• 폴리머
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• 제24권4호
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• pp.564-570
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• 2000

욕조 생산시 발생하는 폐 FRP와 냉장고 등 가전품과 폐단열재로부터 발생하는 폐우레탄폼을 흡음 및 경량판재로 재활용하기 위하여 불포화 폴리에스테르 매트릭스 수지에 보강하여 복합재를 제조하였다. 또한 충진제의 함량의 변화가 복합재의 기계적 물성에 미치는 영향과 기지와 보강재간의 계면현상을 관찰하였다. 충진제의 함량이 70 wt%인 복합재의 인장강도는 82.34 MPa로 가장 우수하였으며, 인장탄성율은 보강재의 함량이 증가함에 따라 감소하였다. 또한 굴곡강도와 굴곡탄성율은 폐FRP의 함량이 70 wt%충진된 복합재가 가장 우수하였으며, 그 값은 각각 72.5, 958.4 MPa이었다. SEM 관찰 결과 70 wt% 충진된 충진제 매트릭스 수지의 계면에서 pull out 현상이 확인되지 않았으며 균열도 발생하지 않았고, 매트릭스 수지내에 충진된 폐 FRP/우레탄폼 충진제가 잘 분산되어 있음을 확인할 수 있었다.

• 한국분말재료학회지
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• 제21권5호
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• pp.355-359
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• 2014

Pt nanopowder-dispersed $SiO_2$ (SOP) films were prepared by RF co-sputtering method using Pt and $SiO_2$ targets in Ar atmosphere. The growth rate and Pt content in the film were controlled by means of manipulating the RF power of Pt target while that of $SiO_2$ was fixed. The roughness of the film was increased with increasing the power of Pt target, which was mainly due to the increment of the size and planar density of Pt nanopowder. It was revealed that SOP film formed at 10, 15, 20 W of Pt power contained 2.3, 2.7, and 3.0 nm of spherical Pt nanopowder, respectively. Electrical conductivity of SOP films was exponentially increased with increasing Pt power as one can expect. Interestingly, conductivity of SOP films from Hall effect measurement was greater than that from DC I-V measurement, which was explained by the significant increase of electron density.

• 대한기계학회논문집
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• 제16권5호
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• pp.943-951
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• 1992

본 연구에서는 삭막에 의한 표면후퇴 현상을 해석하기 위하여 Brogan이 제시 한 front node dropping기법을 적용하여 여러개의 상이한 재료로 구성된 조합 내열 부품에서 삭마와 숯이 동시에 발생하는 경우에 대한 내부 열반응 예측도 가능하게 하 였다. 이 수치기법은 해석하고자 하는 부분에 대한 격자생성(mesh generation)을 수 행하여 각 격자점의 좌표를 고정한 후, 삭마에 의하여 표면이 후퇴될 때 첫번째 격자 점은 두번째 격자점과 일치될 때 까지 존재하다가 제거되고, 두번째 격자점도 세번째 격자점과 일치될 때까지 존재하다가 제거된다. 이때 나머지 격자점의 위치는 항상 일정하게 고정되며 삭마가 정지될 때까지 이 과정이 계속된다. 또한 본 연구분야에 수치해석 기법으로 유한해석법(FAM:finte analytic method)을 국내외 최초로 적용하여 비선형성이 심한 것을 효과적으로 처리하므로써 안정한 해를 얻을 수 있었다. 유한 해석법은 1981년 Chen이 제안한 기법으로, 국소 격자계에 대하여 선형화된 지배 방정 식의 엄밀해를 구하여 전체 문제 영역에 확장하는 방법이다. 이 방법은 수치 계산식 의 유도과정이 매우 복잡하기는 하나, 그 결과가 정확하고 안정한 해를 얻을 수 있어 서 점차 적용 사례가 증가하고 있으며 본 문제의 수치 해석에 매우 적합한 기법으로 판단된다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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• pp.220-220
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• 2011

The Ne-Xe plasmas in dense plasma-focus device with coaxial electrodes were generated for extreme ultraviolet (EUV) lithography. The influence of gas mixture ratio, Ne-Xe (1, 10, 15, 20, 25, 30, 50%) mixture gas, on EUV emission measurement, EUV intensity and electron temperature in the coaxially focused plasma were investigated. An input voltage of 4.5 kV was applied to the capacitor bank of 1.53mF and the diode chamber was filled with Ne-Xe mixture gas at a prescribed pressure. The inner surface of the cylindrical cathode was lined by an acetal insulator. The anode was made of tin metal. The EUV emission signal of the wavelength in the range of 6~16 nm has been detected by a photo-detector (AXUV-100 Zr/C, IRD). The visible emission line was also detected by the composite-grating spectrometer of the working wavelength range of 200~1100 nm (HR 4000CG). The electron temperature is obtained by the optical emission spectroscopy (OES) and measured by the Boltzmann plot with the assumption of local thermodynamic equilibrium (LTE).