• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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• pp.107-108
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• 2008

The spectacular development of AMLCDs, been made possible by a-Si:H technology, still faces two major drawbacks due to the intrinsic structure of a-Si:H, namely a low mobility and most important a shift of the transfer characteristics of the TFTs when submitted to bias stress. This has lead to strong research in the crystallization of a-Si:H films by laser and furnace annealing to produce polycrystalline silicon TFTs. While these devices show improved mobility and stability, they suffer from uniformity over large areas and increased cost. In the last decade we have focused on microcrystalline silicon (${\mu}c$-Si:H) for bottom gate TFTs, which can hopefully meet all the requirements for mass production of large area AMOLED displays [1,2]. In this presentation we will focus on the transfer of a deposition process based on the use of $SiF_4$-Ar-$H_2$ mixtures from a small area research laboratory reactor into an industrial gen 1 AKT reactor. We will first discuss on the optimization of the process conditions leading to fully crystallized films without any amorphous incubation layer, suitable for bottom gate TFTS, as well as on the use of plasma diagnostics to increase the deposition rate up to 0.5 nm/s [3]. The use of silicon nanocrystals appears as an elegant way to circumvent the opposite requirements of a high deposition rate and a fully crystallized interface [4]. The optimized process conditions are transferred to large area substrates in an industrial environment, on which some process adjustment was required to reproduce the material properties achieved in the laboratory scale reactor. For optimized process conditions, the homogeneity of the optical and electronic properties of the ${\mu}c$-Si:H films deposited on $300{\times}400\;mm$ substrates was checked by a set of complementary techniques. Spectroscopic ellipsometry, Raman spectroscopy, dark conductivity, time resolved microwave conductivity and hydrogen evolution measurements allowed demonstrating an excellent homogeneity in the structure and transport properties of the films. On the basis of these results, optimized process conditions were applied to TFTs, for which both bottom gate and top gate structures were studied aiming to achieve characteristics suitable for driving AMOLED displays. Results on the homogeneity of the TFT characteristics over the large area substrates and stability will be presented, as well as their application as a backplane for an AMOLED display.

• 원예과학기술지
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• 제35권2호
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• pp.210-219
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• 2017

본 연구는 Alternaria brassicicola에 의해 발생하는 무 검은무늬병에 대한 효율적인 저항성 검정법을 확립하기 위하여 수행되었다. A. brassicicola 7균주의 포자 형성량과 병원성을 검정하였다. 실험한 균주 중, A. brassicicola KACC 40036과 43923 균주는 V-8 juice agar 배지에서 가장 많은 포자를 생산하였다. 그리고 실험한 균주 모두는 무 유묘에 대하여 강한 병원력을 나타냈다. 시판 중인 무 61개 품종의 A. brassicicola KACC 40036 균주에 대한 저항성 스크리닝을 수행하였다. 실험한 품종 중 높은 저항성을 보이는 품종은 없었으나 '금봉'과 '새롬'같이 약한 저항성을 나타내는 품종이 발견되었다. 이들 결과로부터 추후 실험을 위해 저항성 반응에 차이를 보이는 4개 품종을 선발하였다. 이들 4개 품종의 접종하는 무의 생육 시기, 접종원 농도 그리고 접종 후의 재배 온도에 따른 검은무늬병 발생을 조사하였다. 실험한 모든 품종은 어린 유묘일수록 검은무늬병에 대한 감수성이 증가하였으며, 더 많은 A. brassicicola 포자를 접종할수록 검은무늬병이 더 많이 발생하였다. 그리고 접종한 유묘를 $25^{\circ}C$의 습실상에서 배양하였을 때에는 $20^{\circ}C$ 나 $30^{\circ}C$에서 배양하였을 때보다 검은무늬병 발생이 증가하였다. 이들 실험의 결과로부터 무 품종의 검은무늬병에 대한 저항성을 검정하기 위해서는 무 종자를 파종하고 온실($25{\pm}5^{\circ}C$)에서 16일 동안 재배하고, 이 유묘에 A. brassicicola 균주의 포자현탁액($2.0{\times}10^5spores{\cdot}mL^{-1}$)을 분무하여 접종하고, 접종한 식물은 $25^{\circ}C$ 습실상에 24시간 동안 배양한 후에 $25^{\circ}C$, 상대습도 80%의 생육상에서 재배하고, 접종 2일 후에 병반면적율을 조사하는 것을 제안한다.

