본 시험은 왕겨에 의한 사료의 희석과 무급여일 설정방법에 의한 조기제한사양이 육계의 보상성장과 사료효율 및 체지방 축적에 미치는 영향을 구명하기 위해 7일령된 무감별 육계 300수를 5처리 3반복, 반복당 20수씩 공시하여 7일령에서부터 49일령까지 실시하였다. 대조구(C)는 7일령부터 49일령까지 전기간 육계 전기사료와 후기사료를 자유채식을 시켰으며, 시험구(71-74)들은 모두 7일령부터 14일령까지 육계전기사료와 왕겨를 50:50(wt/wt)으로 혼합한 희석사료를 급여하였으며, 제한사양기간동안 T1은 희석사료를 자유채식시켰으며, T2는 1일절식-3일급여, T3는 1일절식∼2일급여 및 T4는 1일절식∼1일급여하였고, 제한 사양이 끝난 시험구들은 전기사료 및 후기사료를 자유채식시켰다. 제한사양기간을 포함한 21일령까지의 증체량과 21일령 체중 모두 T1은 대조구와 유의적 차이가 없었으나 다른 시험구들은 대조구보다 적었다(P<0.05). 22일령부터 49일령가지의 증체량은 T1구가 대조구와 유의적인 차이는 없었으나 가장 높은 증체를 보였다. 전기간인 7일령부터 49일령 까지의 증체량과 49일령 체중도 T1구만 대조구와 유의적인 차이가 없었고 다른 시험구들은 대조구보다 적었다(P<0.05) .제한사양후부터 21일령까지의 사료섭취량은 T1구를 제외한 나머지 시험구에서는 대조구에 비해 유의적으로 적었으며 (P<0.05) , 전기간 셥취량도 T1구만 대조구와 유의적인 차이를 보이지 않았으나, 희석사료섭취기간의 왕겨섭취량을 제외한 육계사료 섭취량에서는 모든 시험구들이 대조구에 비해 유의적으로 적게 섭취하였다(P<0.05) 제한사양기간을 포함한 7일령부터 21일령까지의 사료요구율은 T1구와 T2구가 대조구에 비해 유의적으로 높았으며(P<0.05), 22일령부터 49일령가지의 사료요구율은 대조구에 비해 모든 시험구들이 유의적으로 낮았으며(P<0.05), 전기간동안의 사료요구율은 T1구를 제외한 나머지 시험구들은 대조구에 비해서 유의적으로 낮았으나(P<0.05) , 희석사료섭취기간의 왕겨섭취 량을 제외 한 육계 사료요구율은 대조구에 비해서 모든 시험구들이 유의적으로 낮거나(P<0. 05) 낮아지는 경향을 보였다. 복강내 지방함량 및 전기간 폐사율은 처리간에 유의적 차이가 없었다.
카제인 8%, 13% , 18% 수준의 동열량 함유 식이를 8%를 기준으로 하여 1일동일 열량 섭취하도록 급식시킨 이유쥐의 성장, 지방축적, 에너지 소비를 관찰하였다. 30일 급식시켰을 때 낮은 수준의 단백식이 (8%)군의 몸무게는 높은 수준(18%)의 단백섭취군 보다 43.01g더 가벼운 것으로 나타났다(최종 몸무게증가 ; ${85.57}{\pm}{7.5g}$ 대 ${128.58}{\pm}{11.64g}$, p<0.001). 도살체당 지방축적량은 8%단백식이군의 작은 몸의 크기에도 불구하고, 13%,18% 단백식이군과 비교할 때 차이를 보이지 않았다. 이와 반대로, 체질소 함량은 13%와 18% 단백식 군들이 8% 보다 훨씬 높았다. 총 실험기간(32일)동안 8%, 13%, 18%군의 에너지 소비는 각기 4,576.61kJ, 5,440.80kJ, 5,6067.67kJ로 추정되었다. 낮은 수준의 단백 식이군이 섭취한 과다에너지는 손실된 것으로 보인다. 간세포의 malic enzyme활성은 식이변화에 따라 변동이 없는 것으로 나타났다. 이러한 실험결과들로 부터, 낮은수준의 단백식이의 성장지연은 성장에 필요한 열량부족에서 온 것이 아니라, 질소공급의 부족에서 초래된 것이며, 단백질 급여 제한은, 에너지 섭취를 같게한 고단백군들과 비교할 때, 지방이외 무게는 감소시키는 반면, 체지방 합성과 축적능력에는 영향을 미치지 않는다는 결론을 얻었다.
