Polyamide 66 (PA66) nanofibers with Triallyl cyanurate (TAC) were obtained by electrospinning of formic acid and chloroform solution. Electron beam irradiation of PA66 nanofiber with and without TAC was carried out over a range of absorbed doses (20~100 kGy) in nitrogen. The characterization of the irradiated PA66 nanofibers and PA66 nanofibers with TAC was done by scanning electron microscopy (SEM), nuclear magnetic resonance (NMR), thermogravimetric analysis (TGA) and universal testing machine (UTM). The results of the SEM image analysis confirmed that the morphology of PA66 nanofibers was not altered by electron beam. The amount of TAC in PA66 nanofiber with TAC was identified by $^1H-NMR$ analysis. The degradation temperature of PA66 nanofibers with TAC at an absorbed dose of 20~100 kGy was higher than the irradiated PA66 nanofiber without TAC. On the other hand, the decreasing rate of modulus of irradiated PA66 nanofibers with TAC was less than PA66 nanofibers.
In this study, we fabricated effect of storage conditions on graft of polypropylene (PP) non-woven fabric induced by electron beam. The electron beam irradiations on PP non-woven fabric were carried out over a range of irradiation doses from 25 to 100 kGy to make free radicals on fabric surface. The radical measurement was established by electron spin resonance (ESR) for confirming the changes of the alkyl radical and peroxy radical according to effect of storage time, storage temperature and atmosphere. It was observed that the free radicals were increased with irradiation dose and decreased with storage time due to the continuous oxidation. However, the radical extinction was significantly delayed due to reduced mobility of radicals at extremely low temperature. The degree of graft based on the analysis of ESR was investigated. The conditions of graft reaction were set at a temperature: $60^{\circ}C$, reaction time: 6 hours and styrene monomer concentration: 20 wt%.
In this paper, a two-dimensional electron beam dose calculational algorithm implented for use in a two-dimensional radiation therapy planning system is described. The 2-D electron beam calculations have been in use clinically for a few decades. Our algorithm uses Age-diffusion model based int the Boltzman Transport Equation. Our implementation provides convenient user interface associated with electron beam therapy planning and displays radiation dose distribution according to different electron energy on patient images.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.3
no.3
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pp.1-7
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2002
The developed patterns by direct writing of electron beam are measured by AFM, FESEM and optical profiler of WYKO NT3300. From different measurement methods, the measured linewidths of the patterns are shown a little bit wider than designed pattern size due to electrons scattering effect during direct writing of electron beam. The optimized conditions of these experiments are suggested and explained for the forming of structures below 0.1 ㎛ dimension size. Because of electron scattering effects from the different under layers such as Si, Si$_3$N$_4$ and aluminum, the developed pattern size is also influenced by the accelerated energy of electrons, dose, resist and soft and hard bake conditions in PMMA. The distributions of electron beam and calculations of backscattering coefficient are demonstrated by Monte Carlo simulation. From the measured results, the developed linewidth of PMMA/Al /silicon is shown a little bit wider than that of PMMA/Si$_3$N$_4$/silicon structure due to the backscattering effects.
Kim, Sangroh;Jason W. Sohn;Cho, Byung-Chul;Suh, Tae-Suk;Choe, Bo-Yong;Lee, Hyoung-Koo
Proceedings of the Korean Society of Medical Physics Conference
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2002.09a
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pp.113-115
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2002
The Monte Carlo simulation method is a numerical solution to a problem that models objects interacting with other objects or their environment based upon simple object-object or object-environment relationships. In spite of its great accuracy, It was turned away because of long calculation time to simulate a model. But, it is used to simulate a linear accelerator frequently with the advance of computer technology. To simulate linear accelerator in Monte Carlo simulations, there are many parameters needed to input to Monte Carlo code. These data can be supported by a linear accelerator manufacturer. Although the model of a linear accelerator is the same, a different characteristic property can be found. Thus, we performed a commissioning process of 6MV photon beam in Varian 2300C/D model with BEAM/EGS4 Monte Carlo code. The head geometry data were put into BEAM/EGS4 data. The mean energy and energy spread of the electron beam incident on the target were varied to match Monte Carlo simulations to measurements. TLDs (thermoluminescent dosimeter) and radiochromic films were employed to measure the absorbed dose in a water phantom. Beam profile was obtained in 40cm${\times}$40cm field size and Depth dose was in 10cm${\times}$10cm. At first, we compared the depth dose between measurements and Monte Carlo simulations varying the mean energy of an incident electron beam. Then, we compared the beam profile with adjusting the beam radius of the incident electron beam in Monte Carlo simulation. The results were found that the optimal mean energy was 6MV and beam radius of 0.1mm was well matched to measurements.
