FHD(Flame Hydrolysis Deposition) 공정은 광통신에서 사용되는 수동형 집적광학소자를 제작하는 공정으로서, SiCl$_4$를 형성하는 방법이다. 이 FHD 공정은 화염 형성에 관여하는 장비의 조건에 따른 매우 다양한 공정인자에 의하여 박막의 조성이 결정되므로, 박막의 조성을 예측하는 것이 용이하지 않았다. 본 연구에서는 FHD 공정에서 첨가가스의 유량을 제어하여 박막의 조성 및 광학적 특성을 예측할 수 있는 공정 분석의 기초자료를 제공하기 위하여 FTIR과 ICP-AES를 이용하여 실리카 soot의 조성분석에 대한 연구를 수행하였다. FTIR 흡수스펙트럼을 통해 실리카 soot에 존재하는 Si-O, B-O, OH($H_2O$) 농도의 변화를 관찰할 수 있었으며, ICP-AES를 통해 B-O의 흡수스펙트럼의 변화를 B의 농도와 정량적으로 연관지을 수 있었다.
Diamond film was deposited on Si wafer substrate from a gas mixture of methane, hydrogen and oxygen by microwave plasma-assisted chemical vapor deposition. The effects of the pre-treatments of the substrate and of the oxygen addition on the diamond film synthesis are described. In order to obtain diamond film, the substrate was pre-treated with 3 kinds of methods. When the substrate was ultrasonically vibrated within the ethyl alcohol dispersed with 25${\mu}{\textrm}{m}$ diamond powder, the denset diamond film was deposited. Addition of oxygen in the gas mixture of methane and hydrogen improved the crystallinity of the deposited diamond film and also increased the deposition rate of the diamond film more than two times.
We have deposited hydrogen-free diamond-like carbon (DLC) films by pulsed laser deposition of graphite. Pulsed laser deposition (PLD) can be utilized to generate films with desired properties quite different from those of the starting material. Since DLC films grown by PLD using turbo pump are perpared without hydrogen, they have a higher density and a higher index of refraction than the hydrogenated DLC films. In this study, effects of the substrate temperature and laser energy density on the properties of DLC films were systematically investigated. The structure and properties of the films have been studied by scanning electron microscopy (SEM), Fourier Transform Infrared (FT-IR), X-ray diffraction (XRD), and Raman spectroscopy.
Changes of the properties of PECVD-SiN film with the variation of deposition process parameters were investigated and optimum process parameters were determined. The refractive index of the film increased with increasing substrate temperature and pressure, and decreasing rf-power, NH3/SiH4 gas ratio and total gas flow. BHF etch rate and deposition rate show a decreasing tendency with increasing refractive index. The step coverage of the film was not affected much by deposition rate and pressure, but improved apparently with increasing rf-power and NH3/SiH4 gas ratio. Also the optimum process parameters were determined by considering the characteristic properties as well as thickness uniformity of films. The refractive index of the film deposited under this condition was 2.06.
Alumina composite membranes were prepared by chemical vapor deposition and evaporation-oxidation process. For CVD process, deposition was carried out using aluminum-tri-isopropoxide at 35$0^{\circ}C$, 2 torr by heterogeneous reaction, and for evaporation-oxidation process, alumina composite membranes were prepared by evaporation of aluminum and dry oxidation at 80$0^{\circ}C$. As deposition time increases, water flux and N2 gas permeability of the composite membranes prepared by both processes were reduced. Applying gas permeation model, permeability and cracking possibility of top layer were evaluated.
일반 산업 및 원자력 관련 산업용 구조소재의 표면특성 향상을 위해 저압 화학기상 증착법에 의해 15~25cm 직경의 흑연기판 위에 고순도의 치밀한 SiC 증착층을 제조하였다. 미세구조와 두께가 균일한 증착층을 얻기 위하여 증착온도의 균일성, 반응가스 고갈효과, 가스 흐름 형태 등의 영향을 고려하였다. 이중에서 반응 용기내의 가스 흐름 형태가 증착층의 균일도에 가장 큰 영향을 주는 것으로 판단되었으며 가스 주입구의 위치와 크기를 조정함으로써 25cm의 직경을 갖는 흑연 기판에 두께 편차가 $\pm$12% 이내인 SiC 증착막을 제조할 수 있었다.
This article reports on the conditions required for the growth of crystalline boron films on silicon substrates by hot filament chemical vapor deposition method. The reactive gas was 3% diborane diluted in hydrogen. The films were characterized by optical, electronic, and atomic force microscopies; x-ray diffraction; and energy dispersive, electron energy loss, Raman, x-ray photoelectron, and Auger spectroscopies. The parameters that affect the morphologies of the films have been investigated. It was concluded that faceted crystals are produced at low B2H6 flows and working pressures below 200 mT. α-boron is produced between 530 and 600℃. Deposition outside this range produces thin films with a wide variety of morphologies. This result indicates that the films crystallize through a process called "abnormal or discontinuous grain growth." It is assumed that this is due to the anisotropic surfaces of boron allotropes.
Proceedings of the Korean Powder Metallurgy Institute Conference
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2006.09a
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pp.287-288
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2006
Two approaches for the fabrication of tailored powder composites with specially distributed pore-grain structure and chemical composition are investigated. Electrophoretic Deposition (EPD) followed by microwave sintering is employed to obtain functionally graded materials (FGM) by in-situ controlling the deposition bath suspension composition. $Al_2O_3/ZrO_2$ and zeolite FGM are successfully synthesized using this technique. In order to fabricate an aligned porous structure, unidirectional freezing followed by freeze drying and sintering is employed. By controlling the temperature gradient during freezing of powder slurry, a unidirectional ice-ceramic structure is obtained. The frozen specimen is then subjected to freeze drying to sublimate the ice. The obtained capillary-porous ceramic specimen is consolidated by sintering. The sintering of the graded structure is modeled by the continuum theory of sintering.
In this study, the electrical conductivity of multi-walled carbon nanotubes (MWCNTs) and polyethylene synthesized by an extrusion process was evaluated. The MWCNTs used exhibited differences in their dispersion characteristics depending on the type of catalyst or synthesis gas used. Thus, the choice of catalyst or synthesis gas significantly affect the physicochemical state of the final MWCNTs and MWCNT-based composites. In this investigation, the characteristics of MWCNTs were analyzed in four cases by introducing ethylene and propylene gas to each catalyst synthesized using deposition precipitation and spray drying methods. The MWCNT-based composites synthesized using the catalyst prepared by deposition precipitation and the ethylene synthesis gas showed the best electrical conductivity. In principle, the morphologies of the MWCNTs indicate that the smaller the aggregate size and bundle thickness, the better the electrical conductivity of the MWCNT composites. This implies that the network is well-formed.
Oh, Seung-Keun;Kang, Sang Do;Kim, Youngman;Park, Soon Sub
Journal of Ceramic Processing Research
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v.17
no.7
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pp.763-767
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2016
The structural characterization of cubic boron nitride (c-BN) thin films was performed using a B4C target in a radio-frequency magnetron sputtering system. The deposition processing conditions, including the substrate bias voltage, substrate temperature, and base pressure were varied. Fourier-transform infrared spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy were used to analyze the crystal structures and chemical binding energy of the films. For the BN film deposited at room temperature, c-BN was formed in the substrate bias voltage range of -400 V to -600 V. Less c-BN fraction was observed as the deposition temperature increased, and more c-BN fraction was observed as the base pressure increased.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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