Modeling and Simulation of Electron-beam Lithography Process for Nano-pattern Designs using ZEP520 Photoresist (ZEP520 포토리지스트를 이용한 나노 패턴 형성을 위한 전자빔 리소그래피 공정 모델링 및 시뮬레이션)
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- Journal of the Semiconductor & Display Technology
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- v.6 no.3
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- pp.25-33
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- 2007