• 제목/요약/키워드: Error tolerance of beam pattern

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Monte-Carlo 방법에 의한 소나배열 소자의 허용오차 규정 (Decision of Error Tolerance in Sonar Array by the Monte-Carlo Method)

  • 김형동;이용범;이준영
    • 한국음향학회지
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    • 제21권3호
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    • pp.221-229
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    • 2002
  • 본 논문에서는 Monte-Carlo 방법으로 빔패턴 오차의 허용범위를 만족하는 개별소자의 허용오차를 규정하였다. 일반적으로 사용되는 통계적인 방법은 불규칙한 특성을 갖는 랜덤오차를 정규분포를 갖는 랜덤 변수로 모델링을 하여 개별소자의 오차범위를 규정하는데, 이러한 방법은 해석하고자 하는 배열소자의 개수증가에 따라 계산량이 지수승으로 늘어나게 되어 많은 소자배열에는 적합하지 않게 된다. 이러한 단점을 보완하기 위해서 이 논문에서는 Monte-Carlo 방법을 사용하여 배열소자의 증가에 따른 계산량의 증가를 줄이는 새로운 알고리즘을 제안하였다. 그리고 이렇게 규정된 오차의 범위를 간단한 모의실험을 통해서 검증하였다.

유전자 알고리즘에 의한 소나 배열 소자의 허용오차 분석 (Analysis of Error Tolerance in Sonar Array by the Genetic Algorithm)

  • 양수화;김형동
    • 한국음향학회지
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    • 제22권6호
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    • pp.496-504
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    • 2003
  • 본 논문에서는 유전자 알고리즘을 이용하여 빔 패턴 오차의 허용범위를 만족하는 개별소자의 허용오차를 분석하였다. 기존의 수치적 통계방법은 배열소자의 개수증가에 따라 계산량이 증가하는 문제점이 있고 이를 보완하기 위해 제안된 Monte-Carlo 방법은 낮은 정밀도와 빔 패턴 합성으로의 확장이 어렵다는 한계점을 가지고 있어 본 논문에서는 이러한 단점을 극복하기 위해 유전자 알고리즘을 이용한 소나 배열 소자의 허용오차 분석법을 제안하였다. 제안된 알고리즘을 이용하여 1차원과 2차원 배열에서 주어진 빔 패턴 오차 허용범위를 만족하는 각 소자별 허용오차 범위를 분석하였고 모의실험을 통하여 소나 배열 소자의 허용오차 범위가 타당함을 검증하였다.

Diffractive Optical Element for Noise-reduced Beam Shaping of Multi-array Point Light Source

  • Lee, Jonghyun;Hahn, Joonku;Kim, Hwi
    • Current Optics and Photonics
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    • 제5권5호
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    • pp.506-513
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    • 2021
  • An arrayed diffractive optical element design for the beam-shaping of a multi-array light source is proposed. This is an essential device for recent optical security and face recognition applications. In practice, we devise a DC noise reduction technique featuring high fabrication error tolerance regarding the multi-array light source diffractive optical elements, as a necessary part of the proposed design method. The spherical diverging illumination leads to DC-conjugate noise spreading. The main idea is tested experimentally, and the multi-array light source diffraction pattern is investigated numerically.