• 한국해양학회지:바다
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• 제4권1호
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• pp.33-39
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• 1999

부영양화된 한강기수역에서의 용존산소 및 $NH_4{^+}$ 제거에 있어 조석의 영향 및 질산화의 중요성을 이해하고자 1995년 7월에 강화도 남단에서 만조, 중조 및 소조 시에 해수시료를 채취하였다. 수온과 DO를 제외한 하계 한강기수역의 생물, 화학적 환경을 결정짓는 요인들이 담수의 유입과 수역 내의 심한 조석 변화에 의해 조절되는 것으로 나타났다. 조석상태에 따른 용존산소 및 $NH_4{^+}$ 의 제거율은 만조 시 각각 2.76 ${\mu}M\;O_2\;d^{-1}$ 및 1.76 ${\mu}M\;N\;d^{-1}$이며, 간조 시 각각 5.66 ${\mu}M\;O_2\;d^{-1}$ 및 3.36 ${\mu}M\;N\;d^{-1}$로 최대로 나타나 간조 시 담수와 함께 유입되는 다량의 각종 유기물 및 무기영양염에 대한 미생물의 분해 및 흡수가 활발히 진행되고 있음을 알 수 있다. $NH_4{^+}$-질산화는 간조 시 총 DO 소모량의 약 24%를 차지하며 $NH_4{^+}$-질산화에 의한 $NH_4{^+}$의 회전율도 0.18 $d^{-1}$로 만조 때에 비해 각각 3.7배 및 3배 높게 나타나, 담수성 $NH_4{^+}$-질산화 박테리아가 간조 시 한강기수역으로 유입되면서 DO 및 $NH_4{^+}$의 소모에 중요한 역할을 담당하고 있는 것으로 사료된다. 만조 시 $NH_4{^+}$ 감소율 및 $NH_4{^+}$-질산화가 낮은 것은 염분증가에 따른 담수성 $NH_4{^+}$-질산화 박테리아의 활성이 위축되어 나타난 결과로 보이며, 이상의 결과들은 한강기수역에서 $NH_4{^+}$의 효율적인 생물학적 제거를 위해서는 $NH_4{^+}$를 포함하는 각종 오 폐수가 기수역으로 유입되기 이전에 처리됨이 바람직함을 의미한다. 향후 한강기수역과 같은 대규모 담수의 유입이 일어나는 부영양화된 기수역에서 질소계 원소의 순환을 보다 잘 이해하기 위해서는 $NH_4{^+}$ 및 $N0_2{^-}$를 유일한 화학에너지원으로 이용하는 자가영양 질산화 박테리아에 대한 생태적 연구가 병행되어야 한다.

• Current Research on Agriculture and Life Sciences
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• 제5권
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• pp.119-126
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• 1987

사과나무 부란병균 병반상에서 검출된 비병원성 Valsa속 균의 비병원균 인자가 부란병균으로 전이되는지의 여부를 밝히기 위해서는 적당한 유전표식(遺傳標識)이 필요하므로 두 균종(菌種)에서 영양요구성 돌연변이주를 작출(作出)하기 위해 수행한 실험결과는 다음과 같이 요약된다. 본 균의 영양요구성 돌연변이주의 검출에 가장 적합한 합성배지로는 E. Parasitica의 연구에 사용되었던 최소배지 및 완전배지가 선발되었고 단집락형성용 배지로는 이 최소배지에 0.5%의 L-sorbose를 첨가한 것이 가장 좋았다. 단집락형성용 배지상에서 포자가 발아하기까지는 약 96시간이 소요되는 것으로 밝혀져 자외선 조사후 완전배지를 중층(重層), putative auxotrophs를 선발하기 위해서는 적어도 96시간 이상 야생형(野生型)을 지속적으로 제거해야 될 것으로 나타났다. 병포자 발아과정의 핵의 행동을 추적해 본 결과, 1차 핵분열이 일어나는데 소요되는 시간은 약 60시간으로 자외선 처리 후 photoreactivation에 의한 reversion을 최소화하기 위해서는 조사(照射) 후(後) 60시간(時間) 이상 암상태(暗狀態)에 보존해야 하는 것으로 나타났다. 적절한 자외선 조사방법(照射方法)을 선정하기 위하여 병포자현탁액에 조사(照射)하는 방법과 단집락형성용 배지에 포자를 도말하고 그 위에 자외선을 조사(照射)하는 방법(方法)을 비교 검정해 보았다. 병포자현탁액에 자외선을 조사(照射)한 방법에서는 130초에서 포자의 발아능력이 완전히 상실되었고 생존율이 0.1%에서 7%의 범위인 80초~120초 사이에서 putative auxotrophs를 선발할 수 있었다. 한편, 단집락형성용 배지상에 도말된 병표자에 자외선을 조사(照射)한 방법에서는 90초의 조사(照射)에서 포자의 발아능력이 완전히 상실되었고 50초 정도의 조사(照射)에서 가장 많은 수의 putative auxotrophs를 선발할 수 있었으며, 조사(照射)시간에 따른 포자생존율에 있어서 균주간에 큰 변이가 없는 후자의 방법이 우수한 것으로 나타났다. 본 실험에서 선발한 161개의 putative auxotrophs 중 10개의 영양요구성이 확인이 되었는데 nucleic acid base 요구성 4균주, amino acid 요구성 4균주 vitamine 요구성 2균주가 얻어졌다. 이들 영양요구성 돌연변이주의 병원성을 조사한 결과, 병원성이 상실된 것이 5균주, 약병원성 3균주, 여전히 강한 병원성을 유지하고 있는 것이 2균주로 나타났는데 약병원성 또는 강병원성을 나타낸 5균주중 nicotine 요구성인 AM513만 병반상에서 포자가 내장된 병자각을 형성하였고 여타의 균주는 포자형성능(胞子形成能)이 상실되었다.