Kim, Dong-In;Lee, Ho-Jin;Ahn, Dong-Gyu;Kim, Jin-Seok;Kang, Eun Goo
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.33
no.11
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pp.951-959
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2016
The aim of this paper is to investigate the improvement of surface characteristics of Stellite21 deposited layer by powder feeding type of direct energy deposition (DED) process using a plasma electron beam. Re-melting experiments of the deposited specimen is performed using a three-dimensional finishing system with a plasma electron beam. The acceleration voltage and the travel speed of the electron beam are chosen as process parameters. The effects of the process parameters on the surface roughness and the hardness of the re-melted region are examined. The formation of the re-melted region is observed using an optical microscope. Results of these experiments revealed that the re-melting process using a plasma electron beam can greatly improve the surface qualities of the Stellite21 deposited layer by the DED process.
The effect of electron beam irradiation on dye sensitized solar cell (DSSC) has been studied to examine degradation of DSSC. The high-energy electron beam irradiation affects on the materials and performance of dye sensitized solar cells. We have checked the effects of electron beam irradiation of $TiO_2$ substrate with and without dye adsorption on the photovoltaic performances of resulting DSSCS and also studied the structural and electrical properties of polymers after irradiation. All solar cells materials were irradiated by electron beams with an energy source of 2MeV at different dose rates of 60 kGy, 120 kGy 240 kGy and 900 kGy and then their photoelectrical parameters were measured at 1 sun $(100 mW/cm^2)$. It was shown that the efficiency of DSSC was decreased as increasing the dose of e-beam irradiation due to lowering in $TiO_2$ crystallinity, decomposition of dye and oxidation of FTO glasses. On the other hand, the performance of solid-state DSSC with polyethylene oxide based electrolyte was improved after irradiation of e-beam due to enhancement of its conductivity and breakage of crosslinking.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.407-408
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2013
Thin transparent conductive oxides (TCOs) having a thickness lower than 30 nm have been widely usedin touch screen panels. However the resistivity of the TCO films significantly increases as the thickness decreases, due to the poor crystallinity at very thin thickness of TCO films. In this study, we have investigated the effect of electron beam irradiation during the sputtering on the electrical properties and transmittance of 30 nm-thick ITO films, which have a different SnO2 atomic percent, prepared by magnetron sputtering at room temperature. Fig. 1 shows the variation of resistivity of ITO films with a different SnO2 atomic percent for both the normal ITO films and electron beam irradiated ITO films. As shows in Fig. 1, the electron beam irradiation to the ITO (SnO2 weight percent 10%) films during the sputtering resulted in a significantly decreased in resistivity from $7.4{\times}10^{-4}{\Omega}-cm$ to $1.5{\times}10^{-4}{\Omega}-cm$ and it also increased in transmittance from 84% to 88% at a wavelength of 550 nm. These results can be attributed to energy transfer from electron to ad-atoms of ITO films during the electron beam irradiated sputtering, which can enhance the crystallinity of 30 nm-thick ITO films. It is strongly indicate that electron beam irradiation can greatly improve the electrical properties and transmittance of very thin ITO films for touch screen panels, flexible displays and solar cells.
This study aimed to measure, quantitatively evaluate, and set the criteria for the minimum lead(Pb) shield thickness per level of clinically applied electron beam energy. The lead shield thickness per electron beam energy was measured using the primary field 95% reduction based on the open field at the depth of maximum dose (dmax) and depth from the surface as the reference depth of tissue dose(10 mm). The measured values were 1.906 mmPb and 1.992 mmPb at the dmax and 10 mm, respectively, regarding the lead shield thickness for 6 MeV electron beam; 2.746 mmPb and 3.743 mmPb for 9 MeV electron beam, 3.718 mmPb and 6.093 mmPb for 12 MeV electron beam, 7.300 mmPb and 15.270 mmPb for 16 MeV electron beam, and 16.825 mmPb and 25.090 mmPb for 20 MeV electron beam. Consequently, a thicker lead shield was required if the measurement was at 10 mm. The required lead shield thickness was also higher than that of the theoretical formula for electron beams of ≥ 16 MeV.
Experimental measurements of dose characteristics with pentagonal applicator at nominal energy of 4, 6, 9, 12 and 15 MeV electron beam were performed for intraoperative radiotherapy (IORT) in ML-15MDX linear accelerator. This paper presents the percent depth dose, surface dose, beam flatness and output factors of using the IORT applicator in different electron beam energy. The output factor showed as a 24 percent higher in IORT applicator than that of reference $10{\times}10cm^2$ applicator. The surface dose of using the IORT applicator showed 7.7 and 2.7 percent higher than that of reference field in 4 and 15 MeV electron beam, respectively. In our experiments, the variation of percent depth dose was very small but the output factor and flatnees at 0.5 cm depth have showed a large value in IORT applicator.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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