The present review was aimed to assess the feasibility of increasing the slaughter weight (SW) of finishing pigs. Growth performance, including ADG, ADFI and gain:feed, does not change significantly with increasing SW between 110 and $135{\pm}5kg$ in lean-genotype pigs, whereas in non-lean pigs, ADG and gain:feed decrease with increasing SW within the similar range of BW. Backfat thickness (BFT) and marbling of the carcass, which are greater in barrows than in gilts, increase with the increase of SW. The SW could be increased by using a low-energy diet and thereby reducing the rate of fat deposition per weight gain. The yield of the belly increases with the increase of SW, which may be economically significant in Korea. However, yields of some other primal cuts do not change so much as to affect the carcass value. The redness and fat content of the muscle increase slightly with the increase of SW whereas moisture content is minimally influenced by SW. Muscular protein content rarely changes, but sometimes increases slightly, with increasing SW. Other physicochemical characteristics, including lightness, pH, drip loss, and cooking loss of the muscle, are barely influenced by SW. Marbling of fresh loin and ham increases with increasing SW. Sensory characteristics of fresh loin, ham, and belly, including color, aroma, off-flavor, drip, and acceptability, are not influenced significantly by SW. The eating quality of cooked pork also has almost no relation to SW. In conclusion, it is thought that the current SW for moderately lean barrows and gilts can be raised up to 125 and 135 kg, respectively, with BFT at these weights predicted to be approximately 24 mm near the last rib, without compromising the meat quality.
Nitride films such as TiN, CrN etc. deposited on glass by PVD processes have been developed for many industrial applications. These nitride films deposited on glass were widely used for not only decorative and optical coatings but also wear and corrosion resistance coatings employed as dies and molds made of glass for the example of lens forming molds. However, the major problem of nitride coatings on glass by PVD process is non-uniform film owing to pin-hole and micro crack. It is estimated that nonuniform coating is influenced by a different surface energy between metal nitrides and glass due to binding states. In this work, therefore, for the evaluation of nucleation and growth mechanism of nitride films on glass TiN and CrN film were synthesized on glass with various nitrogen partial pressure by unbalanced magnetron sputtering. Prior to deposition, for the examination of relationship between surface energy and film microstructure plasma pre-treatment process was carried out with various argon to hydrogen flow rate and substrate bias voltage, duty cycle and frequency by using pulsed DC power supply. Surface energy owing to the different plasma pre-treatment was calculated by the measurement of wetting angle and surface conditions of glass were investigated by X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS) and Atomic Force Microscope(AFM). The microstructure change of nitride films on glass with increase of film thickness were analyzed by X-Ray Diffraction(XRD) and Scanning Electron Microscopy(SEM).
APCVD에 의한 $SnO_2(:F)$ 박막 형성시 HF와 $H_2O$량의 변화에 따른 증착 조건이 전기적, 광학적 특성 그리고 textured $SnO_2(:F)$ 박막의 표면형상에 미치는 영향을 관찰하였다. HF의 bubbling량이 0.9 slm 이상일 경우에는 전자농도(electron concentration)가 $3{\Times}10^{20}/cm^3$에 도달 하였으며, 비저항값은 $7{\Times}10^4~9{\Times}10^4{Omega}cm$ 범위이었고, mobility 값은 $18~25 cm^{-2}/V.sec$이었다. 결정 grain의 형태는$H_2O$를 첨가시키지 않으며 증착시킨 경우 끝이 뾰족한 예각을 가진 pyramid 형태였으며, $H_2O$를 첨가시키며 증착시킨 경우에는 끝이 둥근 hemispherical 형이었다.
본 연구에서는 전해증착법과 열처리를 통하여 ITO 투명전극 위에 고밀도의 ZnO 막대구조를 형성하는 방법을 조사하였다. 증착과정에서 $Zn(OH)_2$와 ZnO가 함께 형성되는 것을 고려할 때 전기화학적 ZnO 증착효율은 33% 이하를 나타내었다. $500^{\circ}C$ 열처리 후 ZnO는 (002)를 선택적으로 갖는 결정구조를 형성하며, 나노막대 구조의 성장속도는 0.986 ${\mu}m/hr$로 측정되었다. 그리고 전기화학적으로 제조한 ZnO 막대를 염료감응 태양전지의 전극으로 사용시 측정된 전지효율은 0.21%로서 태양전지용 전극으로서의 가능성을 확인하였다.
