식각 용기 가열에 의한 라디칼 손실 제어가 고선택비 산화막 식각에 미치는 영향
(Effect of the Radical Loss Control by the Chamber Wall Heating on the Highly Selective $SiO_2$ etching)
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- 한국진공학회지
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- 제5권2호
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- pp.169-174
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- 1996