients is an effective way to considerably improve the predictive ability of current BPNN of single-valued gradient.
A new model of plasma etch process was constructed by using a radial basis function network (RBFN). This technique was applied to an etching of silicon carbide films in a NF$_3$ inductively coupled plasma. Experimental data to train RBFN were systematically collected by means of a 2$^4$ full factorial experiment. Appropriateness of prediction models was tested with test data consisted of 16 experiments not pertaining to the training data. Prediction performance was optimized with variations in three training factors, the number of pattern units, width of radial basis function, and initial weight distribution between the pattern and output layers. The etch responses to model were an etch rate and a surface roughness measured by atomic force microscopy. Optimized models had the root mean-squared errors of 26.1 nm/min and 0.103 nm for the etch rate and surface roughness, respectively. Compared to statistical regression models, RBFN models demonstrated an improvement of more than 20 % and 50 % for the etch rate and surface roughness, respectively. It is therefore expected that RBFN can be effectively used to construct prediction models of plasma processes.
Slot-die coating is well known technique to guarantee a uniformly coated layer and is compatible with roll-to-roll process. In actual roll-to-roll slot-die coating process, the lateral difference of coated layer thickness is observed. An experimental study was performed to improve the coating quality. Coating speed and coating gap were selected as the experimental factors. A full factorial, statistical method was conducted to optimize the process conditions. Based on the results of repeated experiment, the lowest deviation of lateral thickness (700 nm, <10%) was achieved at 10 m/min coating speed and $300{\mu}m$ coating gap. This result has significance because such optimized process guideline can be utilized with all process improvement in various coating applications.
This study examined the use of LIT (lock-in infrared thermography) to detect defects in the welded parts of ships and offshore structures. A quantitative analysis was used with the filtering and texture measurement of image processing techniques to find the optimized experimental condition. We verified the reliability of our methods by applying image processing techniques in order to normalize the evaluations of comparative images that showed a phase difference. In addition, it was found that a low to mid-range intensity of light exposure on the surface showed good results, whereas high exposure did not provide significant results. A lock-in frequency of around 0.1 Hz was satisfactory regardless of the intensity of the light source. In addition, making the integration time of the thermography camera inversely proportional to the intensity of the exposed light source during the experiment provided good results.
NIL (nanoimprint lithography) technique has demonstrated a high potential for wafer size definition of nanometer as well as micrometer size patterns. During the replication process by NIL, the stiction between the stamp and the polymer is one of major problems. This stiction problem is moi·e important in small sized patterns. An antistiction layer prevents this stiction ana insures a clean demolding process. In this paper, we were using a TCP (transfer coupled plasma) equipment and $C_4F_8$ as a precursor to make a Teflon-like antistiction layer. This antistiction layer was deposited on a 6 inch silicon wafer to have nanometer scale thicknesses. The thickness of deposited antistiction layer was measured by ellipsometry. To optimize the process factor such as table height (TH), substrate temperature (ST), working pressure (WP) and plasma power (PP), we were using a design of experimental (DOE) method. The table of full factorial arrays was set by the 4 factors and 2 levels. Using this table, experiments were organized to achieve 2 responses such as deposition rate and non-uniformity. It was investigated that the main effects and interaction effects between parameters. Deposition rate was in proportion to table height, working pressure and plasma power. Non-uniformity was in proportion to substrate temperature and working pressure. Using a response optimization, we were able to get the optimized deposition condition at desired deposition rate and an experimental deposition rate showed similar results.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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