Zhang, Yakun;Li, Jianling;Kang, Feiyu;Wang, Xindong;Ye, Feng;Yang, Jun
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제33권6호
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pp.1972-1978
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2012
The polymer of (2,2-dimethyl-1,3-propanediaminebis(salicylideneaminato))-nickel(II), Ni(saldMp), was deposited on multi-walled carbon nanotubes (MWCNTs) substrate by the route of potential linear sweep. The nano structures of poly[Ni(saldMp)] have been obtained by adjusting the monomer concentration of 0.1, 0.2, 0.5, 1.0 and 1.5 mmol $L^{-1}$. The poly[Ni(saldMp)] prepared in acetonitrile solution with monomer concentration of 1.0 mmol $L^{-1}$ shows the fastest growth rate. The effects of potential window on charge-discharge efficiency and electrodeposition scan number on capacitance performance were discussed. Poly[Ni(saldMp)] prepared with less electrodeposition scans exhibits higher capacitance, but this goes against the improvement of the whole electrode capacitance. Sample with 8 deposition scans is the best compromise with the geometric specific capacitance 3.53 times as high as that of pure MWCNTs, and 1.24 times for the gravimetric specific capacitance under the test potential window 0.0-1.0 V.
(hfac) Cu(1,5-COD)(1,1,1,5,5,5-hexafluro-2,4-pentadionato Cu(I) 1,5-cyclooctadine) 증착원을 이용하여 MOCVD(metal organic chemical vapor deposition)로 Cu 박막을 형성시키고, MOCVD에 의한 TiN 기판 변화가 Cu 증착에 미치는 영향을 조사하였다. 공기 중에 노출시킨 기판은 MOCVD 에 의한 Cu 핵생성 및 초기성장에 영향을 미쳐 입자크기가 작고, 입자간의 연결성이 떨어졌으며, in-situ MOCVD Cu의 경우는 입자크기가 크고, 입자간의 연결성이 우수하여 1900$\AA$ 이상의 두께에서는 $2.0{\mu}{\Omega}-cm$ 정도의 낮은 비저항을 유지하였다. 또한 접착력에서는 in-situ MOCVD TiN 의 경우가 보다 우수하였다. 이와 같은 결과를 토대로 MOCVD Cu 성장단계를 제시하였다.
새로운 TiN 선구체인 TEMAT(tertrakis etylmethylamino titanium)과 암모니아를 이용하여 TiN 박막을 형성하였다. 단일 증착원으로 증착시킨 경우에는 $70~1050\AA$/min의 증착률을 얻을 수 있었으며 증착온도에 지배를 받았다. $275^{\circ}C$의 증착온도에서 $0.35\mu\textrm{m}$의 접촉창에서 약 90%의 도포성을 얻을 수 있었다. TEMAT에 암모니아를 첨가하였을 때 단일증착원에서 $3500~6000\mu\omega-cm$정도의 갑을 나타내던 비저상이 ~$800\mu\omega-cm$ 정도로 낮아졌으며 대기중 막의 안정성도 향상되었다. AES의 분석결과에서도 암모니아의 첨가로 현저한 산호와 탄소 함량의 감소를 나타내었다. 그러나 암모니아의 유량을 증가시킬수록 $0.5\mu\textrm{m}$ 접촉창에서 나타난 tiN 박막의 도포성은 감소하였고 이는 TEMAT와 암모니아의 기상 반응에의한 높은 첩착계수를 가진 중간 생성물의 형성에 의한 것으로 생각된다. 반응 부산물에 대한 분석은 QMS에 의해 이루어 졌으며 transamination 반응에 의한 TiN 증착 기구를 제시하였다. 추가적으로 XPS 분석으로 TEMAT와 암모니아의 반응에 의해 만들어지는 탄소는 금소기 탄소였으며 $\beta$-수소 반응이 transamination 반응과 경쟁적으로 일어남을 나타내었다.
고분자 전해질 연료전지(PEMFC)의 전극 열화에 대한 연구는 전극상에서 Pt의 입자 성장 및 활성면적 감소에 대한 연구가 대부분이다. 고분자막과 접해 있는 전극촉매 Pt의 열화는 고분자막 열화에 영향을 주는데, 이와 관련된 연구는 많지 않다. 본 연구에서는 전극촉매 열화 가속 시험 과정에서 열화된 Pt가 고분자막 내부에 석출되는 현상과 그 영향에 대해서 연구하였다. 백금 열화 속도를 가속화시키기 위해 전압 변화(0.6 V ↔ 0.9 V)를 30,000 사이클까지 반복했다. Cathode에 산소를 유입하면서 전압 변화 사이클을 반복했을 때 질소를 유입했을 때 보다 막 내부에 석출된 Pt의 양이 더 많았다. 전압 변화 사이클 횟수가 증가할수록 막 내부에 석출된 Pt의 양이 증가하였고, cathode에서 용해된 Pt가 anode 쪽으로 이동해 20,000 사이클에서는 막 내부에 전체적으로 균일한 분포를 보였다. 이와 같은 전극촉매 열화 가속 시험과정에서 고분자막의 수소투과 전류밀도는 거의 변하지 않아서, 석출된 Pt가 고분자막의 내구성에는 영향을 주지 않음을 확인하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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