• 한국잠사곤충학회지
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• 제18권2호
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• pp.65-78
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• 1976

본 시험은 뽕나무애바구미의 외부형태, 생활사 및 약제방제법을 구명하기 위하여 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다. 1. 성충은 칠흑색, 장정원형이고 주둥이는 길다. 암컷의 체장은 3.30$\pm$0.04mm, 폭 1.47$\pm$0.04mm, 주둥이 길이는 1.25$\pm$0.014mm이고 숫컷의 체장은 3.28% 0.06mm, 체폭 1.40$\pm$0.04mm, 주둥이 길이는 1.30$\pm$0.02mm이었다. 더듬이는 12절의 슬상이다. 숫컷의 복부는 끝이 뽀족하게 튀어 나왔고 암컷은 거의 일직선이다. 2. 난은 유백색의 장타원형이고 길이 0.51$\pm$0.05mm, 폭 0.32$\pm$0.02mm이었다. 3. 유충은 유백색, 원통형이며 두부는 농갈색이다. 다리는 없고 체장 3.88$\pm$0.06mm, 체폭 1.40$\pm$0.02mm이고 각절에는 많은 주름과 잔털이 있다. 4. 용은 장타원형 유백색이며 나용이다. 체장은 3.53$\pm$0.09mm. 체폭 1.40$\pm$0.03mm이었다. 5. 대부분 1년1세대이고 벌채후 남는 가지속에서 성충으로 월동하며 이듬해 4월하순에서 5월초순에 탈출한다. 그러나 일부 암컷은 당년에 탈출산난하며 유충(0.4%)이나 용(0.1%)으로 월동한다. 6. 난은 대부분 벌채후 남은 가지의 전피층에 산난하고 암컷의 평균 산난수는 73.44$\pm$8.74개이고 평균 산난일수는 33.88$\pm$6.04일이었다. 난기간은 11.69$\pm$0.39일, 유충기간은 45.04$\pm$1.63일, 용기간은 11.05$\pm$0.49일이었다. 성충의 잠복기는 약 270일이고 활동기간은 46.7$\pm$5.9일이었다. 7. 유충은 가지의 형성층을 먹고 성충은 동아, 잠복아, 엽병, 신초의 기부를 가해한다. 8. 성충의 발생소장은 춘벌유전에서는 5월초순에, 하벌유전에서는 6일 중순에 두면 peak를 나타냈다. 9. 유충밀도와 가지의 지름과 길이와는 정(＋)의 상관을 이루었다. 10. 뽕나무애바구미의 가지당 성충의 분포는 부(－)의 이항분포를 이루였다. 11. 조사된 천적은 유충외부에 기생하는 좀벌이 발견되었고 이 좀벌의 기생률은 11.9%이었다. 12. Phosvel분제, Halir분제, Salithion유제, DDVP유제, Cidial 유제의 성충에 대한 방제효과가 우수하였고 핵충에 대해서는 Satchukoto-S유제, Salithion유제가 비교적 우수한 편이였다.