Ternary Ti-X-N coatings, where X = Al, Si, Cr, O, etc., have been widely used for machining tools and cutting tools such as inserts, end-mills, and etc. Ti-Al-N-O coatings were deposited onto silicon wafer and WC-Co substrates by a cathodic arc evaporation (CAE) technique at various negative substrate bias voltages. In this study, the influence of substrate bias voltages during deposition on the microstructure and mechanical properties of Ti-Al-N-O coatings were systematically investigated to optimize the CAE deposition condition. Based on results from various analyses, the Ti-Al-N-O coatings prepared at substrate bias voltage of -80 V in the process exhibited excellent mechanical properties with a higher compressive residual stress. The Ti-Al-N-O (-80 V) coating exhibited the highest hardness around 30 GPa and elastic modulus around 303 GPa. The improvement of mechanical properties with optimized bias voltage of -80 V can be explained with the diminution of macroparticles, film densification and residual stress induced by ion bombardment effect. However, the increasing bias voltage above -80 V caused reduction in film deposition rate in the Ti-Al-N-O coatings due to re-sputtering and ion bombardment phenomenon.
Nitride films such as TiN, CrN etc. deposited on glass by PVD processes have been developed for many industrial applications. These nitride films deposited on glass were widely used for not only decorative and optical coatings but also wear and corrosion resistance coatings employed as dies and molds made of glass for the example of lens forming molds. However, the major problem of nitride coatings on glass by PVD process is non-uniform film owing to pin-hole and micro crack. It is estimated that nonuniform coating is influenced by a different surface energy between metal nitrides and glass due to binding states. In this work, therefore, for the evaluation of nucleation and growth mechanism of nitride films on glass TiN and CrN film were synthesized on glass with various nitrogen partial pressure by unbalanced magnetron sputtering. Prior to deposition, for the examination of relationship between surface energy and film microstructure plasma pre-treatment process was carried out with various argon to hydrogen flow rate and substrate bias voltage, duty cycle and frequency by using pulsed DC power supply. Surface energy owing to the different plasma pre-treatment was calculated by the measurement of wetting angle and surface conditions of glass were investigated by X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS) and Atomic Force Microscope(AFM). The microstructure change of nitride films on glass with increase of film thickness were analyzed by X-Ray Diffraction(XRD) and Scanning Electron Microscopy(SEM).
Superhydrophobic surfaces on alloyed steels were fabricated with a non-conventional method of plasma etching and subsequent water immersion procedure. High aspect ratio nanopatterns of nanoflake or nano-needle were created on the steels with various Cr content in its composition. With CF4 plasma treatment in radio-frequence chemical vapor deposition (r.-f. CVD) method, steel surfaces were etched and fluorinated by CF4 plasma, which induced the nanopattern evolution through the water immersion process. It was found that fluorine ion played a role as a catalyst to form nanopatterns in water elucidated with XPS and TEM analysis. The hierarchical patterns in micro- and nano scale leads to superhydrophobic properties on the surfaces by deposition of a hydrophobic coating with a-C:H:Si:O film deposited with a gas precursor of hexamethlydisiloxane (HMDSO) with its lower surface energy of 24.2 mN/m, similar to that of curticular wax covering lotus surfaces. Since this method is based on plasma dry etching & coating, precise patterning of surface texturing would be potential on steel or metal surfaces. Patterned hydrophobic steel surfaces were demonstrated by mimicking the Robinia pseudoacacia or acacia leaf, on which water was collected from the humid air using a patterned hydrophobicity on the steels. It is expected that this facile, non-toxic and fast technique would accelerate the large-scale production of superhydrophobic engineering materials with industrial applications.
We investigated how hydroxyapatite (HA) coating onto a porous super stainless steel (S.S.S, 22Cr-20Ni-6Mo-0.25N) affects bone ingrowth in a dog transcortical femoral model. Implants were histologically evaluated after 4 and 48 weeks of implantation, and the bone bonding strength at the bone/implant interface was examined by employing the pull-out test. The direct osseous tissue bonding onto the HA-coated S.S.S was observed, but the uncoated stainless steels had thin fibrous tissue layers. The mean interface strength of the HA-coated S.S.S was 1.5 and 2.5 times greater than those of the S.S.S and the 316L SS after one year of implantation, respectively. In preliminary studies, no toxic responce was observed from a cytotoxicity test of the S.S.S, having similar corrosion resistance to titanium. Our results suggest that early osteoconductive nature of HA coating may induce long term osteointegration for a bioinert substrate.
In order to fabricate adhesiveless 2-layer flexible copper clad laminate (FCCL) used for COF (chip on film) with high peel strength, polyimide (PI; Kapton-EN, $38\;{\mu}m$) surface was modified by reactive $O_2^+$ and $N_2O^+$ ion beam irradiation. 300 mm-long linear electron-Hall drift ion source was used for ion irradiation with ion current density (J) higher than $0.5\;mA/cm^2$ and energy lower than 200 eV. By vacuum web coating process, PI surface was modified by linear ion source and then 10-20 nm thick Ni-Cr and 200 nm thick Cu film were in-situ sputtered as a tie layer and seed layer, respectively. Above this sputtered layer, another $8-9{\mu}m$ thick Cu layer was grown by electroplating and subsequently acid and base resistance and thermal stability were tested for examining the change of peel strength. Peel strength for the FCCLs treated by both $O_2^+$ and $N_2O^+$ ion irradiation showed similar magnitudes and increased as the thickness of tie layer increased. FCCL with Cu (200 nm)/Ni-Cr (20 nm)/PI structure irradiated with $N_2O^+$ at $1{\times}10^{16}/cm^2$ ion fluence was proved to have a strong peel strength of 0.73 kgf/cm for as-received and 0.34 kgf/cm after thermal test.
Choi, Young-Jin;Woo, In-Keun;Lim, Byung-Cheon;Jang, Jin
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2000년도 제1회 학술대회 논문집
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pp.15-16
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2000
The gate bias stress effect of the hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin-film transistors (TFTs) with a $SiN_x/BCB$ gate insulator have been studied. The gate planarization was carried out by spin-coating of BCB (benzocyclobutene) on Cr gates. The BCB exhibits charge trappings during a high gate bias, but the stability of the TFT is the same as conventional one when it is between -25 V and +25 V. The charge trap density in the BCB increases with its thickness.
An enzyme-linked immunosorbent assay(ELISA) was developed for the detection of residual gentamicin(GM) in edible animal products. The immunogen(GM-KLH conjugate) and coating antigen(GM-BSA conjugate) were prepared by coupling GM sulfate to keyhole limpet hemocyanin(KLH) and bovine serum albumin(BSA) in the presence of 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride, respectively. Polyclonal antibody to GM was produced in rabbits(New Zealand White, female) by using the immunogen and the antibody titer was measured by indirect ELISA. A competitive ELISA was developed using GM-bovine serum albumin conjugate as a coating antigen, GM(as standards or sample), polyclonal antibody to GM, secondary antibody conjugated with horseradish peroxidase as an enzyme, and H2O2 and o-phenylenediamine dihydrochloride as a substrate and a chromophore, respectively. The detection limit of GM was 10 ng/ml and the standard curve of GM(n=26) was linear up to 10 $\mu\textrm{g}$/ml in this competitive ELISA system. There were no cross-reactivities of the partially purified antibody between GM and the various antibiotice such as amikacin, benzyl-penicillin, chloramphenicol, erythromycin, furazlidone, kanamycin, neomycin, oleandomycin, streptomycin, sulfathiazole and thiamphenicol(CR50<0.05%)
금속, 플라스틱, 유리 등의 재료 표면에 다양한 색상을 표현하기 위해 일반적으로 습식 도금을 많이 적용하고 있다. 하지만 습식 도금은 공정 수가 많을 뿐만 아니라 위험물질 및 오염물질을 많이 사용하기 때문에 산업사고, 환경오염 등을 야기 시킨다. 따라서 본 연구에서는 친환경적 방법인 물리적기상증착(PVD ; Physical Vapor Deposition) 방식의 한 종류인 스퍼터링(Sputtering)으로 색상을 구현하였다. PVD 방식의 증착은 습식 도금 방식에 비해 친환경적이며, 전처리에서 후처리까지 한 공정으로 가능하다는 점이다. 스퍼터링은 PVD의 다른 방식인 E-beam 방식에 비해 대량생산을 할 수 있다는 장점이 있다. 양산형 스퍼터링 장비(${\Phi}1200mm{\times}H1400mm$)로 실험을 진행하였으며, 증착 물질은 Ti, Al, Cr 을 사용하였고, 반응성 가스(Reactive Gas) 로는 N2, C2H2 가스를 사용하였다. 전처리는 LIS (Linear Ion Source)로 식각(Etching) 하였고, 펄스직류전원공급장치(Pulsed DC Power Supply)를 사용하여 증착 하였으며, 증착시 기판에 bias (-100 V)를 인가 하였다. 그 결과 회색계열, 갈색계열 등 여러가지 색을 구현할 수 있었으며, 증착된 박막의 특성을 알아보기 위하여 색차계, 내마모 시험기, 연필경도 시험기를 사용하였다. 향후 후처리 공정으로 내지문(AF ; anti fingerprint coating) 박막 등과 같은 실용적인 박막을 증착할 계획이다.
Electroplating of Ag and Au on the functional area of lead frames are required for good bonding ability in IC packaging. As the patterns of the lead frame become finer, development of new deposition technology has been required for solving problems associated with process control for uniform thickness on selected area. Sputtering was employed to investigate the adhesion between substrate Alloy42 and Ag film as a new candidate process alternative to conventional electroplating. Coating thickness of Ag film was controlled to 3.5$\mu\textrm{m}$ at room temperature as a reference. The deposition of film was optimized to ensure the adhesion by process parameters of substrate heating temperature at $100~300^{\circ}C$, sputter etching time at -300V for 10~30min, bias voltage of -100~-500V, and existence of Cr interlayer film of $500\AA$. The critical $load L_{c}$ /, defined as the minimum load at which initial damage occurs, was the highest up to 29N at bias voltage of -500V by scratch test. AFM surface image and AES depth profile were investigated to analyze the interface. The effect of bias voltage in sputtering was to improve the surface roughness and remove the oxide on Alloy42.
본 연구에서는 고체산화물 연료전지의 공기극 집전체로 사용되고 있는 고가의 Ag 소재를 대체하고자 전도성 세라믹이 코팅된 mesh 형태의 Crofer 22 APU 집전체를 개발하였다. 고전자전도성의 $(La_{0.80}Sr_{0.20})_{0.98}MnO_3$ (LSM)을 습식 스프레이법으로 코팅하여 고온 산화 및 전기적 특성의 열화를 억제하고자 하였다. $800^{\circ}C$의 산화 실험 결과에 의하면 LSM이 코팅된 Crofer mesh의 면저항(area-specific resistance)은 mesh의 제작에 사용된 와이어 지름과 접촉 부위의 형상등 실제 접촉점의 수 및 면적을 좌우하는 mesh의 특성에 의해 좌우되었다. 또한 LSM 코팅 후 $H_2/N_2$ 분위기에서의 열처리를 통해 Crofer mesh와 LSM 코팅층 계면에서의 Cr 함유 산화물의 형성을 효과적으로 억제하여 전기적 특성의 열화를 억제할 수 있다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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